최근 Ruthenium (Ru)은 높은 화학적 안정성, 누설전류에 대한 높은 저항성, 저유전체와의 높은 안정성 등과 같은 특성으로 인해 캐패시터의 하부전극으로 각광받고 있다. 이렇게 형성된 Ru 하부전극은 각 캐패시터간의 분리와 평탄화를 위해 CMP 공정이 도입되게 되었다. 이러한 CMP 공정후에는 화학적 또는 물리적 상호작용에 의해 웨이퍼 표면에 오염물이 발생할 수 있다. CMP 공정중에 공급되는 슬러리에는 부식액, pH 적정제, 연마입자등이 첨가되는데 이때 사용된 연마입자는 CMP 공정후 입자오염을 유발할 수 있다. 그러므로, CMP 공정후에는 이러한 오염으로 인해 cleaning 공정이 반드시 필요하게 되었다. 하지만, Post Ru CMP cleaning에 대한 연구는 아직 미비한 상태이다. 그리하여 본 연구에서는 post Ru CMP cleaning에 대한 연구와 cleaning solution 그리고 첨가제에 따른 영향을 살펴보았다.
가죽제품 신발은 물 세척을 할 수 없기 때문에 물을 이용하지 않으면서 신발 내⋅외부의 이물질을 제거하고, 신발 내부를 살균할 수 있는 세척 방법이 필요하다. 이를 위해 이 논문에서는 물을 사용하지 않고 고압의 압축공기와 살균 약액 및 자외선 램프롤 이용하여 신발 내⋅외부를 신속하게 세척하는 신발세척기에서 신발 세척의 전 과정을 자동으로 제어하는 신발세척기 제어 시스템을 개발한다. 개발 시스템은 범용 단일보드 컴퓨터(SBC:single board computer)인 라즈베리파이(RaspberryPi)를 이용하여 신발 세척기의 각종 구동 장치들(actuators)을 제어한다. 개발 시스템에 의해 운영되는 신발 세척기는 1분 이내의 세척 시간에 99% 이상의 살균력과 86%이상의 악취제거 효율을 보여준다.
자동차, 기계금속, 전자 등 여러 산업에서는 부품 가공 중의 세정 과정에서 금속가공유와 각종 세정첨가물이 함유된 많은 폐수를 발생시킨다. 본 연구에서는 수용성 또는 비수용성 금속가공유로 오염된 수계 및 준수계 세정폐수를 한외여과막시스템을 이용하여 처리하고자 하였다. 이 실험에서 막을 친수성인 polyacrylonitrile(PAN)을 사용하고 막의 크기 및 오염물의 농도 변화에 따른 한외여과막 투과수량과 유수분리 성능(COD제거율)을 측정하여 한외여과법 처리의 적정성 여부를 조사 분석하였다. 그 결과 수계 또는 준수계세정제와 수용성 가공유로 오염된 가공폐수의 경우 한외여과막의 크기가 10 kDa에서 100 kDa로 증가함에 따라 COD 제거율은 90 wt%-95 wt%로 거의 일정하지만 투과플럭스는 4배 이상 증가하였다. 그리고 금속가공폐수의 오염물 농도가 3 wt%에서 10 wt%로 증가할수록 한외여과막의 COD 제거율은 증가하지만 투과플럭스는 감소하였다. 그러나 수계 또는 준수계세정제와 비수용성 오일로 오염된 가공폐수의 경우 오염물의 농도가 증가할수록 COD 제거율은 거의 일정하지만 투과플럭스는 급격히 감소함을 보여 주었다. 이러한 현상은 한외여과막 재질이 친수성인 PAN이기 때문에 비수용성 오일이 막을 통과하지 못하고 막의 기공을 막기 때문인 것으로 추론된다. 따라서, 수용성 오일이 함유된 세정액은 막재질이 PAN이고 세공크기가 100 kDa인 한외여과법 처리가 적정한 것으로 판단되었다. 이러한 기초실험 결과를 활용하여 PAN 재질의 막(MWCO=100 kDa)을 사용한 한외여과 pilot 시스템을 설치 운전하여 수용성 인발유로 오염된 알칼리 세정 폐액을 처리하고 알칼리세정제와 인발유를 재활용하고자 하였다. 현장 실험 결과 한외여과 공정은 수계세정제와 수용성오일을 효과적으로 분리하여 재활용할 수 있었고 기존 공정에 비하여 세정제 사용수명을 12배 이상 증가시킬 수 있었다.
본 논문에서는 RGP 렌즈에 부착된 누액 성분의 세척효과 및 RGP 렌즈의 습윤성 유지에 대한 RGP 렌즈 관리용액, 소프트콘택트렌즈(SCL) 관리용액, RGP 렌즈-SCL 겸용관리용액 및 생리식염수의 작용의 차이를 알아 보았다. 단백질 세척력을 알아보기 위해 Lowry protein assay와 주사현미경 관찰을 하였으며, 지질 세척력을 알아보기 위해 High Pressure Liquid Chromatology(HPLC)를 사용하였고, 습윤성은 water-in-air 방법으로 접촉각을 측정하여 알아 보았다. RGP 렌즈관리용액으로 RGP 렌즈를 세척 및 보관하였을 때 부착된 단백질의 62%가 제거되었으며, 이러한 단백질 부착물 세척력은 생리식염수나 겸용 관리용액에 비해 약 4배 우수한 것일 뿐만 아니라 SCL 관리용액에 비해 2배 우수한 것이었다. 이러한 결과는 소프트 콘택트렌즈에서의 SCL 관리용액의 단백질 세척력이 가장 우수하다는 것과 상이한 결과로, 세척 효과가 단순히 계면활성제의 활성만의 차이에 의해 나타나는 것은 아니며 RGP 렌즈 관리용액에 들어있는 점성증가제와 같은 성분들이 RGP 렌즈와 용액의 접촉을 증가시켜 세척효과가 강화되는 것과 같이 다른 요인들이 작용하여 나타나는 결과로 여겨진다. RGP 렌즈에 부착되어 있는 지질 또한 RGP 렌즈 관리용액이 가장 우수한 지질세척 효과를 가져 렌즈에 잔존하는 cholesterol의 양이 50%로 감소하였다. RGP 렌즈의 편안한 착용감을 위한 중요한 평가 지료인 렌즈 표면의 습윤성은 RGP 렌즈 관리용액에 의해 가장잘 유지되었다. 겸용 관리용액의 경우 세척력 및 습윤성 유지력이 모두 RGP 렌즈 용액에 못 미쳤다.
It is important in dentistry that the provisional cement should be cleaned thoroughly from the crown before definitive cementation. The provisional cement has been removed by physical means such as curette, scaler, pumice, or sand-blasting with alumina particles, which is time-consuming, irritating, tedious, even causing crack. To avoid such troubles occurring through such physical cleaning means, the chemical solutions for dissolving the provisional cement remaining in dental crown were prepared, and solubilizing power of the solutions was measured and compared. The solution composed of MEA, NaOH, chloride chemicals ($CHCl_3$, $CCl_4$, $CH_2Cl_2$), surfactants (Igepal, Tween20), chelating agent (EDTA), and Ethyl cellosolve was most effective for dissolving the provisional cement.
Transparent, photocatalytic, and self-cleaning TiO2 thin film is developed by TiO2 sol-gel coating on glass and polycarbonate (PC) substrates. Acetyl acetone (AcAc) suppresses the precipitation of TiO2 by forming a yellowish (complex) transparent sol-gel. XPS analysis confirms the presence of Ti2p and O1s in the thin films on glass and PC substrates. The TiO2-sol is prepared by stabilizing titanium (IV) isopropoxide (TTIP) with diethylamine and methyl alcohol. The addition of AcAcsilane coupling solution to the TiO2-sol instantaneously turns to yellowish color owing to the complexing of titanium with AcAc. The AcAc solution substantially improves the photocatalytic property of the TiO2 coating layer in MB solutions. The coated TiO2 film exhibits super hydrophilicity without and with light irradiation. The TiO2 thin film stabilized by adding 8.7 wt% AcAc shows the highest photo-degradation for methylene blue (MB) solution under UV light irradiation. Also, the optimum photocatalytic activity is obtained for the 8.7 wt% AcAc-stabilized TiO2 coating layer calcined at 450 ℃. The thin-films on glass exhibit fast self-cleaning from oleic acid contamination within 45 min of UV-light irradiation. The appropriate curing time at 140 ℃ improves the anti-fogging and thermal stability of the TiO2 film coated on PC substrate. The watermark-free PC substrate is particularly beneficial to combat fogging problems of transparent substrates.
In this research, we proceeded with research on plasma resistance of the cleaning process of APS(Atmospheric Plasma Spray)-Y2O3 coated parts used for semiconductor and display plasma process equipment. CF4, O2, and Ar mixed gas were used for the plasma environment, and respective alconox, surfactant, and piranha solution was used for the cleaning process. After APS-Y2O3 was exposed to CF4 plasma, the surface changed from Y2O3 to YF3 and a large amount of carbon was deposited. For this reason, the plasma corrosion resistance was lowered and contamination particles were generated. We performed a cleaning process to remove the defect-inducing surface YF3 layer and carbon layer. Among three cleaning solutions, the piranha cleaning process had the highest detergency and the alconox cleaning process had the lowest detergency. Such results could be confirmed through the etching amount, morphology, composition, and accumulated contamination particle analysis results. Piranha cleaning process showed the highest detergency, but due to the very large thickness reduction, the base metal was exposed and a large number of contaminated particles were generated. In contrast, the surfactant cleaning process exhibit excellent properties in terms of surface detergency, etching amount, and accumulated contamination particle analysis.
Self-cleaning and photocatalytic $TiO_2$ thin films were prepared by a facile sol-gel method followed by spin coating using peroxo titanic acid as a precursor. The as-prepared thin films were heated at low temperature($110^{\circ}C$) and high temperature ($400^{\circ}C$). Thin films were characterized by X-ray diffraction(XRD), Field-emission scanning electron microscopy(FESEM), UV-Visible spectroscopy and water contact angle measurement. XRD analysis confirms the low crystallinity of thin films prepared at low temperature, while crystalline anatase phase was found the for high temperature thin film. The photocatalytic activity of thin films was studied by the photocatalytic degradation of methylene blue dye solution. Self-cleaning and photocatalytic performance of both low and high temperature thin films were compared.
This paper describes the development process of mosquito trap with the effect of air cleaning by using the substance-field analysis and evolution pattern of systems in the theory of inventive problem solving (TRIZ). By the concept of standard solution about introducing S3 substance, modification of S1 (human) and S2 (mosquito) between first substance SI and second substance S2 with harmful effect, we got the concept of the mosquito trap with mosquito attractants instead of mosquito reluctants such as mosquito stick coil and skin medicine w~th bad and toxic smell. The number of mosquitos traped by one trap near cattle shed per one n~ght in summer, was over 10 thousands with some effects of air cleaning.
본 연구는 고구려 벽화고분인 진파리 1, 4호분 벽화의 표면에서 관찰되는 백색과 흑갈색 오염물제거 방안수립을 위해 진행되었으며, 현장 적용실험을 실시하였다. 사전조사에서 금속현미경과 SEM/EDX를 이용하여 백색과 흑갈색 오염물질 시료의 관찰과 성분분석이 실시되었다. 시료에 대한 연구 결과 백색 오염물질은 $CaSO_4$ 혹은 $CaCO_3$로 흑갈색 오염물질은 황산칼슘화합물 혹은 $CaCO_3$와 토양침적물로 추정되며, 백색과 흑갈색 오염물질 제거를 위해 음이온교환수지와 Ammonium bicarbonate를 처리제로 선정하였다. 두 가지 모두 각각의 처리 대상에 대해 양호한 효과를 나타냈으며, 일부 피각형태로 고착화된 오염물질에 대해서는 물리적인 처리법의 병행이 필요한 것으로 확인되었다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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