쌍극성표동 효과와 이체충돌효과를 고려한 ICP(Inductive Coupled Plasma) 3차원 식각 (3D Etching Profile used Inductive Coupled Plasma (ICP) Source with Ambipolar Drift and Binary-Collision Effect.)
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- 대한전자공학회:학술대회논문집
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- 대한전자공학회 1999년도 추계종합학술대회 논문집
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- pp.891-894
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- 1999