The copper oxide nano powders were synthesized by levitational gas condensation (LGC) method, and were applied to catalyst to fabricate 3,4-dihydropyrimidin-2-(1H)-one. Processes of adsorption of Biginelli reaction reagents on the copper nanooxide surface $Cu_2O{\circ}CuO$ were studied by IR-spectroscopy. It was shown that benzaldehyde coordination, acetoacetic ether on the oxide surface is carried out with participation of carbonyl fragments, urea by N-H bonds which affects positively on the reagents reactivity.
We investigated the effects of oxidizer additive on the performance of Cu-CMP process using commonly used tungsten slurry. According to the CMP removal rates and particle size distribution, and the micro- structures of surface layer as a function of oxidizer contents were greatly influenced by the slurry chemical composition of oxidizers. The difference in removal rate and roughness of copper surface are believed to cause by modification in the mechanical behavior of $Al_{2}O_3$ abrasive particles in CMP slurry.
Polarization measurements were peformed to investigate the electrochemical behavior of copper ions and limiting current density in waste rinse water from copper electroplating processes. A newly designed cyclone type electrolyzer was tested to recover the copper powder. Synthetic solutions were prepared using analytical grade $CuSO_4$ to the desired waste water concentration and pH was adjusted with $H_2$$SO_4$. Electrowinning was peformed at room temperature and the solution was cycled with a pump. Results showed that more than 99 percent of Cu was recovered and the size of the recovered Cu powder ranges from 0.1 - $0.5\mu\textrm{m}$. The chemical composition of the Cu powder mainly consists of $Cu_2$O and Cu and can be easily reduced to pure Cu powder.
Cotton was etched in 15% NaOH solution at $90^{\circ}C$ for 15 min in order to give good wettability. Then it was catalyzed and accelerated by using $PdC1_2$-$SnCl_2$ solution and 10% $_2$$SO_4$, respectively. Uniform deposits on cotton were obtained when it was electroless copper deposited in pH 10.5 solution at 3$0^{\circ}C$ and Ni-Fe-P deposited in solutions of pH 11 at$ 75^{\circ}C$. The latter deposit has a chemical composition similar to that of permalloy.
Kim, Jun-Tae;Jang, Seong-Soo;Lee, Soon-Chil;Lee, Won-Jong
Journal of Surface Science and Engineering
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v.29
no.6
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pp.851-856
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1996
Copper Phthalocyanine (CuPc) thin films were fabricated on the silicon wafers by plasma activated evaporation method and structural analysis were carried out with various spectroscopies. The CuPc films had dense and smooth morphology and they also showed good mechanical properties and chemical resistance. The main molecular structure of the CuPc, which is the conjugated aromatic heterocyclic ring structure, was maintained even in the plasma process. However, metal-ligand (Cu-N) bands were deformed by the plasma process and the structure became amorphous especially at higher process pressures. Oxygen impurities were incorporated in the film and carboxyl functional groups were formed at the peripheral benzene ring. The structure and morphology of the films were dependent on the process pressure but relatively irrespective of the RF power.
Copper-chromium multilayers with a nominal bilayer thickness of about 400 $\AA$ (200 $\AA$ each) were prepared by dc magnetron sputtering and the evolution of microstructure during heat treatment was investigated by using x-ray diffractometry(XRD), Auger electron spectroscopy(AES) and transmission electron microscopy(TEM). It was observed that an amorphous phase with a thickness of about 40 $\AA$ was formed at the interfaces of the as-deposited Cu/Cr multilayered film using cross-sectional TEM. At elevated temperatures, the Cu(111) reflection showed increasing intensity and decreasing line-width as a result of copper grain growth. The intermixed amorphous phase disappeared after annealing at $250^{\circ}C$ for 1 h and the multilayer structure was stable up to $400^{\circ}C$ for 1 h annealing. At $600^{\circ}C$ annealing, it was observed that the multilayer structure was completely destroyed and copper and chromium phases were fully intermixed.
In this study, the adsorption behaviors of mercury ions on the electroless Cu-plated activated carbons have been investigated. The amount of copper on activated carbons have been confirmed by atomic absorption spectrophotometer (AAS). The surface properties of the ACs studied have been characterized by using Boehm's titration method and scanning electron microscopy (SEM).Experimental results showed the adsorption capacity of mercury ions was increased as the electroless Cu plating. This was probably due to the introduction of copper on ACs leaded to an increase in the surface basicity.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2011.02a
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pp.434-434
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2011
Electrochemical method have been employed in this work to modify the chemical vapour deposited nitrogen doped hydrogen amorphous diamond-like carbon (N-DLC) film to fabricate nickel and copper nano particle modified N-DLC electrodes. The electrochemical behaviour of the metal nano particle modified N-DLC electrodes have been characterized at the presence of glucose in electrolyte. Meanwhile, the N-DLC film structure and the morphology of metal nano particles on the N-DLC surface have been investigated using micro-Raman spectroscopy, X-ray photoelectron spectroscopy and atomic force microscopy. The nickel nano particle modified N-DLC electrode exhibits a high catalytic activity and low background current, while the advantage of copper modified N-DLC electrode is drawn back by copper oxidizations at anodic potentials. The results show that metal nano particle modification of N-DLC surface could be a promising method for controlling the electrochemical properties of N-DLC electrodes.
Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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2015.11a
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pp.158-158
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2015
전해동박(Electrodeposited Copper Foil)은 전기도금 공정으로 제조되는 얇은 구리 포일로서, 주로 TV, PC, 스마트폰 등 전자제품의 인쇄회로기판에서 전기신호를 전달하는 회로소재로 사용이 되며, 최근에는 모바일 IT, 전기자동차, 지능형 로봇, 그린 에너지 산업 등에서 필수적으로 적용되는 소재로 이용이 급증하고 있는 핵심소재이다. 모바일, Network 고속 통신 기술의 발전에 따라 Data 사용량의 폭증으로 고속/고주파 신호전송이 필요성이 증대되고 있으며 무선 충전 기술의 도입 및 웨어러블 기기의 보급으로 점차 FCCL도 3layer에서 2layer로 점차 그 수요가 바뀌어 가고 있다. 이에 따라 전해동박도 고속/고주파 신호 전송 및 고밀도 특성에 맞추어 저조도, 고밀착력 특성을 요구되는 방향으로 개발 되고 있으며 Line Space 가 기존 $25{\mu}m/25{\mu}m$ 패턴에서 $20{\mu}m/20{\mu}m$ 패턴으로 Fine pitch를 요구함에 따라 전해동박의 박막화, 저조도 고 밀착력 특성이 더 요구되고 있다.
Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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2014.11a
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pp.127-128
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2014
현재 기술 산업에서 PET위 무전해 도금을 실행하기 위해 다양한 전처리 공정과 Catalyst가 소개되고 있다. 그 중에서 가장 일반적으로 사용되고 있는 Catalyst는 Palladium으로서 Tin과 산화 환원 반응으로 Electroless Copper Deposition 단계에서 구리 도금의 Target으로 작용하고 있다. 하지만 상대적으로 Palladium은 생산 비용이 높으며 Tin은 쉽게 산화되는 문제점이 남아 있다. 이를 대체하기 위한 대안 공정으로서 Palladium 대신 Silver를 이용하여 Catalyst로서의 역할을 하는 공정이다. 이전에 PET위 전처리 공정으로 Ultra Violet을 사용하여 표면을 개질 시키는 방법을 연구했으며, 그 후 Potassium Permanganate와 Silver Catalyst의 Mechanism을 연구 했다. PET 표면 개질을 거치면서 화학 구조가 바뀌어 표면에 Carbon Carbon Double Bond를 형성한다. 이때 Permanganate ion이 새로이 형성된 이중 결합과 반응하여 두 개의 extra-OH functional group을 생성함과 동시에 $MnO_2$를 만들어 표면에 흡착 시킨다. $MnO_2$는 전위차에 의해 Silver Ion과 Redox Reaction을 일으키며 실질적인 Catalyst 역할을 하게 된다. Silver Catalyst는 무전해 구리 도금 용액 안에서 Copper의 Target으로 작용한다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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