• 치위생과학회지
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• 제14권1호
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• pp.1-6
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• 2014

본 연구는 저온 상압 플라즈마 장치를 이용하여 구강점막질환을 일으키는 C. albicans 균을 효과적으로 사멸하기 위해 시행하였다. 조직에 적합하게 처리될 수 있도록 저온 상압 플라즈마 장치를 고안하고, 먼저 agar plate에 C. albicans 균을 처리하여 플라즈마를 조사한 결과 agar plate표면에 C. albicans 균을 처리 후 저온 상압 플라즈마 장치를 적용한 결과 60초 처리시 1.2 cm, 180초 처리시 1.4 cm, 300초 처리시 1.7 cm의 박테리아 생장 억제 구간이 나타나는 것을 확인하였다. 또한, 조직에서의 구강병원균 사멸 효과를 확인하기 위해 HRM-2 마우스 조직에 C. albicans 균을 처리하여 저온 상압 플라즈마를 조사 시 마우스 조직 표면에 C. albicans 균을 오염시켜 저온 상압 플라즈마 처리 후 CFU 방법으로 측정한 결과 300초간 1회 처리시 2 log CFU/ml, 300초간 2회 처리시 3 log CFU/ml, 300초간 3 회 처리시 6 log CFU/ml의 균 수 감소 효과가 나타나는 것을 확인하였다(p<0.05). 따라서, 저온의 저온 상압 플라즈마 장치는 효과적으로 구강 병원균을 사멸시킬 수 있으며, 구강점막질환 치료 장비로서 사용될 수 있을 것으로 생각된다.