Microstructure and electrical properties of $In_2O_3$ transparent thin films are analyzed on the basis of Structure Zone Model (SZM) proposed by Thornton. Thin films are deposited on glass substrate by RF magnetron sputtering with variation of substrate temperature $(T_s)$ and argon gas pressure $(P_{Ar})$. Microstructure of Zone I of SZM is observed with lowering of substrate temperature or increasing of argon pressure. The higher electrical resistivity of those specimens is due to micro-pores or voids between columnar grains. At the conditions of $T_s=450^{\circ}C$ and $P_{Ar}$=4.2mTorr, the Zone II structure of SZM and the lowest electrical resistivity $(2.1{\times}10^{-2}{\Omega}cm)$ are observed. The dense structure of columnar grains with faceting on growing surface and preferred orientation of (100) plane are observed in those specimens.
제주도 북서부인 애월 해안에는 평탄하게 흐른(판상) 용암류와 둥근 모양(원통)의 용암류가 관찰된다. 원통형 용암류의 치밀한 내부에는 동심원 구조와 방사상 절리가 발달한다. 구엄리 돌염전 주변의 판상 용암류 내부에는 상하부의 굵기가 다른 주상절리가 발달한다. 주상절리 상부는 다각형의 형태가 고르지 않으며 직경은 120-150 cm이다. 주상절리 하부는 육각형과 오각형으로 형태가 일정하고, 크기도 60 cm 내외이다. 원통형 로브는 크기와 형태에 따라 두 그룹으로 나눌 수 있다. 하나는 메가로브인데, 최대 직경이 30 m인 반원형이다. 또 하나는 원형의 로브로 직경이 10 m 이하이다. 원통형 용암류의 방사상 절리의 기둥 단면은 육각형과 오각형이며, 기둥의 직경은 중심에서 바깥쪽으로 증가하는데 바깥쪽 경계부에서는 80-120 cm 정도이다. 원통형 용암에서 관찰되는 동심원 구조는 4가지 요인이 복합된 것이다. 첫째는 원형의 균열로, 원통형 용암류 내에서 안쪽과 바깥쪽 사이의 온도차와 밀도차로 발생한 수축으로 생긴 틈새이다. 둘째는 방사상 절리의 마디층이 동심원을 이룬 것으로, 이 마디층은 방사상 절리와 동시에 만들어진 것이다. 셋째는 유동띠로서, 용암이 흐를 때 둥근 통로에 남긴 흔적이다. 네 번째는 용암에서 빠져나온 가스가 동굴에 형성된 기공 띠이다.
Cr-N films were deposited on low-carbon steel sheets by the reactive arc-induced ion plating (AIIP). The influence of the deposition conditions (nitrogen pressure and substrate bias voltage) on the crystal orientation, morphology and microhardness of the Cr-N films has been investigated using x-ray diffractometer and scanning electron microscope. The impurities and contaminations on the surface and at the interface, and the layer-by-layer compositions of the film have been analyzed using scanning Auger multiprobe (SAM) and glow discharge spectroscope (GDS). The mixed state of Cr and Cr2N turned out to have a fine fibrous structure. The Cr2N films were deposited at a wide range of nitrogen flow rates. The orientations of Cr2N films were mainly (110) and (111), and the intensity of the (111) peak increased as the substrate bias voltage increased. The micorstructure of the Cr2N film was dense and no columnar structure was observed. The films in the mixed state of Cr2N and CrN were also dense without columnar structure. The maximum microhardness of the Cr-N films was 2400 kg/$\textrm{mm}^2$ at 10gf load.
Cr-N films were deposited on low-carbon steel sheets by the reactive arc-induced ion plating (AIIP). The influence of the deposition conditions (nitrogen pressure and substrate bias voltage) on the crystal orientation, morphology and microhardness of the Cr-N films has been investigated using x-ray diffractometer and scanning electron microscope. The impurities and contaminations on the surface and at the interface, and the layer-by-layer compositions of the film have been analyzed using scanning Auger multiprobe (SAM) and glow discharge spectroscope (GDS). The mixed state of Cr and Cr₂N turned out to have a fine fibrous structure. The Cr₂N films were deposited at a wide range of nitrogen flow rates. The orientations of Cr₂N films were mainly (110) and (111), and the intensity of the (111) peak increased as the substrate bias voltage increased. The microstructure of the Cr₂N film was dense and no columnar structure was observed. The films in the mixed state of Cr₂N and CrN were also dense without columnar structure. The maximum microhardness of the Cr-N films was 2400 kg/㎟ at 10 gf load.
Unidirectionally solidified TiAl alloys were prepared by optically-heated floating zone method at growth rates of 10 to 70 mm/h in flowing argon. The microstructures and tensile properties of these crystal bars were found to depend strongly on the growth rate and alloy composition. TiAl alloys with composition of 47 and 50 at.%Al grown under the condition of 10 mm/h showed $Ti_3Al({\alpha}_2)/TiAl({\gamma})$ layer structures similar to single crystals. As the growth rate increased, the alloys with 47 and 50 at.%Al compositions showed columnar-grain structures. However, the alloys fabricated under the condition of 10 mm/h had a layered structure, but the alloy with increased growth rate consisted of ${\gamma}$ single phase grains. The alloy with a 53 at.%Al composition showed a ${\gamma}$ single phase regardless of the growth rate. Room-temperature tensile tests of these alloys revealed that the columnar-grained material consisting of the layered structure showed a tensile ductility of larger than 4 % and relatively high strength. The high strength is caused by stress concentration at the grain boundaries; this enhances the secondary slip or deformation twinning across the layered structure in the vicinity of the grain boundaries, resulting in the appreciable ductility.
Dielectric thin films of PLT(28) ($(Pb_{0.72}La_{0.28})Ti_{0.93}O_3$) have been deposited on $Pt/Ti/SiO_2/Si$ substrates in situ by a laser ablation. We have systematically changed the laser fluence from 0.4 J/$cm^2$ to 3 J/$cm^2$, and deposition temperature from $450^{\circ}C\; to\; 700^{\circ}C$. The surface morphology was changed from planar grain structure to columnar structure as the nucleation energy was increased. The PLT thin film with columnar structure showed good dielectric properties. The deposition temperature influenced on nucleation energy much stronger than the laser energy density did.
In this paper, we report the changes of morphology, transmittance and photoluminescence (PL) in hydrogenated amorphous $As_{40}Ge_{10}Se_{15}S_{35}$ thin films, thermally deposited at the vapor incidence angles (${\theta}$) of $0^{\circ},\;45^{\circ}\;and\;80^{\circ}$. The hydrogenation was carried out under the condition of a $H_2$ pressure ($P_H$) of 20 atm and an annealing temperature range, $T_{Anneal}$ of $150^{\circ}C{\sim}210^{\circ}C$. A columnar structures with an inclination angle of approximately $65{\sim}70^{\circ}$ was formed in $80^{\circ}$-deposited films and then the columnar was broken after hydrogenation. Transmittance increases with an increase of deposition angle and by the hydrogenation. In particular, a broad PL band on the extended region is observed in obliquely deposited films and it increases during the hydrogenation.
D. Pizzocri;M. Di Gennaro;T. Barani;F.A.B. Silva;G. Zullo;S. Lorenzi;A. Cammi
Nuclear Engineering and Technology
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제55권11호
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pp.3983-3995
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2023
In fast reactors, restructuring of the fuel micro-structure driven by high temperature and high temperature gradient can cause the formation of columnar grains. The non-spheroidal shape and the non-uniform temperature field in such columnar grains implies that standard models for fission gas diffusion can not be applied. To tackle this issue, we present a reduced order model for the fission gas diffusion process which is applicable in different geometries and with non-uniform temperature fields, maintaining a computational requirement in line with its application in fuel performance codes. This innovative application of reduced order models as meso-scale tools within fuel performance codes represents a first-of-a-kind achievement that can be extended beyond fission gas behaviour.
반응결합 탄화규소(RBSC) 반응관을 보호하기 위하여, 반응결합 탄화규소 기판 위에 탄화규소를 1~10 범위의 입력기체비(${\alpha}=P_{H2}/P_{MTS}=Q_{H2}/Q_{MTS}$)와 1050~1300$^{\circ}C$범위의 증착온도에서 methyltrichlorosilane(MTS)로부터 수소분위기에서 저압화학기상법으로 증착하였다. 1250$^{\circ}C$의 증착온도에서 입력기체비가 감소함에 따라 증착속도는 증가하다가 감소하였다 입력기체비가 높을 때에는 (111) 우선배향성을 나타내고 과립형의 미세구조를 보이며, 입력기체비가 작을 경우에는 (220) 우선배향성을 가지는 마면주상의 미세구조가 관찰되었다. 증착온도가 증가함에 따라 입력기체비와 비슷하게 미세구조의 변화하는결과를 얻었으며, 이러한 결과는 증착기구의 변화와 밀접한 관련이 있다. 일정한 증착온도에서 입력기체비의 조정를 통하여 얻었으며, 이러한 결과는 증착기구의 변화와 밀접한 관련이 있다. 일정한 증착온도에서 입력기체비의 조절을 통하여 과립형과 미면주상의 미세구조를 함께 가지는 복층구조를 연속공정을 통하여 성공적으로 제조하였다.
The purpose of this study is to analyze the damage patterns and metal structure of 3 phase mold transformers collected from places where accidents have occurred. Compared to an oil-immersed transformer, a mold transformer has the advantage of requiring a smaller installation area and can be kept clean, while its disadvantages include the fact that abnormal symptoms of an accident are difficult to discover and its repair is impossible. The capacity of the mold transformers collected from places where accidents have occurred was 200kVA with primary voltages being F23,900V, R22,900V, 21,900V, 20,900V, 19,900V, etc., as well as secondary voltages being 380V, 220V, etc. It was found from the analysis on the diffusion of combustion in the damaged mold transformers that fire occurred first inside the U-phase primary winding and that carbonization and heat were diffused to V-phase and W-phase in V-pattern. In addition, from the analysis on the cross-sectional structure of the metal of the melted high voltage winding using a metallurgical microscope, it was found that the boundary surface, voids, and columnar structure were formed when an interlayer short-circuit had occurred Therefore, even though it is not possible to find the cause for the occurrence of an interlayer short-circuit at the inner side of the primary winding, it is thought that, due to the thermal energy generated when the short-circuit occurred, the heat source was diffused to the upper side and outside, causing a secondary accident.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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