• 제목/요약/키워드: Depth of Focus(DoF)

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피사계심도 확장을 위한 대역통과 필터 기반 초점 정량화 기법 (Bandpass Filter Based Focus Measure for Extended Depth of Field)

  • 차수람;김정태
    • 방송공학회논문지
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    • 제16권5호
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    • pp.883-893
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    • 2011
  • 본 논문에서는, 피사계심도가 낮은 카메라로 획득한 영상에서 초점이 맞는 부분과 그렇지 않은 부분을 나누는 새로운 초점 정량화를 설계하고 초점 정량화에 기반한 decision map을 이용하여 획득한 영상과 위너필터링으로 복원한 영상의 정합을 통해 영상의 피사계심도를 확장하였다. 기존의 초점 정량화 방법은 고주파 성분의 크기에 따라서 초점 정량화를 수행하므로 초점이 맞지 않은 부분에 고주파 성분이 있는 경우 성능이 저하된다는 단점이 있다. 본 논문에서는 이를 극복하기 위하여 효과적인 대역필터를 설계하였으며 제안하는 방법이 기존에 방법에 비해서 성능이 우수함을 시뮬레이션 및 실험을 통해 입증하였다.

100nm 이하 Device에서의 CMP 기술의 문제점 및 향후 도전과제 (Issues in CMP Technology and Future Challenges for Sub-100nm Devices)

  • 윤성규;이재동;홍창기;조한구;문주태;류병일
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2004년도 하계학술대회 논문집 Vol.5 No.1
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    • pp.224-226
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    • 2004
  • CMP process requirements become tighter especially in sub-100nm technology. Especially, high planarity and low defectivity appear as leading issues in CMP technology. Also, the introduction of new materials and advanced lithography technique increases CMP applications. Here are listed some major issues and challenges in CMP technology, which can be categorized following four items. These have practical significance and should be considered more concretely for future generation.

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