• 제목/요약/키워드: Conductive Film

검색결과 661건 처리시간 0.025초

마그네트론 스퍼터링에 의해 제작한 Gallium-doped ZnO 박막에 있어서 잔류 H2O 분압의 영향 (The Effect of Residual H2Pressure on Gallium-doped ZnO Films Deposited by Magnetron Sputtering)

  • 송풍근;권용준;차재민;이병철;류봉기;김광호
    • 한국세라믹학회지
    • /
    • 제39권10호
    • /
    • pp.928-934
    • /
    • 2002
  • Ga을 치환 고용시킨 ZnO(GZO) 박막을 GZO 세라믹 타켓을 사용하여 직류 마그네트론 스퍼터법에 의해 기판온도(RT, 400${\circ}C$), 잔류 $H_2O$ 분압(PH2O; 1.61${\times}10^{-4}∼2.2{\times}10^{-3}$ Pa), $H_2$ 가스 첨가(8.5%), 캐소드의 자장강도(250, 1000G)등의 다양한 조건하에서 제작했다. 기판 가열 없이 100% Ar를 사용한 경우, $P_{H_2O}$가 1.61${\times}10^{-4}$ Pa에서 2.2${\times}10^{-3}$ Pa로 증가 했을 때, 박막의 결정립 크기는 24 nm에서 3 nm로 감소했으며, 비저항은 3.0${\times}10^{-3}$에서 3.1${\times}10^{-2}{\Omega}㎝$ 로 크게 증가함을 보였다. 그러나, 8.5% $H_2$를 Ar 가스에 혼합하여 제막한 결과, GZO 박막의 전기적 특성은 $P_{H_2O}$의 증가에도 불구하고 변화 없이 나타났다. 또한 캐소드의 자장강도를 250G에서 1000G로 증가시킨 경우, GZO 박막의 결정성 및 전기적 특성은 $P_{H_2O}$와 상관없이 크게 향상되었으며, 이것은 플라즈마 임피던스의 감소에 따른 박막 손상의 감소에 기인한다고 생각된다.

Temperature Analysis for the Point-Cell Source in the Vapor Deposition Process

  • Park, Jong-Wook;Kim, Sung-Cho;Hun Jung
    • Journal of Mechanical Science and Technology
    • /
    • 제18권9호
    • /
    • pp.1680-1688
    • /
    • 2004
  • The information indicating device plays an important part in the information times. Recently, the classical CRT (Cathod Ray Tube) display is getting transferred to the LCD (Liquid Crystal Display) one which is a kind of the FPDs (Flat Panel Displays). The OLED (Organic Light Emitting Diodes) display of the FPDs has many advantages for the low power consumption, the luminescence in itself, the light weight, the thin thickness, the wide view angle, the fast response and so on as compared with the LCD one. The OLED has lately attracted considerable attention as the next generation device for the information indicators. And also it has already been applied for the outside panel of a mobile phone, and its demand will be gradually increased in the various fields. It is manufactured by the vapor deposition method in the vacuum state, and the uniformity of thin film on the substrate depends on the temperature distribution in the point-cell source. This paper describes the basic concepts that are obtained to design the point-cell source using the computational temperature analysis. The grids are generated using the module of AUTOHEXA in the ICEM CFD program and the temperature distributions are numerically obtained using the STAR-CD program. The temperature profiles are calculated for four cases, i.e., the charge rate for the source in the crucible, the ratio of diameter to height of the crucible, the ratio of interval to height of the heating bands, and the geometry modification for the basic crucible. As a result, the blowout phenomenon can be shown when the charge rate for the source increases. The temperature variation in the radial direction is decreased as the ratio of diameter to height is decreased and it is suggested that the thin film thickness can be uniformed. In case of using one heating band, the blowout can be shown as the higher temperature distribution in the center part of the source, and the clogging can appear in the top end of the crucible in the lower temperature. The phenomena of both the blowout and the clogging in the modified crucible with the nozzle-diffuser can be prevented because the temperature in the upper part of the crucible is higher than that of other parts and the temperature variation in the radial direction becomes small.

A Preponderant Enhancement of Conversion Efficiency by Surface Coating of $SnO_2$ Nanoparticles in Organic MK-2 Dye Sensitized Solar Cell

  • Son, Dae-Yong;Lee, Chang-Ryul;Park, Nam-Gyu
    • 한국진공학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국진공학회 2012년도 제42회 동계 정기 학술대회 초록집
    • /
    • pp.218-218
    • /
    • 2012
  • Nanocrystalline $SnO_2$ colloids are synthesized by hydrolysis of $SnCl_4{\cdot}5H_2O$ in aqueous ammonia solution. The synthesized $SnO_2$ nanoparticles with ca. 15 nm in diameter are coated on a fluorinedoped thin oxide (FTO) conductive substrate and heated at $550^{\circ}C$. The annealed $SnO_2$ film is treated with aqueous $TiCl_4$ solution, which is sensitzied with MK-2 dye (2-cyano-3-[5'''-(9-ethyl- 9H-carbazol-3-yl)-3',3'',3''',4-tetra-n-hexyl-[2,2',5',2'',5'',2''']-quater thiophen-5-yl]). Compared to bare $SnO_2$ film, the conversion efficiency is significantly improved from 0.22% to 3.13% after surface treatment of $SnO_2$ with $TiCl_4$, which is mainly due to the large increases in both photocurrent density from 1.33 to $9.46mA/cm^2$ and voltage from 315 to 634 mV. It is noted that little change in the amount of the adsorbed dye is detected from 1.21 for the bare $SnO_2$ to $1.28{\mu}mol/cm^2$ for the $TiCl_{4-}$ treated $SnO_2$. This indicates that the photocurrent density increased by more than 6 times is not closely related to the dye loading concentration. From the photocurrent and voltage transient spectroscopic studies, electron life time increases by about 13 order of magnitude, whereas electron diffusion coefficient decreases by about 3.6 times after $TiCl_4$ treatment. Slow electron diffusion rate offers sufficient time for regeneration kinetics. As a result, charge collection efficiency of about 40% before $TiCl_4$ treatment is improved to 95% after $TiCl_4$ treatment. The large increase in voltage is due to the significant increase in electron life time, associated with upward shift of fermi energy.

  • PDF

표면 피막 형성이 LiCoO2 양극의 고온 열화에 미치는 영향 (Accelerated Formation of Surface Films on the Degradation of LiCoO2 Cathode at High Temperature)

  • 성종훈;푸아드 하산;유현덕
    • 전기화학회지
    • /
    • 제23권3호
    • /
    • pp.57-65
    • /
    • 2020
  • 리튬이온전지의 열적 열화 메커니즘을 이해하는 것은 전지의 안전성을 향상시키기 위한 필수적인 과정이다. 본 논문에서는 대표적인 양극물질의 하나인 리튬코발트산화물(LiCoO2, LCO)이 고온에서 작동할 때 형성되는 표면 필름에 의한 전기화학적 성능 열화를 조사하였다. 먼저 25℃와 60℃ 각각의 온도에서 사이클 테스트를 진행한 결과, 60℃에서 25℃에 비해 저하된 사이클 수명을 보였다. 이후 처음 5사이클을 25℃, 60℃에서 구동시킨 LCO 양극을 각각 25-LCO, 60-LCO라 명명하였으며, 이후 임피던스 및 출력 특성 분석은 25℃에서 진행하였다. 이때 두 샘플 모두 저속에서의 초기 용량은 비슷함에도 불구하고 60-LCO가 25-LCO에 비해 높은 임피던스와 낮은 출력 특성을 보였다. X-선 광전자분광 (XPS)분석 결과 60-LCO 샘플에서 cathode-electrolyte interphase의 성분 중 하나인 절연성의 수산화 리튬 (LiOH) 성분이 다량 검출되었으며, 이는 고온에서 과도한 표면 필름 형성이 양극의 표면 저항 증가 및 속도/수명 특성 저하를 가져왔음을 보여준다.

산소 압력의 조절과 함께 두 번의 증착 과정을 이용한 ZnO:Al 박막에 결정성의 향상 (Enhancement of Crystallinity in ZnO:Al Films Using a Two-Step Process Involving the Control of the Oxygen Pressure)

  • 문태호;윤원기;이승윤;지광선;어영주;안세원;이헌민
    • 한국진공학회지
    • /
    • 제19권2호
    • /
    • pp.128-133
    • /
    • 2010
  • ZnO:Al 박막은 산소 압력을 조절한 두 번의 증착 과정을 이용하여, DC 펄스 마그네트론 스퍼터링 방법에 의해 증착되었다. 시드막은 다양한 Ar/$O_2$ 압력비에서 증착되었으며, 벌크막은 순수한 Ar가스를 사용하여 증착되었다. 시드막 증착시 산소 압력이 증가함에 따라, 결정성과 (002) 배향성의 정도는 증가했다. 비저항은 시드가 없는 샘플의 경우 $4.7\times10^4\Omega{\cdot}cm$ cm로부터 Ar/$O_2$ = 9/1 샘플의 경우 $3.7\times10^4\Omega{\cdot}cm$까지, 결정성의 증가와 함께 점차 감소했다. 에칭된 표면은 분화구 형상의 구조를 보여주었으며, 급격한 형상 변화가 결정성 증가와 함께 나타났다. Ar/$O_2$= 9/1 조건의 샘플은 500 nm 에서 88%의 매우 높은 haze 수치를 보여주었으며, 이는 AFM 이미지에서 보여지는 것처럼 큰 표면 구조 크기에 의해 설명된다.

SnO/Sn 혼합 타겟으로 스퍼터 증착된 SnO 박막의 열처리 효과 (Study of the effect of vacuum annealing on sputtered SnxOy thin films by SnO/Sn composite target)

  • 김철;조승범;김성동;김사라은경
    • 마이크로전자및패키징학회지
    • /
    • 제24권2호
    • /
    • pp.43-48
    • /
    • 2017
  • SnO:Sn(80:20 mol%) 혼합 타겟을 이용한 RF 반응성 스퍼터링으로 투명하고 전도성이 있는 $Sn_xO_y$ 박막을 증착하였다. 혼합 타겟은 화학적으로 안정한 조성과 높은 투과도를 주는 세라믹 타겟과 Sn과 산소의 반응성 증착으로 박막내 구조적 결함 조절이 용이한 금속 타겟의 장점을 고루 택하고 있다. 산소 분압 0%~12% 구간에서 박막을 증착하였으며, 증착 후 $300^{\circ}C$에서 1시간 동안 진공 열처리를 진행하였다. Sn 함량이 많은 $P_{O2}=0%$의 경우를 제외하고 모든 시편들은 열 처리 전후에 80~90% 이상의 투과도를 보였으며, 안정된 p형 $Sn_xO_y$ 박막은 $P_{O2}=12%$에서 확인하였고, $P_{O2}=12%$에서 열 처리 후 캐리어 농도와 이동도는 각각 $6.36{\times}10^{18}cm^{-3}$$1.02cm^2V^{-1}s^{-1}$ 이었다.

리튬 이온 기반 멤리스터 커패시터 병렬 구조의 저항변화 특성 연구 (A Study on the Resistve Switching Characteristic of Parallel Memristive Circuit of Lithium Ion Based Memristor and Capacitor)

  • 강승현;이홍섭
    • 마이크로전자및패키징학회지
    • /
    • 제28권4호
    • /
    • pp.41-45
    • /
    • 2021
  • 본 연구에서는 멤리스터 소자의 높은 신뢰성을 확보하기 위해 소자 제작 단계에서 30 nm 두께의 ZrO2 금속산화물 박막 위 국부영역에 리튬 filament seed 층을 패턴하여 작은 이온반경의 리튬이온을 저항변화 주체로 활용하는 멤리스터 소자를 구현하였다. 패턴 된 리튬 filament seed 대비 다양한 상부전극의 면적을 적용하여 멤리스터-커패시턴스 병렬 구조의 이온형 저항변화 소자에서 커패시턴스가 filament type 저항변화 특성에 미치는 영향을 조사하고자 하였다. 이를 위해 ZrO2 박막 위에 5 nm 두께, 5 ㎛ × 5 ㎛ 면적의 리튬 filament seed 증착 후 50 ㎛, 100 ㎛ 직경의 상부전극을 증착, 리튬 메탈의 확산을 위한 250℃ 열처리 전 후 샘플에서 저항변화 특성을 확인하였다. 열확산에 의해 형성된 전도성 filament의 경우 전압에 의한 제어가 불가함을 확인하였으며, 전압에 의해 형성된 filament만이 electrochemical migration에 의한 가역적 저항변화 특성 구현이 가능한 것을 확인하였다. 전압에 의한 filament 형성 시 병렬로 존재하는 커패시턴스의 크기가 filament의 형성 및 소실에 중요한 인자임을 확인하였다.

해양산업시설 배출 HNS 모니터링을 위한 고감도 금속산화물 나노입자 센서에 대한 연구 (Study on High Sensitivity Metal Oxide Nanoparticle Sensors for HNS Monitoring of Emissions from Marine Industrial Facilities)

  • 이창한;안상수;허유나;조영지;장지호;이상태;오상우;이문진
    • 해양환경안전학회지
    • /
    • 제28권spc호
    • /
    • pp.30-36
    • /
    • 2022
  • 수처리 후 직접 해양으로 배출하는 산업시설 등에서 Hazardous and Noxious Substance (HNS) 농도 변화를 연속 자동 측정하기 위한 센서의 기본적 성능으로 상온에서도 ppb 수준의 검출이 가능한 센서가 필요하다고 판단하여 기존의 센서의 감도를 높이기 위한 방법을 제안하였다. 우선 나노입자 박막에 전도성 탄소계 첨가물을 이용하여 필름의 전도도를 높이는 방법과 촉매 금속을 이용하여 표면에서의 이온 흡착도를 높이는 방법에 대해서 각각 연구하였다. 전도성 개선을 위해서 ITO 나노입자를 활용한 필름에 carbon black을 첨가물로 선택하여, 첨가물 함유량에 따른 센서의 성능변화를 관찰하였다. 그 결과 CB 함량 5 wt% 정도에서 전도성 증가에 의한 저항과 응답시간의 변화를 관찰할 수 있었고, 유기용제를 대상으로 한 실험에서 검출하한은 250 ppb 정도까지 낮아지는 것을 확인하였다. 또한 액체 중 이온 흡착도를 높이기 위하여 센서 표면에 촉매로 Au를 스퍼터로 제작한 표면 촉매층을 형성한 시료를 이용한 실험에서 센서의 응답은 20% 이상 증가하고 평균 검출하한은 61 ppm까지 낮아지는 것을 확인하였다. 이 결과로부터 금속산화물 나노입자를 활용한 화학저항형 센서가 상온에서도 수십 ppb 정도의 HNS를 검출할 수 있다는 것을 확인하였다.

고전압에 적용 가능한 대전방지 코팅제용 바인더의 합성에 관한 연구 (Study on the Synthesis of the Binder for Antistatic Coating Applicable under High Voltage)

  • 김재영;양희준;박나영;최영주;이성민;정대원
    • 공업화학
    • /
    • 제24권2호
    • /
    • pp.196-200
    • /
    • 2013
  • 고전압 하에서도 표면 저항을 유지할 수 있는 대전방지 보호필름용 코팅액의 바인더에 관하여 연구하였다. 구체적으로는 폴리에틸렌 글리콜(PEG)과 폴리프로필렌 글리콜(PPG)을 주성분으로 하는 다양한 조성의 폴리에스터계 바인더를 합성하여 전도성 고분자와의 배합을 통하여 필름을 제조한 후에 고전압 하에서의 표면 저항의 변화를 조사하였다. PEG와 PPG의 조성과 상관없이 10 V의 전압 하에서는 $10^7{\sim}10^8{\Omega}/{\square}$의 범위를 나타내었으나, 1000 V 하에서는 표면저항이 $2{\times}10^{10}{\Omega}/{\square}$ 이상으로 변화하여 대전방지 용도로는 사용할 수 없었다. 그러나 PPG의 10 mol%를 1,4-butandiol(BD)로 대체하여 합성한 폴리에스터 중에서 PEG 함량이 25 mol%인 바인더([PEG]/[PPG]/[BD] = 25.0/67.5/7.5)에서는 1000 V 하에서도 $2.8{\times}10^9{\Omega}/{\square}$을 나타내, 고전압 하에서도 대전방지용으로 사용할 수 있는 것으로 나타났다. 이결과는 BD의 소수성에 의하여 고전압 하에서도 표면 저항이 유지될 수 있다는 것을 시사하고 있다.

이축 배향화된 전도성 복합산화물의 금속 기판의 제조와 분석 (Fabrication and Characterization of Bi-axial Textured Conductive Perovskite-type Oxide Deposited on Metal Substrates for Coated Conductor.)

  • Sooyeon Han;Jongin Hong;Youngah Jeon;Huyong Tian;Kim, Yangsoo;Kwangsoo No
    • 한국재료학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국재료학회 2003년도 추계학술발표강연 및 논문개요집
    • /
    • pp.235-235
    • /
    • 2003
  • The development of a buffer layer is an important issue for the second -generation wire, YBCO coated metal wire. The buffer layer demands not only on the prohibition of the reaction between YBCO and metal substrate, but also the proper lattice match and conductivity for high critical current density (Jc) of YBCO superconductor, In order to satisfy these demands, we suggested CaRuO3 as a useful candidate having that the lattice mismatches with Ni (200) and with YBCO are 8.2% and 8.0%, respectively. The CaRuO3 thin films were deposited on Ni substrates using various methods, such as e-beam evaporation and DC and RF magnetron sputtering. These films were investigated using SEM, XRD, pole-figure and AES. In e-beam evaporation, the deposition temperature of CaRuO3 was the most important since both hi-axial texturing and NiO formation between Ni and CaRuO3 depended on it. Also, the oxygen flow rate had i[n effect on the growth of CaRuO3 on Ni substrates. The optimal conditions of crystal growth and film uniformity were 400$^{\circ}C$, 50 ㎃ and 7 ㎸ when oxygen flow rate was 70∼100sccm In RF magnetron sputtering, CaRuO3 was deposited on Ni substrates with various conditions and annealing temperatures. As a result, the conductivity of CaRuO3 thin films was dependent on CaRuO3 layer thickness and fabrication temperature. We suggested the multi-step deposition, such as two-step deposition with different temperature, to prohibit the NiO formation and to control the hi-axial texture.

  • PDF