Dielectric Characteristics of $Ta_2O_5$ Thin Films Prepared by ECR-PECVD
(ECR-플라즈마 화학 증착법에 의해 제조된 $Ta_2O_5$ 박막의 유전 특성)
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- Journal of the Korean Ceramic Society
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- v.31 no.11
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- pp.1330-1336
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- 1994