• 제목/요약/키워드: Electrode configuration

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경상분지(慶尙盆地) 언양단층(彦陽斷層) 지역(地域)에 대(對)한 전기비저항(電氣比抵抗) 탐사연구(探査硏究) (Electrical Resistivity Survey in the Eon-Yang Fault Area, Southeastern Korean Peninsula)

  • 김인수;김종열
    • 자원환경지질
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    • 제16권1호
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    • pp.11-18
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    • 1983
  • Gyeongsang Basin in the southeastern part of the Korean peninsular is characterized by many fault systems. To decipher the geotectonical evolution of the Korean peninsular and marginal basins in her adjacent areas it is prerequisite to understand the spatial distribution pattern and mutual relationships of these fault systems. Because of difficulties in finding any criterion to recognize the faults in field, their extension and mutual relationships in ages are not very clear yet. As an attempt to find geophysical criteria to recognize the fault, geoelectrical resistivity survey was carried out in this study. With the Wenner configuration four resistivity soundings and twenty seven resistivity profilings were done. The electrode distance used was up to 50m. From the results of the resistivity soundings and boring data of earlier groundwater investigations the depth of alluvial and weathered zone was established to be at most 20m in the study area. In the resistivity profiling low resistivity anomaly zones are detected on every traverse, which are interpreted as caused by fractures, fault clays and mylonites in the fault zone. The width of the fault zone amounts to 0.3-1km. By correlating and connecting the negative anomaly zones from traverse to traverse one can determine the trend of th of the faultzone and therefore that of fault itself. The recognized fault trend in this way was $N15^{\circ}-20^{\circ}E$ and this coincides with the direction of the inferred fault line from earlier geological surface mapping. With the help of this characteristical negative anomaly the existance of another $N80^{\circ}W$ trending fault was estabished. This study has shown that geoelectrical resistivity survey can be applied successfully to the problem of tracing fault line insofar as a fault zone has been developed along fault line.

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직접 개미산 연료전지의 연구동향 (R & D Trends on Direct Formic Acid Fuel Cells)

  • 권용재;한종희;김진수
    • 공업화학
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    • 제19권6호
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    • pp.583-591
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    • 2008
  • 최근 휴대용 전자기기 수요의 급증에 따라 기존에 사용되던 2차 전지를 대체할 수 있는 친환경 고효율 연료전지 개발의 필요성이 증대되었다. 이러한 목적으로 개미산을 연료로 이용하는 직접 개미산 연료전지가 부각되고 있다. 식품첨가물로 사용될 정도의 안정성, 전해질을 통과하는 연료의 최소화된 crossover, 큰 기전력 발생에 의한 반응활성 최대화 등이 개미산이 가지고 있는 고유의 장점들이며, 이와 더불어 반응 촉매 및 전지 디자인을 최적화 하려는 노력에 의해 직접 개미산 연료전지의 성능 및 안정성이 향상되고 있다. 이러한 개발을 통해 현재까지 약 $300mW/cm^2$ 이상의 전력밀도를 나타내는 전지 개발이 이루어졌다. 본 총설에서는 개미산 연료전지의 기본 구동 원리와 전지 구조에 대한 소개 및 직접 개미산 연료전지 성능 향상에 영향을 미치는 인자들인 연료극 촉매 및 전해질 개발, 최적화된 전지 구조 디자인 등의 개발 현황 및 앞으로 나아갈 방향에 대해 논의하고자 한다.

평행평판형 전리함의 두 전극간의 거리에 따른 극성효과 연구 (A Study of Polarity Effect of Parallel Plate Type ionization Chamber with Different Volume)

  • 윤형근;신교철
    • 한국의학물리학회지:의학물리
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    • 제13권2호
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    • pp.69-73
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    • 2002
  • 본 연구는 제작된 평행평판형 검출기에서 두 전극간의 거리에 따른 극성효과의 정도를 확인하기 위하여 실행되었다. 개발된 전리함의 극성효과를 측정하기 위하여 평행평판형 전리함의 윗면과 아래 면의 전극에 극성을 바꾸어가며 방사선을 조사하고 그에 의하여 생성된 전하를 측정하여 두 양을 비교하였다. 실험은 두 전극간의 거리가 3, 6, 10 mm 일 때 각각의 명목상 체적이 0.9, 1.9, 3.1 cc인 평행평판형 전리함에 대하여 실행하였다. 조사된 방사선은 6, 10 MV 광자선과 4, 6, 9, 12, 16 MeV의 전자선이며, SSD는 100 cm 이었고, 조사면 크기는 광자선의 경우는 10$\times$10 ㎤ 이고 전자선의 경우는 10$\times$10 $\textrm{cm}^2$을 사용하였으며, 측정점은 최대선량점이고, 선량률은 240 MU/min 으로 하였다. 평행평판형 전리함의 극성의 변환은 평행평판형 전리함의 윗면 즉, 방사선이 입사되는 면의 전극이 (+)극을 갖고 아래 면이 (-)극을 갖는 positive와 방사선이 입사되는 면의 전극이 (-)극을 갖고 아래 면이 (+)극을 갖게 되는 negative 측정으로 시행하였다. 실험결과는 광자선의 경우는 0.5 % 이내의 극성효과를 나타냈고, 전자선의 경우는 1% 에서 3.5% 까지 나타났으며, 높은 에너지를 갖는 16 MeV 전자선의 경우가 다른 에너지의 전자선의 경우 보다 극성효과의 영향이 적음을 알 수 있다.

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층류 부상 화염의 화염부상 높이 감소 구간에서 교류 전기장이 인가된 화염에 관한 영향 (Effect of AC Electric Field on Decreasing Liftoff Height in Laminar Lifted Jet Flames)

  • 서보현;반규호;김경택;박정;길상인;김세원;정석호
    • 한국연소학회지
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    • 제22권3호
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    • pp.17-22
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    • 2017
  • An experimental study has been conducted to elucidate the effect of AC electric field on behaviors of laminar lifted flame in nitrogen-diluted methane coflow-jets. Our concerns are focued on the regime to show a decrease in liftoff height, $H_L$ with increasing nozzle exit velocity, $U_O$ (hereafter, $decreasing-H_L$). The $H_L$ with $U_O$ near flame extinction were measured by varying the applied AC voltage, $V_{AC}$ and frequency, $f_{AC}$ in a single electrode configuration. The behavior of $H_L$ with a functional dependency of $V_{AC}$ and $f_{AC}$ was categorized into two regime : (I) $H_L$ decreased for nozzle diameter, D = 1.0 mm, and (II) $H_L$ increased in the increase of $f_{AC}$ for a fixed $V_{AC}$ in a D = 4.0, 8.4 mm. The lifted flames in $decreasing-H_L$ region was unstable in high voltage regimes while the $H_L$ showed a decreasing tendency with $U_O$ except them. Such behaviors in $H_L$ were also characterized by functional dependencies of related physical parameters such as $V_{AC}$, $f_{AC}$, $U_O$, fuel mole fraction ($X_{F.O}$) and D.

가열장치를 구비한 부착형 탄소발열체 X선 촬영대 고안 (Design for Adhesive Carbon Heating Element X-ray Table with an Attached Heating Device)

  • 송종남;김응곤
    • 한국방사선학회논문지
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    • 제9권3호
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    • pp.131-137
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    • 2015
  • 본 연구의 목적은 기존에 사용 중인 X선 발생장치의 촬영대를 따뜻하게 가열하면서도 X선 감약이 적은 탄소나노튜브(carbon nano tube, CNT) 발열체를 사용하여 가열장치를 구비한 X선 발생장치용 부착형 촬영대의 고안 및 설계를 하고자 한다. 고안된 제품의 구성은 부착형 탄소발열체 촬영대로서 기존 X선 촬영대, 탄소나노튜브 면상발열체, 전극선, 난연 처방된 보호필름과 바닥필름으로 구성되어 있다. 본 고안 제품의 특징과 장점은 냉기(冷氣)를 느끼는 촬영대에서 환의를 착용하고 검사를 받는 환자에게 온화한 느낌과 안전감을 제공하고 심적인 불안감을 해소하여 검사에 도움을 줄 수 있기 때문에 임상 적용을 적극 권장하는 바이다.

Infinitely high selectivity etching of SnO2 binary mask in the new absorber material for EUVL using inductively coupled plasma

  • Lee, S.J.;Jung, C.Y.;Lee, N.E.
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2011년도 제40회 동계학술대회 초록집
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    • pp.285-285
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    • 2011
  • EUVL (Extreme Ultra Violet Lithography) is one of competitive lithographic technologies for sub-30nm fabrication of nano-scale Si devices that can possibly replace the conventional photolithography used to make today's microcircuits. Among the core EUVL technologies, mask fabrication is of considerable importance since the use of new reflective optics having a completely different configuration compared to those of conventional photolithography. Therefore new materials and new mask fabrication process are required for high performance EUVL mask fabrication. This study investigated the etching properties of SnO2 (Tin Oxide) as a new absorber material for EUVL binary mask. The EUVL mask structure used for etching is SnO2 (absorber layer) / Ru (capping / etch stop layer) / Mo-Si multilayer (reflective layer) / Si (substrate). Since the Ru etch stop layer should not be etched, infinitely high selectivity of SnO2 layer to Ru ESL is required. To obtain infinitely high etch selectivity and very low LER (line edge roughness) values, etch parameters of gas flow ratio, top electrode power, dc self - bias voltage (Vdc), and etch time were varied in inductively coupled Cl2/Ar plasmas. For certain process window, infinitely high etch selectivity of SnO2 to Ru ESL could be obtained by optimizing the process parameters. Etch characteristics were measured by on scanning electron microscopy (SEM) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) analyses. Detailed mechanisms for ultra-high etch selectivity will be discussed.

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Polymer 다섯자리 Schiff Base Co(Ⅱ), Ni(Ⅱ) 및 Cu(Ⅱ) 착물들의 합성과 전기화학적 성질 (Synthesis and Electrochemical Properties of Polymeric Pentadentate Schiff Base Co (Ⅱ), Ni (Ⅱ), and Cu (Ⅱ) Complexes)

  • 최용국;최주형;박종대;심우종
    • 대한화학회지
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    • 제38권2호
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    • pp.136-145
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    • 1994
  • Poly(4-vinylpyridine-co-styrene)[PVPS]리간드에 monomer착물인 M(Ⅱ)(SND) 및 M(Ⅱ)(SOPD)[M: Co(Ⅱ), Ni(Ⅱ) 및 Cu(Ⅱ)]들을 반응시켜 새로운 polymer다섯자리 Schiff base착물인 M(Ⅱ)(PVPS)(SND), M(Ⅱ)(PVPS)(SOPD)들을 합성하였다. 이들 착물들의 원소분석, IR-spectra, UV-visible spectra 및 T.G.A.측정결과에 의하여 Co(Ⅱ), Ni(Ⅱ) 및 Cu(Ⅱ) 착물들은 polymer 5배위 착물로 주어짐을 알았다. 또한 0.1M TEAP-DMF용액에서 순환 전압-전류법과 시차펄스 포라로그래피에 의한 이들의 전기화학적 성질은 Co(Ⅱ)(PVPS)(SND) 및 Co(Ⅱ)(PVPS)(SOPD)는 Co(Ⅲ)/Co(Ⅱ) 와 Co(Ⅱ)/Co(Ⅰ)의 두단계의 환원과정이 비가역적으로 일어나고, Ni(Ⅱ)(PVPS)(SND) 와 Ni(Ⅱ)(PVPS)(SOPD)는 Ni(Ⅱ)/Ni(Ⅰ)의 비가역적인 일단계 환원과정으로, 그리고 Cu(Ⅱ)(PVPS)(SND)와 Cu(Ⅱ)(PVPS)(SOPD)는 Cu(Ⅱ)/Cu(Ⅰ)의 비가역적인 일단계 환원과정으로 일어남을 알았다.

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평류안뜰자극이 자율신경성 반응에 미치는 영향 (The Effect of Galvanic Vestibular Stimulation on Autonomic Nervous System Response)

  • 문화영;강솔;김화성;허소영;손유리;이정우
    • 대한임상전기생리학회지
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    • 제8권2호
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    • pp.19-24
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    • 2010
  • Purpose : This study aims to examine the influences of galvanic vestibular stimulation on autonomic reaction of normal adults. Methods : Participants in this research totaled 28 (14 men and 14 women). Galvanic vestibular stimulation was conducted with a binaural electrode configuration for 60 sec. Galvanic vestibular stimulation measurements were conducted with the subjects in a prone position. Measured items included skin conductance, blood flow, pulse rate, and respiratory rate. Measurements were repeated for a total of five times, before application, during application, after application, 5 minutes after application and 10 minutes after application. Results : Skin conductance reaction showed statistically significant differences in changes depending on time after galvanic vestibular stimulation and there were statistically differences in changes of blood flow, pulse rate and respiratory rate after galvanic vestibular stimulation. Conclusion : Blood flow, pulse rate and respiratory rate of autonomic reactions were not influenced by galvanic vestibular stimulation, but skin conductance reaction was influenced by it and it was found that it was reduced during and after stimulation rather than before stimulation. Consequently, it was considered that galvanic vestibular stimulation affected the autonomic reaction.

Degradation of synthetic dye in water by solution plasma process

  • Panomsuwan, Gasidit;Morishita, Tetsunori;Kang, Jun;Rujiravanit, Ratana;Ueno, Tomonaga;Saito, Nagahiro
    • Journal of Advanced Marine Engineering and Technology
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    • 제40권10호
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    • pp.888-893
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    • 2016
  • In this study, the solution plasma process was utilized with the aim of degrading synthetic dyes in water at atmospheric pressure. The experiments were conducted in a batch-type reactor consisting of a symmetric wire-wire electrode configuration with rhodamine B (RhB) as the target synthetic dye. The effects of the plasma treatment time and initial dye concentration on the RhB degradation were investigated by monitoring the change in absorbance of RhB solutions. The RhB solutions turned lighter in color and finally colorless with prolonged plasma treatment time, indicating the destruction of dye molecules. The RhB solutions were found to have degraded, following the first-order kinetic process. However, for high initial RhB concentrations, another kinetic process or factor seems to play a dominant role at the initial degradation stage. The fitted first-order rate constant decreased as the initial concentration increased. This result suggests that the degradation behavior and kinetic process of the RhB solution strongly depends on its initial concentration. The RhB degradation is considered to be due to a combination of factors, including the formation of chemically oxidative species, as well as the emission of intense UV radiation and high-energy electrons from the plasma. We believe that the solution plasma process may prove to be an effective and environment-friendly method for the degradation or remediation of synthetic dye in wastewater.

2극법 전기비저항 탐사에 의한 지하수탐사 (A Pole-pole Electrical Survey for Groundwater)

  • 조동행;지상근
    • 지구물리와물리탐사
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    • 제3권3호
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    • pp.88-93
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    • 2000
  • 화강암이 분포하는 경기도 여주군 대신면 상구리 양지말 지역에서, 측선길이 400m에 걸친 2극법 전기비저항 탐사를 실시하여 약 l00m 심도까지의 지질구분 즉 신선한 암석, 연약지반, 대수층 등을 탐지할 수 있었다. 이어서 실시한 슬럼버저 수직탐사도 이를 뒷받침하는 결과를 보여주었다. 또한 물리탐사 종료 직후 실시한 시추에 의하여 암반 대수층의 존재를 60m 심도에서 확인하였다. 이 심도는 전기비저항 구조단면도에 나타난 것과 대체로 일치한다. 시추로서 추가 확인된 l00m 심도의 작은 대수층은 상기한 비저항 단면도에는 보이지 않는다. 간단한 수치모델링을 실시하여 다른 전극배열법으로는 상기한 제 2의 대수층을 확인할 수 있는가를 검토하였으나 웨너, 슐럼버저, 쌍극자, 단극-쌍극자 어떤 방법으로도 이 대수층을 탐지할 수 없다는 것을 알았다.

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