An efficient method is proposed here to identify multiple damage cases in structural systems using the concepts of flexibility matrix and strain energy of a structure. The flexibility matrix of the structure is accurately estimated from the first few mode shapes and natural frequencies. Then, the change of strain energy of a structural element, due to damage, evaluated by the columnar coefficients of the flexibility matrix is used to construct a damage indicator. This new indicator is named here as flexibility strain energy based index (FSEBI). In order to assess the performance of the proposed method for structural damage detection, two benchmark structures having a number of damage scenarios are considered. Numerical results demonstrate that the method can accurately locate the structural damage induced. It is also revealed that the magnitudes of the FSEBI depend on the damage severity.
Nanocrystalline vanadium nitride (VN) coatings were deposited using asymmetric bipolar pulsed dc sputtering to further understand the influence of the pulsed plasmas on the crystal structure, microstructure and mechanical properties. Properties of VN coatings were investigated with FE-SEM, XRD and nanoindentation. The results show that, with the increasing pulse frequency and decreasing duty cycle, the coating morphology changed from a porous columnar to a dense structure, with finer grains. Asymmetric bipolar pulsed dc sputtered VN coatings showed higher hardness, elastic modulus and residual compressive stress than dc sputtered VN coatings. The results suggest that asymmetric bipolar pulsed dc sputtering technique is very beneficial for the reactive sputtering deposition of VN coatings.
본 논문은 탄탈 확산 방지막의 증착시 음의 기판 바이어스에 의한 탄탈막의 특성변화와 열적 안정성에 대해서 고찰하였다. 기판 바이어스를 걸지 않은 경우, 탄탈막은 원주형 모양의 결정 성장을 보이는 주상구조와 250 $\mu\Omega$cm의 높은 비저항값을 보였으나, 기판 바이어스를 걸어줌에 파라서 주상구조가 아닌 치밀한 미세구조와 표면이 평탄한 막이 형성되었고 비저항값도 현저히 감소되었으며, 특히 -125 V에서 증착된 탄탈막은 비저항값이 약 40 $\mu\Omega$cm로 이는 탄탈 벌크의 저항값 (13 $\mu\Omega$cm)에 근접한 값임을 알 수 있었다. 또한, 탄탈 확산 방지막의 열적 안정성에 대해서도, 기판 바이어스를 걸지 않은 탄탈막의 경우 $400^{\circ}C$에서 구리와 실리콘의 반응에 의해 비저항 값이 크게 증가한 결과에 비해, 기판 바이어스에 의해 증착된 탄탈막의 경우 $600^{\circ}C$까지 확산 방지막의 효과를 유지하고 있는 것으로 관찰되었다.
페놀과 피리딘 간의 단일 수소결합을 이용하여 새로운 형태의 자기 집합된 원반형 액정을 제조하고 그 액정 특성을 조사하였다. 원반형 구조 설계를 위해 phloroglucinol을 중심부 분자로, 체계적으로 알킬사슬 길이를 변화시킨 trans-4-alkoxy-4'-stilbazole을 주변 물질로 사용하였다. 적외선 분광 분석을 통해 중심부 분자와 주변 물질 사이의 분자간 수소결합이 성공적으로 형성됨을 확인하였고, 또한 수소결합의 안정성이 분자 정렬에 의해 크게 영향을 받음을 확인하였다. 자기 집합된 원반형 액정 복합체는 원반형 메소겐 주위의 알킬 사슬 길이에 따라 다른 액정상들을 나타내었다. 긴 알킬사슬을 함유하는 액정 복합체의 경우 육방형 컬럼상이 나타났으며, 상대적으로 짧은 사슬을 갖는 다른 액정 복합체에서는 네마틱 컬럼상이 형성되었다. 이는 자기 집합된 원반형 액정 복합체의 액정상 구조가 원반형 핵 단위 주변의 알킬사슬 길이에 의해 크게 영향을 받음을 의미하였다.
박막제조 기술은 과학 기술의 기초가 되는 분야로 양질의 박막을 제조하기 위한 다양한 노력이 경주되고 있다. 박막제조는 표면개질과 함께 표면처리 기술의 한 분야이며 이중 진공증착으로 알려진 물리증착법과 화학증착법은 현대의 과학기술 연구는 물론 산업적으로 폭넓게 이용되는 박막제조 기술 중의 하나이다. 진공증착을 이용한 박막제조 기술은 나노 기술의 등장과 함께 비약적인 발전을 이루었으며 자연모사와 완전화 박막의 제조, 융복합 공정을 이용한 기능성 코팅과 Engineered Structure 구현 그리고 초고속 증착과 원가 저감 기술의 실현이 주요 이슈로 등장하고 있다. 본 논문에서는 물리증착법과 화학증착법을 중심으로 박막제조 기술의 종류와 원리를 설명하고 박막제조 기술의 최신 동향과 기술적 이슈 및 향후 전망에 대해 기술한다.
$TiO_2$ films were deposited from oxygen/titanium tetraisopropoxide (TTIP) plasmas at low temperature by Helicon-PECVD at floating potential ($V_f$) or substrate self-bias of -50 V. The influence of titanium precursor partial pressure on the morphology, nanostructure and optical properties was investigated. Low titanium partial pressure ([TTIP] < 0.013 Pa) was applied by controlling the TTIP flow rate which is introduced by its own vapor pressure, whereas higher titanium partial pressure was formed through increasing the flow rate by using a carrier gas (CG). Then the precursor partial pressures [TTIP+CG] = 0:027 Pa and 0.093 Pa were obtained. At $V_f$, all the films exhibit a columnar structure, but the degree of inhomogeneity is decreased with the precursor partial pressure. Phase transformation from anatase ([TTIP] < 0.013 Pa) to amorphous ([TTIP+CG] = 0:093 Pa) has been evidenced since the $O^+_2$ ion to neutral flux ratio in the plasma was decreased and more carbon contained in the film. However, in the case of -50 V, the related growth rate for different precursor partial pressures is slightly (~15%) decreased. The columnar morphology at [TTIP] < 0.013 Pa has been changed into a granular structure, but still homogeneous columns are observed for [TTIP+CG] = 0:027 Pa and 0.093 Pa. Rutile phase has been generated at [TTIP] < 0:013 Pa. Ellipsometry measurements were performed on the films deposited at -50 V; results show that the precursor addition from low to high levels leads to a decrease in refractive index.
한국산 버들치속 (Rhynchocypris) 어류인 버들치 (Rhynchocypris oxycephalus)와 금강모치 (Rhynchocypris kumgangensis) 난모세포의 난막구조에 대해 광학현미경과 전자현미경으로 조사하였다. 두 종에 있어서 난형성과정은 비슷했으나 난모세포를 둘러싸는 여포세포층(follicular layer)에 있어서는 차이를 보였다. 버들치는 난황포(yolk vesicle)시기에 있어 여포세포층은 안쪽에 입방형 또는 둥근모양의 세포층(inner follicular layer)이 난막위에 형성되고 그 바깥쪽으로 편평세포층(outer follicular layer)의 2층으로 이루어져 있었다. 난모세포의 발생이 진행됨에 따라 inner follicular layer의 입방형세포는 원주형세포(columnar cell)로 바뀌게 된다. 난황구(yolk granule)시기에 원주형세포는 세포질에 부착물질인 mucin을 분비해서 난세포 전체를 둘러싸게 된다. 반면에 금강모치의 경우 버들치와 마찬가지로 난황포시기에 안층의 입방형 또는 둥근모양의 세포층과 바깥층의 편평세포층을 가지게 되지만 안층의 세포는 더 이상 변화를 보이지 않았으며, 부착물질 또한 형성되지 않았다. 이처럼 한국산 버들치속에 있어 난막의 구조적 차이는 두 종간에 뚜렷한 분류형질로도 이용될 수 있을 뿐 아니라 그들의 서식처 및 산란습성과도 연관이 있는 것으로 생각된다.
은대구의 소화관 상대길이 비는 1.52 (n=12)이며, 소화관은 위의 후방부에 5~6개의 유문수를 가진다. 점막주름의 형태는 식도와 위에서는 미분지형이지만 장에서는 분지형이다. 횡단면에서 소화관은 조직학적으로 점막층, 점막하층, 근육층 및 장막으로 구분할 수 있다. 식도의 점막상피층은 단층이며, 원주섬모상피세포들과 점액세포들로 구성된다. 위 점막층의 위선은 관상선으로 주세포, 벽세포 및 뮤신분비세포들로 구성된다. 뮤신분비세포는 원주형으로 AB-PAS (pH 2.5) 반응에서 분홍색과 푸른색을 나타내는 분비과립을 가진다. 장의 점막상피층은 단층이며, 원주섬모상피세포들과 배상세포들로 구성된다. 점막하층은 소성결합조직층으로 주로 교원섬유들로 구성되며, 식도에서 잘 발달되어 있다. 소화관의 근육층은 종주근층과 환상근층으로 구분되며, 위에서 잘 발달되어 있다. 간은 다수의 소엽구조와 담관들로 이루어져 있으며, H-E 염색에서 간세포의 세포질은 호산성이며, 핵과 인은 호염기성을 보였다. 췌장조직은 소화관 주변의 지방조직에 산재하며, 다수의 외분비세포들로 구성된 포상선이었다. H-E 염색에서 외분비선세포의 세포질은 호염기성을 나타내며, 다수의 호산성 전효소 과립들을 함유한다.
Brass was electrodeposited over the range of the current densities from 2 to 8 A/$dm^2$ in cyanide bath at 20 and 40$^{\circ}C$. The cathode overpotential increased and the cathode efficiency was decreased respectively with decreasing temperature, increasing current density and addition of organic substance. The perferred orientation of the deposits were associated with the cathode overpotential and the nucleation energy of lattice planes. The (111) preferred orientation developed at the low current density and low cathode overpotential (440-520mV). On the other hand, the (111)+(100) preferred orientation developed at higher cathode overpotential (528-680mV). The (111)+(100) preferred orientation developed over the whole range of overpotential in the cyanide solution with organic additive. The copper content of deposit decreased with increasing current density and decreasing temperature. The morphology of the deposits with no additive was the polygonal body type of structure and the structure of the cross section was columnar structure. The morphology of the deposits with additive, on the other hand, was fine crystallite type of structure. And the structure of the cross section of them was the finer granular structure.
NbN coatings were prepared by ICP (inductively coupled plasma) assisted magnetron sputtering from a Nb metal target in $Ar+N_2$ atmosphere at various ICP powers. Effect of ICP on the microstructure, crystalline structure and mechanical properties of NbN coatings was investigated by field emission electron microscopy, X-ray diffraction, atomic force microscopy and nanoindentation measurements. The results show that ICP power has a significant influence on coating microstructure, structure and mechanical properties of NbN coatings. With the increasing of ICP power, coating microstructure evolves from the columnar structure of DC process to a highly dense one. Crystalline structure of NbN coatings were changed from cubic ${\delta}$-NbN to hexagonal ${\beta}-Nb_2N$ with increase of ICP power. The maximum nano hardness of 25.4 GPa with Ra roughness of 0.5 nm was obtained from the NbN coating sputtered at ICP power of 200 W.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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