Proceedings of the Korean Society for Technology of Plasticity Conference
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2003.10a
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pp.339-346
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2003
Molecular dynamic simulations of nano indentation on single-crystal silicon (100) surface were performed using diamond indentor. Silicon substrate and diamond indentor were modeled diamond structure with Tersoff potential model. Phase transformation of silicon, incipient plastic deformation, change of incident temperature distribution are investigated through the change of potential energy distribution, displacement-load diagram, the change of kinetic energy distribution and displacements of silicon atoms. Phase transformation is highly localized and consists of a high-density region surrounding the tip. Axial load linearly increased according to the indenting depth. Number of atoms with high kinetic energy increased at the interface between substrate and indentor tip.
Burr and shape distortion are two main problems in micro-grooving. In this study, a simplified model is proposed based on large thrust force due to the tool edge radius. Experiments are conducted with a single crystal diamond tool on a 3-axis snaper-like machine varying the depth of cuts, and groove angles on brass, aluminum and OFHC. Experiments have shown that the thrust force becomes a dominant variable in burr generation compared to the principal force when the depth of cut is less than 2${\mu}m$. And fewer burrs develop on more brittle materials. Shape distortion is significant only when the groove angle is small and the depth of cut is larger than 30 ${\mu}m$.
Deposition of diamond films on Si(100) from the mixtures of methane and hydrogen were investigated using hot W filament CVD method. The nucleation density could be increased thousandfold by surface treatment with SiC powder. Upon oxygen addition to the mixture, crystal facets became developed more clearly by selectively removing non-diamond carbons, but the film growth rate generally decreased. However, at a very high methane content(e.g. 10%), a small amount of oxygen addition has resulted in an increase in the film deposition rate presumably by promotion of methane decomposition. When the gas pressure was varied, the growth rate exhibited a maxiumum at around 20torr and the film crystallinity steadily improved with the pressure increase. The observed variation of the growth rate by oxygen addition was discussed in terms of its role in the pyrolysis and the subsequent gas phase reactions.
Selective, highly stable determination of serotonin was achieved in cyclic voltammetric measurement carried out at electrochemically treated conductive boron-doped diamond electrode. Boron-doped diamond electrodes were prepared on single crystal Si wafers by microwave plasma chemical vapor deposition and $B_2O_3$ was dissolved in acetone/methanol(9:1) mixture solution so that the B/C weight ratio ca. $10^4ppm$. Serotonin is a kind of indoleamines, which secreted from adrenal marrow cells. The serious problem to detection of serotonin is the interference phenomena of electroactive constituent, including AA. In this study, electrochemical treatment of HDD was carried out to discriminate between serotonin and AA responses. Experimental results showed that the peak potential of AA oxidation shift to the positive direction and the oxidation peak of serotonin was unchanged.
Synthesis of the crystalline film was investigated under the diamond growth condition with altering the addition of the nitrogen from 0% to 95%. With increasing the nitrogen concentration, surface morphology of the film was changed from the diamond film with {100} growth plane to the non-faceted diamond film with nano-scale grains. It also showed that the deposition of the diamond film could be synthesized using only methane and nitrogen gases without hydrogen gas. Separated particles with diamond structure showed an octahedral shaped I the nitrogen ranges between 30% and 80%, and newly formed hexagonal crystals are observed when substrate temperature with diamond structure, however, also identify that the hexagonal crystal was SiCN composite composed of Si, C and N atoms.
Deposition conditions of diamond thin films were optimized using hot-filament chemical vapor deposition (HFCVD). Boron-doped diamond thin films with varying boron densities were then fabricated using B4C solid pellets. Current-voltage responses and field emission currents were measured to test the characteristics of field emission display (FED). With the increase of boron doping, the crystal size of diamond decreased slightly, but its quality was not changed significantly in case of small doping. The I-V characterization was performed for Al/diamond/p-Si, and the current of doped diamond film was increased $10^4\sim10^5$ times as compared with that of undoped film. In the field emission properties, the electrons were emitted with low electric field with the increase of doping, while the emission current increased. The onset-field of electron emission was 15.5 V/$\mu\textrm{m}$ for 2 pellets, 13.6 V/$\mu\textrm{m}$ for 3 pellets and 11.1 V/$\mu\textrm{m}$ for 4 pellets. With the incorporation of boron, the slope of Fowler-Nordheim graph was decreased, revealing that the electron emission behavior was improved with the decrease of the effective barrier energy.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.17
no.7
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pp.760-763
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2004
We studied the nematic liquid crystaL(NLC) aligning capabilities using the new alignment material of a nitrogenated diamond-like carbon(NDLC) thin film. The NDLC thin film exhibits high electrical resistivity and thermal conductivity that are similar to the properties shown by diamond-like carbon (DLC) thin films. The diamond-like properties and nondiamond-like bonding make NDLC an attractive candidate for applications. A high pretilt angle of about 9.9$^{\circ}$ by ion beam(IB) exposure on the NDLC thin film surface was measured. A good LC alignment is achieved by the IB alignment method on the NDLC thin films surface at annealing temperature of 200 $^{\circ}C$. The alignment defect of the NLC was observed above annealing temperature of 250 $^{\circ}C$. Consequently, the high pretilt angle and the good LC alignment by the IB alignment method on the NDLC thin film surface can be achieved.
In this paper, we review the technical trends of diamond and gallium oxide ($Ga_2O_3$) semiconductor technologies among ultra-wide bandgap semiconductor technologies for harsh environments. Diamond exhibits some of the most extreme physical properties such as a wide bandgap, high breakdown field, high electron mobility, and high thermal conductivity, yet its practical use in harsh environments has been limited owing to its scarcity, expense, and small-sized substrate. In addition, the difficulty of n-type doping through ion implantation into diamond is an obstacle to the normally-off operation of transistors. $Ga_2O_3$ also has material properties such as a wide bandgap, high breakdown field, and high working temperature superior to that of silicon, gallium arsenide, gallium nitride, silicon carbide, and so on. In addition, $Ga_2O_3$ bulk crystal growth has developed dramatically. Although the bulk growth is still relatively immature, a 2-inch substrate can already be purchased, whereas 4- and 6-inch substrates are currently under development. Owing to the rapid development of $Ga_2O_3$ bulk and epitaxy growth, device results have quickly followed. We look briefly into diamond and $Ga_2O_3$ semiconductor devices and epitaxy results that can be applied to harsh environments.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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