Characteristics and Microstructure of Co/Ni Composite Silicides on Polysilicon Substrates with Annealing Temperature (폴리실리콘 기판 위에 형성된 코발트 니켈 복합실리사이드 박막의 열처리 온도에 따른 물성과 미세구조변화)
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- Korean Journal of Materials Research
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- v.16 no.9
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- pp.564-570
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- 2006