Czochralski 법으로 제조된 실리콘 단결정 내의 Flow Pattern Defect와 Large Pit의 열적 거동 및 소자 수율에의 영향 (Thermal behavior of Flow Pattern Defect and Large Pit in Czochralski Silicon Crystals and Their Effects on Device Yield.)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 1998년도 추계학술대회 논문집
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- pp.17-20
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- 1998