$Ce^{4+}$, $Eu^{3+}$, $Tb^{3+}$ co-doped $Ca_3Si_3O_8F_2$ phosphor was synthesized via solid state reaction method using $CaF_2$, $CaCO_3$ and $SiO_2$ as raw materials for the host and $Eu_2O_3$, $CeO_2$, and $Tb_4O_7$ as activators. The luminescent properties of the phosphor was analysed by spectrofluorophotometer at room temperature. The effect of excitation wavelengths on the luminescent properties of the phosphor i.e. under near-ultraviolet (nUV) and visible excitations was investigated. The emission peaks of $Ce^{4+}$, $Eu^{3+}$, $Tb^{3+}$ co-doped $Ca_3Si_3O_8F_2$ phosphor lays at 480(blue band), 550(green band) and 611nm (red band) under 380nm excitation wavelength, attributed to the $Ce^{4+}$ ion, $Tb^{3+}$ ion and $Eu^{3+}$ ions respectively. The results reveal that the phosphor emits white light upon nUV (380nm) / visible (465nm) illumination, and a red light upon 395nm / 535nm illumination. RE ions doped $Ca_3Si_3O_8F_2$ is a promising white light phosphor for LEDs. The emission colours can be seen using Commission international de l'eclairage (CIE) co-ordinates. A single host phosphor emitting different colours under different excitations indicates that it is a potential phosphor having applications in many fields.
50 nm pitch의 magnetic dot pattern을 갖는 hard disk drive용 patterned media를 nanoimprint lithography(NIL) patterning과 electroplating 공정을 이용하여 제작하고 자기 및 결정구조 특성을 관찰하였다. Patterned media는 Si(100) wafer 위에 Ru(20nm)/Ta(5 nm)/$SiO_2$(100 nm)를 순차적으로 증착한 후 nanoimprint lithography를 이용하여 25 nm half pitch의 hole pattern을 형성하고 그 후 패터닝된 기판을 plasma ashing 공정을 이용하여 기판의 Ru층을 노출시킨뒤 electroplating을 이용하여 Co-Pt 합금막을 증착하여 제작하였다. Magnetic force microscopy(MFM) 분석을 이용하여 제작된 각각의 magnetic dot pattern이 single domain 특성과 수직자기이방성을 가지고 있음을 확인하였고, superconducting quantum interference device(SQUID) 분석을 통하여 2900 Oe이상의 높은 수직방향 보자력을 확인하였다.
Recently, many studies have been carried out to process on the purpose of lightness in a transport parts because of the saving energy, the environmental problem. The cast-forging process can be expected to lower costs without decreasing the mechanical properties. So, the finest microstructure is needed to get for applying the cast-forging process with Al-Si alloy because the microstructure affects to the cast-forging process. For refinement treatment of eutectic Si and Al solid-solution phase, Sr and TiB were added in Al-Si alloys. The finest microstructure could be observed when 0.075 wt.%Sr and 0.1 wt.%TiB were added respectively. In this case, tensile strength and elongation much more increased than as casting. After high temperature deformation simulation test with grain refinement specimens was carried out, about 70N per unit $area(mm^2)$ of specimen was confirmed. After hot forging, tensile strength and elongation were increased. It was considered because casting defect was removed by compressive working.
연자성 재료는 투자율이 높고, 큰 포화자속 밀도를 갖는 재료로서 외부자계에 용이하게 자화되며, 그 용도를 살펴보면 전기에너지 변환, 자기기록. 변압기, 변성기, 각종 코아, 모터, 자기센서, 전ㆍ자계차폐재등 많은 전자기기에 이용되고 있다. 따라서 연자성재료는 기본적으로 결정자기이방성과 자왜가 작아야 한다. 한편 전기, 전자기의 경량화 및 고효율화를 위하여서는 포화자속밀도의 극대화, 고주파영역에서의 우수한 연자기 특성 및 저에너지 손실을 갖는 재료개발이 요구된다. (중략)
The properties of electroless Ni-B thin film on diamond powder with different parameters (temperature, pH, surfactant etc.) were studied. The surface morphology, structure and composition distribution of the Ni-B film were observed by field effect scanning electron microscope (FE-SEM), energy-dispersive spectrometer (EDS), X-ray diffraction (XRD) and Auger electron spectroscopy (AES). The growth rate of Ni-B film was increased with increase of bath temperature. The B content in Ni-B film was reduced with increase of bath pH. As a result the structure of Ni-B film was changed from amorphous to crystalline structure. The PVP in solution plays multi-functional roles as a dispersant and a stabilizer. The Ni-B film deposited with adding 0.1 mM-PVP was strongly introduced an amorphous structure with higher B content (25 at.%). Also the crystallite size of Ni-B film was reduced from 12.7 nm to 5.4 nm.
A T-800 (Co-Mo-Cr) coating material is fabricated using Co-Mo-Cr powder feedstock and laser cladding. The microstructure and melted Al erosion properties of the laser-cladded T-800 coating material are investigated. The Al erosion properties of the HVOF-sprayed MoB-CoCr and bulk T-800 material are also examined and compared with the laser-cladded T-800 coating material. Co and lave phases (Co2MoCr and Co3Mo2Si) are detected in both the laser-cladded T-800 coating and the bulk T-800 materials. However, the sizes of the lave phases are measured as 7.9 ㎛ and 60.6 ㎛ for the laser-cladded and bulk T-800 materials, respectively. After the Al erosion tests, the erosion layer thicknesses of the three materials are measured as 91.50 ㎛ (HVOF MoB-CoCr coating), 204.83 ㎛ (laser cladded T-800), and 226.33 ㎛ (bulk T-800). In the HVOF MoB-CoCr coating material, coarse cracks and delamination of the coating layer are observed. On the other hand, no cracks or local delamination of the coating layer are detected in the laser T-800 material even after the Al erosion test. Based on the above results, the authors discuss the appropriate material and process that could replace conventional bulk T-800 materials used as molten Al pots.
본 연구에서는 산업부산물인 고로슬래그, 레드머드, 실리카 흄 등을 사용하여 콘크리트의 혼화재가 아닌 시멘트 대체재로 사용하여 시멘트 제조시 배출되는 $CO_2$가스 및 환경부하를 저감하고자 하였다. 고로슬래그, 레드머드, 실리카 흄 등을 혼합한 저탄소 무기결합재에 알칼리 자극제만으로 고온의 소성과정없이 상온에서 제조하기 위한 최적배합을 도출하고자 하였다. 이를 위해 CaO 함유량 및 Si/Al, 알칼리 자극제 혼합비율 및 양, 양생조건 및 W/B 변화에 따른 경화성상 및 압축강도시험을 실시하였다. 시험분석 결과, 저탄소 무기결합재의 최적배합은 CaO 함유량 30%, Si/Al 4, 알칼리 자극제 혼합비율$(NaOHg:Na_2SiO_3g)$ 50g:50g, 알칼리 자극제 양 100g, W/B 31%인 것으로 판단된다. 또한 무기결합재의 단점인 수축을 보완한다면 보다 우수한 성능의 저탄소 무기결합재의 개발이 가능할 것으로 판단된다.
한국정보디스플레이학회 2005년도 International Meeting on Information Displayvol.I
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pp.793-796
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2005
A structure and a design of device were developed to fabricate large-scale active matrix organic light-emitting diode (AMOLED) display with good color purity and high aperture ratio. With these technologies, we developed a full color 14.1 inch WXGA AMOLED display. For the integration of OLED on an active matrix a-Si TFT backplane, an efficient top emission OLED is essential since the TFT circuitry covers a large position of the pixel aperture. These technologies will enable up the OLED applications to larger size displays such as desktop monitors and TVs.
Methods of producing hydrogen include steam reforming, electrochemical decomposition of water, and the SI process. Among these methods, the Sulfur iodine process is one of the most promising processes for hydrogen production. The thermochemical sulfur-iodine (SI) process uses heat from a high-temperature-gas nuclear reactor to produce $H_2$ gas; this process is known for its production of clean energy as it does not emit $CO_2$ from water. But the SI-process takes place in an extremely corrosive environment for the materials. To endure SI environments, the materials for the SI environment will have to have strong corrosion resistance. This work studies the corrosion resistances of the Fe-Si, Ni-Ti and Ni Alloys, which are tested in SI-process environments. Among the SI-process environments, the conditions of boiling sulfuric acid and decomposed sulfuric acid are selected in this study. Before testing in boiling sulfuric acid environments, the specimens of Fe-4.5Si, Fe-6Si, Ni-4.5Si, Ni-Ti-Si-Nb and Ni-Ti-Si-Nb-B are previously given heat treatment at $1000^{\circ}C$ for 48 hrs. The reason for this heat treatment is that those specimens have a passive film on the surface. The specimens are immersed for 3~14 days in 98wt% boiling sulfuric acid. Corrosion rates are measured by using the weight change after immersion. The corrosion rates of the Fe-6Si and Ni-Ti-Si-Nb-B are found to decrease as the time passes. The corrosion rates of Fe-6si and Ni-Ti-Si-Nb-B are measured at 0.056 mm/yr and 0.16 mm/yr, respectively. Hastelloy-X, Alloy 617, Alloy 800H and Haynes 230 are tested in the decomposed sulfuric acid for one day. Alloy 800H was found to show the best corrosion resistance among the materials. The corrosion rate of Alloy 800H is measured at -0.35 mm/yr. In these results, the corrosion resistance of materials depends on the stability of the oxide film formed on the surface. After testing in boiling sulfuric acid and in decomposed sulfuric acid environments, the surfaces and compositions of specimens are analyzed by SEM and EDX.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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