Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.4
no.3
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pp.29-33
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2003
Tri-crystalline silicon wafers have three different orientations and three-grain boundaries. In this paper, tri-crystalline silicon (tri-Si) wafers have been used for the fabrication of buried contact solar cells. The optical and micro-structural properties of these cells after texturing in KOH solution have been investigated and compared with those of cast mult- crystalline silicon (multi-Si) wafers. We employed a cost effective fabrication process and achieved buried contact solar cell (BCSC) energy conversion efficiencies up to $15\%$ whereas the cast multi-Si wafer has efficiency around $14\%$.
Ju, Minkyu;Lee, Youn-Jung;Balaji, Nagarajan;Cho, Young Hyun;Yi, Junsin
Current Photovoltaic Research
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v.6
no.1
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pp.1-11
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2018
Current major photovoltaic (PV) market share (> 60%) is being occupied by the multicrystalline (mc)-silicon solar cells despite of low efficiency compared to single crystalline silicon solar cells. The diamond wire sawing technology reduces the production cost of crystalline silicon solar cells, it increases the optical loss for the existing mc-silicon solar cells and hence its efficiency is low in the current mass production line. To overcome the optical loss in the mc-crystalline silicon, caused by the diamond wire sawing, next generation texturing process is being investigated by various research groups for the PV industry. In this review, the limitation of surface structure and optical loss due to the reflectivity of conventional mc-silicon solar cells are explained by the typical texturing mechanism. Various texturing technologies that could minimize the optical loss of mc-silicon solar cells are explained. Finally, next generation texturing technology to survive in the fierce cost competition of photovoltaic market is discussed.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2009.06a
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pp.434-435
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2009
The crystalline silicon solar cell where the solar cell market grows rapidly is occupying of about 85% or more. high-efficiency and low cost endeavors many crystalline silicon solar cells. the fabrication processes of high-efficiency crystalline silicon solar cells necessitate complicated fabrication processes and Ti/Pd/Ag contact, however, this contact formation processed by expensive materials. Ni/Cu contact formation is good alternative. in this paper, according to temperature Ni silicide makes, produced Ni/Cu contact solar cell and measured conversion efficiency.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2003.07a
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pp.176-180
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2003
Tri-crystalline silicon (Tri-Si) wafers have three different orientations and three grain boundaries. In this paper, tri-Si wafers have been used for the fabrication of buried contact solar cells. The optical and micro-structural properties of these cells after texturing in KOH solution have been investigated and compared with those of cast multi-crystalline silicon (multi-Si) wafers. We employed a cost effective fabrication process and achieved buried contact solar cell (BCSC) energy conversion efficiencies up to 15% whereas the cast multi-Si wafer has efficiency around 14%.
The crystalline silicon solar cells have been optical losses. but it can be reduced using light trapping by texture structure and anti-reflection coating. The high reflective index of crystalline silicon at solar wavelengths(400nm~1000nm) creates large reflection losses that must be compensated for by applying anti-reflection coating. In this study, the use of porous silicon(PSi) as an active material in a solar cell to take advantage of light trapping and blue-harvesting photoluminescence effect. Porous silicon is form by anodization and can be obtained in an electrolyte with hydrofluoric. We expect our research can results approaching to lower than 10% of several reflectance by porous silicon solar cells.
Kim, Kwanghun;Baik, Sungsun;Park, Jaechang;Nam, Wooseok;Jung, Jae Hak
Current Photovoltaic Research
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v.6
no.4
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pp.94-101
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2018
Light elevated temperature induced degradation (LeTID) was noted as an issue in multi-crystalline silicon solar cells (MSSC) by Ram speck in 2012. In contrast to light induced degradation (LID), which has been researched in silicon solar cells for a long time, research about both LeTID and the mechanism of LeTID has been limited. In addition, research about LeTID in single-crystalline silicon solar cells (SSSC) is even more limited. In order to improve understanding of LeTID in SSSC with a passivated emitter rear contact (PERC) structure, we fabricated four group samples with boron and oxygen factors and evaluated the solar cell characteristics, such as the cell efficiency, $V_{oc}$, $I_{sc}$, fill factor (FF), LID, and LeTID. The trends of LID of the four group samples were similar to the trend of LeTID as a function of boron and oxygen.
In this paper, double texturization of multi crystalline silicon solar cells was studied with laser and reactive ion etching (RIE). In the case of multi crystalline silicon wafers, chemical etching has problems in producing a uniform surface texture. Thus various etching methods such as laser and dry texturization have been studied for multi crystalline silicon wafers. In this study, laser texturization with an Nd:$YVO_4$ green laser was performed first to get the proper hole spacing and $300{\mu}m$ was found to be the most proper value. Laser texturization on crystalline silicon wafers was followed by damage removal in acid solution and RIE to achieve double texturization. This study showed that double texturization on multi crystalline silicon wafers with laser firing and RIE resulted in lower reflectance, higher quantum yield and better efficiency than that process without RIE. However, RIE formed sharp structures on the silicon wafer surfaces, which resulted in 0.8% decrease of fill factor at solar cell characterization. While chemical etching makes it difficult to obtain a uniform surface texture for multi crystalline silicon solar cells, the process of double texturization with laser and RIE yields a uniform surface structure, diminished reflectance, and improved efficiency. This finding lays the foundation for the study of low-cost, high efficiency multi crystalline silicon solar cells.
The texturing is one of the most important processes for high efficiency crystalline silicon solar cells. The rear side flatness of silicon solar cell is very important for increasing the light reflectance and forming uniform back surface field(BSF) region in manufacturing high efficiency crystalline silicon solar cells. We investigated texturing difference between front and rear side of wafer by texturing of two adhered wafers. As a result, the flatter rear side was obtained by forming less pyramid size compared to the front side and improved reflectance of long wavelength and back surface field(BSF) region were also achieved. Therefore, the texturing of two adhered wafers can be expected to improve the efficiency of silicon solar cells due to increased short circuit current(Isc).
It is important to reduce a reflection of light as a solar cell is device that directly converts the energy of solar radiation to electrical energy in oder to improve efficiency of solar cells. The antireflection coating has proven effective in providing substantial increase in solar cell efficiency. This paper investigates the formation of thin film PSi(porous silicon) layer on the surface of crystalline silicon substrates without other ARC(antirefiection coating) layers. On the other hand the formation of $SO_{2}/SiN_x$ ARC layers on the surface of crystalline silicon substrates. After that, the structure of PSi and $SO_2/SiN_x$ ARC was investigated by SEM and reflectance. The formation of PSi layer and $SO_{2}/SiN_x$ ARC layers on the textured silicon wafer result about 5% in the wavelength region from 0.4 to $1.0{\mu}m$. It is achieved on the textured crystalline silicon solar cell that each efficiency is 14.43%, 16.01%.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2015.08a
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pp.257.2-257.2
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2015
In this paper, we report on the 10.33% efficient thin film/bulk tandem solar cells with the top cell made of amorphous silicon thin film and p-type bulk crystalline silicon bottom cell. The tunneling junction layers were used the doped nanocrystalline Si layers. It has to allow an ohmic and low resistive connection. For player and n-layer, crystalline volume fraction is ~86%, ~88% and dark conductivity is $3.28{\times}10-2S/cm$, $3.03{\times}10-1S/cm$, respectively. Optimization of the tunneling junction results in fill factor of 66.16 % and open circuit voltage of 1.39 V. The open circuit voltage was closed to the sum of those of the sub-cells. This tandem structure could enable the effective development of a new concept of high-efficiency and low cost cells.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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