• 한국정보통신학회:학술대회논문집
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• 한국해양정보통신학회 2009년도 춘계학술대회
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• pp.703-708
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• 2009

본 논문에서는 ZnO와 $Ga_2O_3$ 분말을 1:1의 mole비로 혼합하고 여기에 Mn을 첨가하여 Ar이나 진공 분위기에서 $ZnGa_2O_4$ : Mn을 합성하였다. 제작된 $ZnGa_2O_4$ : Mn의 발광 스펙트럼, 표면 사진 및 성분비를 측정하여 산소의 성분 변화가 발광 특성에 미치는 영향을 규명하고자 하였다. 또한 저온의 Photoluminescence(PL) 스펙트럼으로부터 Mn의 site symmetry가 발광 스펙트럼에 미치는 영향을 설명하였다.

• 대한전자공학회:학술대회논문집
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• 대한전자공학회 1998년도 하계종합학술대회논문집
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• pp.409-412
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• 1998

BCl/sub 3/ 및 Cl/sub 2/ 반응가스를 사용하여 RIE 장치로 GaN의 건식식각을 연구하였다. RF 전력, 반응가스의 유량 및 반응가스의 혼합비 등의 변화에 따른 최적의 식각공정 조건 및 결합특성을 연구하였다. RF 전력에 따른 GaN의 식각율은 챔버압력 25mTorr, BCl/sub 3/ 유량 40 sccm의 조건에서 RF 전력이 100W일때 17nm/min을 얻었다. BCl/sub 3/의 유량에 따른 식각율은 RF 전력 100W 챔버압력 20mTorr, Cl/sub 2/ 유량 5sccm의 조건에서 BCl/sub 3/ 유량이 40 sccm일때 65nm/min을 얻었다. Cl/sub 2//BCl/sub 3/ 혼합가스 비율에 따른 식각율은 Cl/sub 2/ 유량을 5sccm으로 고정하고 BCl/sub 3/ 유량을 변화시켰을때 RF 전력 100W 및 챔버압력 20mTorr의 조건에서 혼합비가 0.25일때 50nm/min을 얻었다. RF 전력에 따른 PR의 식각율은 챔버압력 25mTorr, Cl/sub 2/ 유량 0 sccm 및 BCl/sub 3/ 유량 40 sccm의 조건에서 RF 전려이 100W일때 15nm/min을 얻었다. 또한, 챔버압력 20mTorr, Cl/sub 2/ 유량 5 sccm 및 BCl/sub 3/ 유량 20sccm의 조건에서 RF 전력이 100W 일때 82nm/min을 얻었다.

• 대한화학회지
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• 제46권2호
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• pp.164-168
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• 2002

$SrGa_2S_4$:Eu는 녹색을 발광하는 형광체로 전계 방출 디스플레이, 음극선 발광 분야에 널리 응용되고 있다. 일반적으로 $SrGa_2S_4$:Eu의 합성은 $SrCO_3$,$Ga_2O_3$, 그리고 $Eu_2O_3$를 $H_2S$ 와 Ar 가스를 흘려주면서 고온에서 소송하는 고상반응법으로 합성하였다. 본 연구에서는 SrS, Eu 착물, 그리고 Ga 착물의 분해 반응을 통해서 $SrGa_2S_4$:Eu 형광체를 합성하였다. 이 방법의 장점은 Ar 가스 뿐 만 아니라 독성의 $H_2S$를 사용하지 않는 것이다. $SrGa_2S_4$:Eu 형광체의 합성 조건과 발광 특성을 검토하였다.

• Journal of Magnetics
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• 제7권2호
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• pp.40-44
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• 2002

Crystallographic and magnetic properties of ;$LaFe_{1-x}Ga_xO_3$($\chi$= 0, 0.1, 0.3, 0.5, and 0.7) were studied using XRD and Mossbauer spectroscopy. The crystal structures were found to be orthorhombic and the lattice parameters $\alpha$, b, and c were found to decrease with increasing Ga substitution. M$\ddot{o}$ssbauer spectra were obtained at various absorber temperatures ranging from 20 K to 750 K. The M$\ddot{o}$ssbauer spectra were all sextets below $T_N$ and were all singlets above $T_N$. Asymmetric broadening of the M$\ddot{o}$ssbauer spectral lines at 20 K was explained by the multitude of possible environments for an iron nucleus. As the temperature increases to $T_N$, a systematic line broadening in M$\ddot{o}$ssbauer spectra was observed and interpreted to originate from different temperature dependencies of the magnetic hyperfine fields at various iron sites.

• 한국진공학회지
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• 제22권6호
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• pp.313-320
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• 2013

실리콘(Silicon, Si) 기판과 $Al_{0.3}Ga_{0.7}As$/GaAs 다중 양자 우물(multiple quantum wells, MQWs) 간의 격자 부정합 해소를 위해 $AlAs_xSb_{1-x}$ 층이 단계 성분 변화 완충층(step-graded buffer, SGB)으로 이용되었다. $AlAs_xSb_{1-x}$ 층 상에 형성된 GaAs 층의 RMS 표면 거칠기(root-mean-square surface roughness)는 $10{\times}10{\mu}m$ 원자 힘 현미경(atomic force microscope, AFM) 이미지 상에서 약 1.7 nm로 측정되었다. $AlAs_xSb_{1-x}$/Si 기판 상에 AlAs/GaAs 단주기 초격자(short period superlattice, SPS)를 이용한 $Al_{0.3}Ga_{0.7}As$/GaAs MQWs이 형성되었다. $Al_{0.3}Ga_{0.7}As$/GaAs MQW 구조는 약 10 켈빈(Kalvin, K)에서 813 nm 부근의 매우 약한 포토루미네선스(photoluminescence, PL) 피크를 보였고, $Al_{0.3}Ga_{0.7}As$/GaAs MQW 구조의 RMS 표면 거칠기는 약 42.9 nm로 측정되었다. 전자 투과 현미경(transmission electron microscope, TEM) 단면 이미지 상에서 AlAs/GaAs SPS 로부터 $Al_{0.3}Ga_{0.7}As$/GaAs MQWs까지 격자 결함들(defects)이 관찰되었고, 이는 격자 결함들이 $Al_{0.3}Ga_{0.7}As$/GaAs MQW 구조의 표면 거칠기와 광 특성에 영향을 주었음을 보여준다.

• 전기전자학회논문지
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• 제22권2호
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• pp.427-431
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• 2018

본 논문에서는 최근 전력반도체 산업에서 활용되어지는 와이드밴드갭 반도체 중에 하나인 $Ga_2O_3$를 이용한 에피웨이퍼 성장에 관련되어 서술하였다. GaN 성장시 활용되어지는 HVPE법을 이용하여 Sn이 도핑된 $Ga_2O_3$ 기판웨이퍼에 평균 $5.3{\mu}m$ 두께로 성장시켰다. 일반적으로 화합물반도체의 에피 두께가 $5{\mu}m$일 경우 SiC의 경우 600V 전력반도체소자를 제작할 수 있으며, $Ga_2O_3$ 에피웨이퍼의 경우에는 1000V이상의 전력소자를 제작할 수 있다. 성장된 에피웨이퍼의 J-V 측정 결과 $2.9-7.7m{\Omega}{\cdot}cm^2$의 온저항을 얻을 수 있었으며, 역방향의 경우 상당히 높은 전압에서도 누설전류가 거의 없음을 알 수 있었다.

• 현장농수산연구지
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• 제17권1호
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• pp.133-144
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• 2015

포도 '캠벨얼리'에서 적립의 노동력을 절감하기 위한 지베렐린(GA₃)의 처리 방법, 적정농도 및 처리시기를 구명하기 위하여 실시하였다. 지베렐린 처리에 의한 적립의 노동력은 만개 5일 전 40ppm, 만개기 10, 20, 40ppm에서 14.27~19.15 분/주 절약 할 수 있었다. GA3 40ppm 과방 침지는 탄립현상이 심하게 나타났으며 가용성고형물이 감소하여 실용화에는 문제가 있었다. GA3 처리에 의한 적립의 노동력 절감은 만개기 GA3 10 및 20ppm 과방 침지 처리에서 가장 좋았다.

• Journal of Electrical Engineering and Technology
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• 제10권4호
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• pp.1720-1725
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• 2015

The performance of the AlGaN/GaN MSM-2DEG varactor with different dielectric films deposited by the E-beam deposition is investigated in detail. The capacitance swing and the capacitance ratio of the varactor without dielectric film as well as with, SiO₂, Gd₂O₃, and Si₃N₄ films, respectively, are determined by electrodes of varying areas. The maximum capacitance, the minimum capacitance and the capacitance ratios are proportional to the increasing of the electrode areas. The capacitance ratio determined by the maximum and the minimum capacitance is found to be 18.35 (with Si₃N₄ dielectric film) and 149.51 (without dielectric film), respectively. The transition voltages of the fabricated varactors are almost the same for a bias voltage of about ±5 V and leakage current can be lower three orders of magnitude while the varactors with dielectric films. The tunability of the capacitance ratio makes the AlGaN/GaN MSM-2DEG varactor with a dielectric film highly useful in multirange applications of a surge free preamplier.

• 한국전기전자재료학회논문지
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• 제23권1호
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• pp.14-17
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• 2010

$ZnGa_2O_4$ powder were prepared by combustion method and $Mn^{2+}$ ions, a green luminescence activator, and $Cr^{3+}$ ions, a red luminescence activator were separately doped into $ZnGa_2O_4$. The characteristics of the synthesized nano powder were investigated by means of X-ray diffraction (XRD), Scanning Electron Microscope (SEM), and photoluminescence (PL). The various $ZnGa_2O_4$ peaks, with the (311) main peak, appeared at all sintering temperature XRD patterns. The PL specctrums of $ZnGa_2O_4$ powder showed main peak of 425 nm, and maximum intensity at the sintering temperature of $1200^{\circ}C$. SEM images shown that nano sized particles(about 200 nm) were of spherical shape. The characteristics of $ZnGa_2O_4$ containing 0.004 mol $Mn^{2+}$(505 nm, green) and $ZnGa_2O_4$ containg 0.002 mol $Cr^{3+}$ (696 nm, red) were shown to be the best.

• 마이크로전자및패키징학회지
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• 제26권4호
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• pp.113-118
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• 2019

In this study, we investigated the growth of single-crystallinity α-Ga₂O₃ thin films on c-plane sapphire substrates using halide vapor pressure epitaxy. We also found the optimal growth conditions to suppress the phase transition of α-Ga₂O₃. Our results confirmed that the growth temperature and partial pressure of the reactive gas greatly influenced the crystallinity. The optimal growth temperature range was about 460~510℃, and the α-Ga₂O₃ thin films with the highest crystallinity were obtained at a III/VI ratio of 4. The thickness and surface morphology of the thin films was observed by scanning electron microscopy. The film thickness was 6.938 ㎛, and the full width at half maximum of the ω-2θ scan rocking curve was as small as 178 arcsec. The optical band gap energy obtained was 5.21 eV, and the films were almost completely transparent in the near-ultraviolet and visible regions. The etch pit density was found to be as low as about 6.0 × 10⁴ cm^-2.