• 제목/요약/키워드: EWMA controller

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편차제곱평균과 수정량분산의 균형을 위한 단일 및 이중 지수가중이동평균 피드백 수정기의 수정 (Modifications of single and double EWMA feedback controllers for balancing the mean squared deviation and the adjustment variance)

  • 박창순;권성구
    • Journal of the Korean Data and Information Science Society
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    • 제20권1호
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    • pp.11-24
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    • 2009
  • 수정절차에서 공정수정기는 잡음이 존재하지만 제거할 수 없을 때 공정수준을 목표치에 가깝게 수정하는데 종종 유용하게 사용된다. 강건 수정기의 예로는 단일 및 이중 지수가중이동평균 수정기가 있다. 이중 지수가중이동평균 수정기는 단일 지수가중이동평균 수정기가 제거할 수 없는 공정편차의 치우침을 줄일 수 있도록 고안되었다. 이 논문에서는 이 두 가지 수정기가 적용될 때 과도하게 커질 수 있는 수정량분산을 줄일 수 있도록 원래의 수정기에 지수가중이동평균을 적용함으로써 수정되었다. 주어지 수정기에 대한 지수가중이동평균 수정은 편차제곱평균은 조금 증가시키지만, 수정량분산을 줄이는데 성공적임을 보이고 있다.

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동적 모수를 사용한 EWMA 제어의 시뮬레이션 연구 (A Simulation study of EWMA control using dynamic control parameter)

  • 강석찬;황지빈;김성식;김지현
    • 한국시뮬레이션학회논문지
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    • 제16권2호
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    • pp.37-44
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    • 2007
  • EWMA(지수가중평균)을 사용한 제어 방법은 반도체 제조 공정의 런투런 제어 환경에서 사용되는 대표적인 제어 방법이다. EWMA 제어에서는 제어 모수 값의 선택이 제어 결과에 주된 영향을 미치기 때문에, 공정 상황에 적합한 제어 모수 값을 사용하는 것이 중요하다. 불안정적인 공정 상황에서는 변화하는 공정 상황에 적합한 값으로 EWMA 제어 모수를 동적으로 변경하면서 제어해 주는 것이 고정된 모수 값을 사용하는 EWMA 제어에 비해 효율적이다. 본 연구에서는 동적인 EWMA 제어 모수를 사용한 기존 연구들을 살펴보고 이들의 단점을 보완한 새로운 알고리즘을 제시하며, 시뮬레이션을 통해 우수한 수행 결과를 확인하였다.

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Recursive Least Squares Run-to-Run Control with Time-Varying Metrology Delays

  • Fan, Shu-Kai;Chang, Yuan-Jung
    • Industrial Engineering and Management Systems
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    • 제9권3호
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    • pp.262-274
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    • 2010
  • This article investigates how to adaptively predict the time-varying metrology delay that could realistically occur in the semiconductor manufacturing practice. Metrology delays pose a great challenge for the existing run-to-run (R2R) controllers, driving the process output significantly away from target if not adequately predicted. First, the expected asymptotic double exponentially weighted moving average (DEWMA) control output, by using the EWMA and recursive least squares (RLS) prediction methods, is derived. It has been found that the relationships between the expected control output and target in both estimation methods are parallel, and six cases are addressed. Within the context of time-varying metrology delay, this paper presents a modified recursive least squares-linear trend (RLS-LT) controller, in combination with runs test. Simulated single input-single output (SISO) R2R processes subject to various time-varying metrology delay scenarios are used as a testbed to evaluate the proposed algorithms. The simulation results indicate that the modified RLS-LT controller can yield the process output more accurately on target with smaller mean squared error (MSE) than the original RLSLT controller that only deals with constant metrology delays.

다변량 공정관리 기술과 추세알고리즘의 연계에 관한 조사연구 (A Study on the Relation between Multivariate Process Control Techniques and Trend Algorithm)

  • 정해운
    • 대한안전경영과학회지
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    • 제13권4호
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    • pp.225-235
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    • 2011
  • Autoregressed Controller, which have trend algorithm, seeks to minimize variability by transferring the output variable to the related process input variable, while multivariate process control techniques seek to reduce variability by detecting and eliminating assignable causes of variation. In the case of process control, a very reasonable objective is to try to minimize the variance of the output deviations from the target or set point. We also investigate algorithm with relevant Shewhart chart, Theoretical control charts, precontrol and process capability. To help the people who want to make the theoretical system, we compare the main techniques in "a study on the relation between multivariate process control techniques and trend algorithms".

Run to Run 제어 기법을 이용한 자기연마 공정 관리 (Optimization of Magnetic Abrasive Polishing Process using Run to Run Control)

  • 안병운;박성준
    • 한국공작기계학회논문집
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    • 제18권1호
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    • pp.22-28
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    • 2009
  • In order to optimize the polishing process, Run to Run control scheme has been applied to the micro mold polishing in this study. Also, to fully understand the effect of parameters on the surface roughness a design of experiment is performed. By linear approximation of main factors such as gap and rotational speed of micro quill, EWMA (Exponential Weighted Moving Average) gradual mode controller is adopted as a optimizing tool. Consequently, the process converged quickly at a target value of surface roughness Ra 10nm and Rmax 50nm, and was hardly affected by unwanted process noises like initial surface quality and wear of magnetic abrasives.

자기회귀이동평균(1,1) 잡음모형에서 이상원인 탐지 및 재수정 절차 (Procedure for monitoring special causes and readjustment in ARMA(1,1) noise model)

  • 이재헌;김미정
    • Journal of the Korean Data and Information Science Society
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    • 제21권5호
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    • pp.841-852
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    • 2010
  • 통합공정관리는 공정의 변동을 줄이기 위하여 공학적 공정관리와 통계적 공정관리를 병행하는 절차이다. 통합공정관리의 기본적인 절차는 잡음과 이상원인이 공존하는 공정에 대하여 매시점마다 수정절차를 통하여 공정편차를 백색잡음으로 전환하며, 수정된 공정을 관리도를 이용하여 이상원인의 발생 여부를 탐지하게 된다. 이때 공정은 이상원인 발생 전에는 백색잡음이 되지만, 이상원인 발생 후에는 이상원인과 수정절차의 효과가 혼합되어 다양한 형태의 시계열 모형으로 변환하게 된다. 이 논문에서는 잡음모형으로 자기회귀이동평균(1,1) 모형을 가정하고 통합공정관리 절차를 수행하는 경우, 지수가중이동평균 관리도를 사용하여 이상원인을 탐지하는 절차에 대한 효율을 살펴보았다. 또한 이상원인의 신호 후 이를 제거하기 힘든 경우 사용할 수 있는 재수정 절차를 제안하였다.