Nowadays, the bleaching techniques of thermomechanical pulp(TMP) are fast developing on the strength of some benefits, mainly on low production cost and good fiber property. In this study, the optimum concentration of bleaching chemicals and the environmental load of bleaching wastes were considered to improve the bleaching efficiency of thermomechanical pulp using Korean redpine(Pinus densiflora) under the peroxide-based bleaching system. The optical property of TMP after bleaching was planned to use higher grade of paper, like printing & writting paper, not general newspaper. The concentration of bleaching chemicals, NaOH, $Na_2SiO_3$ and EDTA, in hydrogen peroxide bleaching system, on the basis of O.D. pulp was closely influenced on the improvement of TMP brightness. Final target of bleaching efficiency was set up to above 76%-ISO brightness. The optimal target brightness of Korean redpine TMP was reached to 76.45%-ISO under the conditions of $H_2O_2$ 7% with NaOH 2.20%, $Na_2SiO_3$ 0.63% and EDTA 0.02%. The concentration of NaOH, $Na_2SiO_3$ and EDTA was correlated functional to the residual peroxide content of wastewater, pH value and electric conductivity of TMP fibers after bleaching treatment. The optimal bleaching conditions by controlling the addition amount of chemicals were positively contributed to the brightness stabilization and environmental load of TMP.
염화카리움 단결정중 수산화물을 제거하고 이를 극미량의 음이온 불순물을 가하여 결정내에 점결함을 형성시키는 전 처리를 하였다. 이들 시료를 빛이 차단된 상태에서 액체질소 온도에서 원자로에 조사하였고 조사된 시료를 자외선으로 쪼인다음 4가지 산화상태 즉 -2, 0, +4, +6가의 $^{35}$ 를 화학적으로 상호분리하여 방사능을 계측하였다. 음이온 불순물로 처리된 시료는 순수한 결정에 비하여 낮은 산화상태 (-2가)의 $^{35}$ S 더 많이 생성되었고, 음이온 불순물로 처리된 시료 및 순수한 결정 모두를 자외선으로 쪼였을 때 30분까지는 -2가의 $^{35}$ S가 급격히 증가함을 알았다.
In chlorine dioxide delignigication or bleaching, chlorate is mainly formed by the reaction between chlorite and hypochlorous acid, thus scavengers of chlorine or hypochlorous acid can be used to reduce the formation of chlorate which is unfavorable to environment. In this study, additives such as sulfamic acid, DMSO, hydrogen peroxide, or sodium chlorite was added to chlorine solution or pure $ClO_2$ solution to check their reactivity with $Cl_2$ and $ClO_2$. These additives were also added directly into general $ClO_2$ solution which contained certain amount of chlorine, then the additive-treated $ClO_2$ solution were used in bleaching stages. The aim of this procedure was to remove the original amount of chlorine that was thought to be possibly the main reason for the formation of chlorate and AOX. The additives were found to be able to eliminate chlorine very fast and selectively, but $H_2$$O_2$ should be used under pH4, otherwise it also reacts with $ClO_2$. After the additives reacted With $Cl_2$, DMSO turned into an inactive product $(CH_3)_2SO_2$, While Sulfamic acid turned into $HClSO_3H$ that still remained active in oxidation, and $NaClO_2$ produced $ClO_2$. The addition of $HNaClO_2$ showed significant improvement in delignification but the deeper delignification led to higher formation of chlorate. When the additive-treated chlorine dioxide solutions were used in bleaching, both sulfamic acid, DMSO, and hydrogen peroxide showed no significant changes of DE brightness and Kappa number. The formation of chlorate was reduced by addition of sulfamic acid, DMSO and hydrogen peroxide.
본 연구그룹에서는 투명 전도성 기판이 필요 없는 광감응형 전기변색 소자를 개발하였다. 이전의 연구에서 백금 촉매 적용에 의한 빠른 착색 및 탈색을 확인하였고, 저온소성형 WO3졸과 TiO2 졸을 적용하여 플렉시블 필름형 소자를 구현하였으나, 이러한 소자가 4~5 시간 동안 태양광에 노출될 경우 과착색 되어 암막상태에서도 탈색이 되지 않는 현상을 확인하였다. 본 연구에서는 이러한 과착색 현상을 해결하기 위하여 광감응형 전기변색 소자의 전해질에(4-Hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yl)oxyl (TEMPOL)을 첨가하였다. TEMPOL을 첨가제로 사용한 광감응형 전기변색 소자의 경우 4시간 이상 햇빛에 노출되어도 과착색이 되지 않고, 가역성이 크게 향상되는 것을 확인하였다. 다양한 농도의 TEMPOL을 적용하여 가시광 투과율 변화 및 착/탈색 속도를 비교하였고, 에너지 레벨 관점에서 가능한 TEMPOL의 과착색 방지 메커니즘을 제시하였다.
분 논문에서는 Lohmann 방법과 FFT (fast Fourier transform)를 사용하여 홀로그램을 제작하였다. 먼저 수학적으로 정의되는 물체의 $128{\times}128$로 표본화된 점들에 대한 복소 파면을 FFT 연산으로 구하였다. 그리고 Lohmann의 방법을 사용하여 각각의 표본점에 대한 복소 파면의 진폭과 위상을 홀로그램 정보로 바꾸었다. PC와 레이저 프린터를 용하여 홀로그램 도면을 그렸으며, 그 도면을 사진 축소하여 CGH(computer generated holograms) 필름을 제작하였다. 헬륨-네온 레이저와 역퓨리에 변환 광학계를 사용하여 수학적으로 정의되는 물체의 홀로그램 상을 재생하였다. $32{\times}32$, $64{\times}64$, $128{\times}128$의 표본수, random 위상의 적용 여부, 진폭 절단 및 CGH 필름의 표백 정도에 따라 변화하는 홀로그램 상의 특성을 조사하였다. 이 실험을 통하여 우수한 홀로그램 상을 재생할 수 있는 최적 조건과 홀로그램 상에서 스페클 잡음을 줄일 수 있는 최적 조건을 얻을 수 있었다. 2진 위상 홀로그램을 프로그램하기 위하여 Lohmann의 알고리즘을 MS Visual BASIC 6.0으로 구현하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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