The preferred (200) orientation tetragonal phase of $HfO_2-Al_2O_3$ thin films by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition
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- 한국재료학회:학술대회논문집
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- 한국재료학회 2007년도 추계학술발표대회 및
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- pp.14.2-14.2
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- 2007