Shape changes of hard mask play a key role in the aspect ratio dependent etch (ARDE). For etch process using high density and energy ions, deformation of hard mask shape becomes more severe, and high aspect ratio (HAR) etch profile is distorted. In this study, polygonal geometric model for shape-deformation of amorphous carbon layered hard mask is suggested to control etch profile during the process. Mask shape is modeled with polygonal geometry consisting of trapezoids and rectangles, and it provides dynamic information about angles of facets and etched width and height of remained mask shape, providing important features for real-time HAR etch profiling.
Co/$Al_O_3$/NiFe and CO/$Al_O_3$/Co tunnel junctions were fabricated by a radio frequency magnetron sputtering at room temperature with hard mask on glass and $4^{\circ}$ tilt cut Si (111) substrates. The barrier layer was formed through two steps. After the Al layer was deposited, it was oxidized in the chamber of a reactive ion etching system (RIE) with $O_2$plasma at various conditions. The dependence of the TMR value and junction resistance on the thickness of Al layer (before oxidation) and oxidation parameters were investigated. Magnetoresistance value of 7% at room temperature was obtained by optimizing the Al layer thickness and oxidation conditions. Circular shape junctions on $4^{\circ}$tilt cut Si (111) substrate showed 4% magnetoresistance. Photovoltaic energy conversion effect was observed with the cross-strip geometry junctions on Si substrate.
저자는 열성형재료와 진공성형기를 이용하여 소아치과 임상에서 사용되는 수 종의 장치를 제작하였다. 전공성형기의 구입에 따른 경제적인 부담은 있으나, 기존의 제작법에 비해 제작이 간편하여 시간이 단축될 뿐 아니라 plate 의 두께가 균일하므로 finishing이 거의 필요하지 않으며 더욱 심미적인 장치를 제작할 수 있다. 또한 조직과 접촉하는 부위는 soft한 열성형재료를 사용하여 치아 이동에 유리할 뿐 아니라, 기존의 resin에 비해 불쾌한 맛이 적다는 장점이 있다. Monomer가 없어 조직에 자극이 적고 mutagenous potential이 없으므로 생체 적합성이 뛰어나 조직의 적응이 용이하다. 복잡하거나 특수한 기능 및 견고성이 필요한 악기능교정 장치 등에서는 그 사용이 제한된다는 한계점이 있으나, 소아치과 임상에서 사용되는 대부분의 장치를 쉽고 간편하게 제작할 수 있어 앞으로 임상에서 널리 이용될 수 있을 것으로 생각된다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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