• 한국재료학회:학술대회논문집
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• 한국재료학회 2011년도 춘계학술발표대회
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• pp.3.1-3.1
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• 2011

Over the past decade, the major efforts for lowering the cost of electronics has been devoted to increasing the packaging efficiency of the integrated circuits (ICs), which is defined by the ratio of all devices on system-level board compared to the area of the board, and to working on a larger but cheaper substrates. Especially, in flexible electronics, the latter has been the favorable way along with using novel nanomaterials that have excellent mechanical flexibility and electrical properties as active channel materials and conductive films. Here, the tool for achieving large area patterning is by printing methods. Although diverse printing methods have been investigated to produce highly-aligned structures of the nanomaterials with desired patterns, many require laborious processes that need to be further optimized for practical applications, showing a clear limit to the design of the nanomaterial patterns in a large scale assembly. Here, we demonstrate the alignment of highly ordered and dense silicon (Si) NW arrays to anisotropically etched micro-engraved structures using a simple evaporation process. During evaporation, entropic attraction combined with the internal flow of the NW solution induced the alignment of NWs at the corners of pre-defined structures. The assembly characteristics of the NWs were highly dependent on the polarity of the NW solutions. After complete evaporation, the aligned NW arrays were subsequently transferred onto a flexible substrate with 95% selectivity using a direct gravure printing technique. As proof-of-concept, flexible back-gated NW field effect transistors (FETs) were fabricated. The fabricated FETs had an effective hole mobility of 0.17 $cm2/V{\cdot}s$ and an on/off ratio of ${\sim}1.4{\times}104$. These results demonstrate that our NW gravure printing technique is a simple and effective method that can be used to fabricate high-performance flexible electronics based on inorganic materials.

• 월간포장계
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• 통권114호
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• pp.56-62
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• 2002

• 대한기계학회논문집B
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• 제31권12호
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• pp.1017-1023
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• 2007

This study is intended to analyze the effect of thin ink-film thickness around rotating printing roll on the printing quality in the gravure printing process which is used for making electronics circuit like a RFID tag with a conductive ink. The present work numerically estimates the film thickness around rotating roller partially immersed in ink for which the volume of fluid (VOF) method was adopted to figure out the film formation process around rotating roller. Parameter studies were performed to compare the effect of ink properties (viscosity, surface tension), operating condition (roller rotating speed, initial immersed angle) on the film thickness. The result indicates that the film thickness has a strong dependency on the rotating speed, while the surface tension has negligible effect.

• 조명전기설비학회논문지
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• 제24권2호
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• pp.51-57
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• 2010

인쇄의 품질은 영상처리용 레지스터 마크 간의 오차에 의해 결정되므로 영상처리용 레지스터 마크의 형상이 중요하게 된다. 본 논문에서는 롤투롤(roll-to-roll) 인쇄에서 많이 사용하는 그라비어 방식의 인쇄에 영상처리를 이용하여 해상도가 높고, 속도가 빠른 유연 디스플레이 인쇄에 적용될 수 있는 마크를 개발한다. 본 연구에서는 70[mpm] 속도 범위에서 레지스터 마크의 형상을 명확히 인식할 수 있고, 전자 인쇄에서 요구되는 인쇄오차 10[${\mu}m$]이내가 가능한 레지스터 마크 형상을 개발하고, 실험을 통해 타당성을 확인하였다.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2013년도 춘계학술대회 논문집
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• pp.645-646
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• 2013

• 월간포장계
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• 통권214호
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• pp.113-137
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• 2011

한국포장기술인협의회는 지난 해 10월 22일 서울 팔래스호텔 로얄볼룸에서 제26회 한국포장기술인 세미나를 개최했다. 이날 세미나는 '라미네이트용 수성접착제 기술과 적용 방법 및 일본인쇄산업연합회의 Gravure인쇄 Service(연포장) Green 기준 가이드 라인'을 주제로 진행됐다. 본 원고는 세미나에서 김영호 한국포장기술인협의회 회장이 발제한 자료로, 지난 1월호에 이어 인쇄 Service Green 기준과 Green Printing 인정제도, Gravure 인쇄 Service(연포장) Green 기준 및 해설에 대해 살펴보도록 한다.

• 월간포장계
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• 통권213호
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• pp.104-132
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• 2011

한국포장기술인협의회는 지난 해 10월 22일 서울 팔래스호텔 로얄볼룸에서 제26회 한국포장기술인 세미나를 개최했다. 이날 세미나는 '라미네이트용 수성접착제 기술과 적용 방법 및 일본인쇄산업연합회의 Gravure인쇄 Service(연포장) Green 기준 가이드 라인'을 주제로 진행됐다. 본 원고는 세미나에서 김영호 한국포장기술인협의회 회장이 발제한 자료로, 인쇄 Service Green 기준과 Green Printing 인정제도, Gravure 인쇄 Service(연포장) Green 기준 및 해설에 대해 상세히 설명하고 있다.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2010년도 추계학술대회 논문집
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• pp.81-82
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• 2010

• Korean Chemical Engineering Research
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• 제53권1호
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• pp.111-115
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• 2015

그라비아 프린팅 공정에서 고해상도의 패턴을 인쇄하기 위해서는 잉크가 기판으로 전사되는 양을 높이는 것이 중요하다. 일반적으로 잉크와 기판의 친화도가 높을수록 더 많은 양의 잉크를 전사시킬 수 있다. 하지만, 실제 산업에서 쓰이는 점탄성 잉크와 다양한 기판의 친화도를 정확히 평가하는 방법은 아직 제시된 바 없다. 본 연구에서는 점탄성 잉크와 다양한 기판의 계면 친화도를 실용적으로 평가할 수 있는 방안을 제시하고자 한다.

• International Journal of Precision Engineering and Manufacturing
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• 제3권1호
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• pp.26-32
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• 2002

Laser direct patterning of the coated photoresist (PMER-NSG31B) layer was studied to make halftone dots on the gravure printing roll. The selective laser hardening of the photoresist by Ar-ion laser(wavelength: 333.6∼363.8 nm) was controlled by the A/O modulator. The coating thickness in the range of 5∼11㎛ could be obtained by using the up-down directional moving device along the vertically located roll. The width, thickness and hardness of the hardened lines farmed under the laser power of 200∼260mW and irradiation time of 4.4∼6.6 $\mu$ sec/point were investigated after developing. The hardened width increased as the coating thickness increased. Though the hardened thickness was changed due to the effect of the developing solution, the hardened layer showed good resistance to the scratching of 2H pencil. Also, the hardened minimum line width of 10㎛ could be obtained. The change of line width was also found after etching, and the minimum line widths of 6㎛ could be obtained. The hardened lines showed the good resistance to the etching solution. Finally, the experimental data could be applied to make gravure halftone dots using the developed imaging process, successfully.