Park, Eun Kyeong;Yang, Yun Seok;Lee, Ka Ram;Yoo, Young Tae
Journal of the Korean Society of Manufacturing Technology Engineers
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v.22
no.4
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pp.643-651
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2013
This study applied a laser cleaning method (dry cleaning) that is used for cleaning semiconductor elements to dental implant cleaning. The lasers used in this study were pulsed fiber lasers with wavelengths of 1,064 and 532 nm. The peak output, energy per pulse, energy density per pulse, time of pulse experiment, and number of pulse experiments served as process variables for this study, and the variables were changed for each experiment. As a result, a laser with a wavelength of 532 nm showed much higher cleaning efficiency than its 1,064 nm counterpart. As the wavelength range decreased, the quantized energy increased and the reflection rate of the titanium used for the implant decreased; consequently, the energy absorption rate increased. Therefore, it is proposed that the energy density by wavelength has a greater influence on cleaning than does the output size.
We searched at the "PubMed.gov" and "jendodon.com" sites to conduct a literature review on dental instruments that are reused in clinical settings and on infection control involving pre-disinfection or sterilization cleaning/rinsing. The keyword "dental clean" was used for the Web search. We found the present official definition of instrument cleaning performed prior to disinfection or sterilization rather limiting ("removal of foreign matter (soil, organism, etc.) from the instruments"). Thus, we proposed to expand the definition to include the removal of oils applied to protect the metallic instruments and from corrosion, stains, and rust resulting from the frequent reuse of the instruments. Clinicians are found to clean their dental instruments (a) immediately after treating their patients or (b) following their treatment but not immediately afterward. In the latter case, we recommend presoaking to be added. Ultrasonic sterilization of 5~15 minutes is found to be more effective in terms of eliminating residual matter from the instruments compared to other methods. To check on the cleaning results, we recommend visual inspection, which can be quick and practical in clinical settings. The latest products being developed and marketed on the market address the related problems. Nonetheless, research must be continued on the effects of presoak, cleaning/rinsing, disinfection, and high-temperature or heating-based sterilization on the dental instruments and on dental clinicians' practices in cleaning, disinfection, and sterilization. We advise dental clinicians to select the proper cleaning methods and detergents for their instruments to help eliminate or prevent corrosion, staining, and rusting, to reduce the maintenance costs, and to ensure user-friendly instruments/apparatuses.
kwang sik Jung;No, Yong-Jun;Lim, Young-Cheol;Ryoo, Young-Jae
제어로봇시스템학회:학술대회논문집
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2002.10a
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pp.108.1-108
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2002
This paper is willing to propose a method of wall tracing, a moving algorithm between two points, when a Cleaning robot between two points moves. We use the information about obstacles and wall side in calculating different weight vector the each infrared sensors in cleaning robot. Therefore the cleaning robot navigates the wall. In the algorithm of wall tracing, the value of error in angle and distance between starting point and ending point should be zero to navigate the wall safely. The propriety of algorithm of the wall tracing is simulated as this method by using Visual C++. The result simulated proved to the simulation.
In most of industrial fields, cleaning is employed for removing soils on their products or parts. Halogenated cleaning agents such as CFC-113, 1,1,1-TCE(1,1,1-trichloroethane), MC(methylene chloride) and TCE (trichloroethylene) have been used as cleaning ones in most of companies in the world since their excellent performance of cleaning ability and good material compatibility. However, CFC-113 and 1,1,1-TCE which are ozone destruction substances are not used any more in the advanced countries because of the which are ozone destruction substances are not used any more in the advanced countries because of the Montreal protocol. MC and TCE are now used restrictively at small part of industrial fields in most of countries since they are known to be hazardous or carcinogenic materials. Thus, it is indispensible that the alternative cleaning agents which are environmental-friendly and safe, and show good cleaning ability should be developed or utilized for replacement of the halogenated cleaning agents. Aqueous/semi-aqueous cleaning agents are evaluated to be promising alternative ones among various alternatives in environmental and economical view point. In this study, commercially available 12 aqueous and 6 semi-aqueous cleaning agents were selected and their physical properties, cleaning abilities, rinsing abilities and recycling of contaminated rinse water were measured and analyzed. Aqueous cleaning agents with higher wetting index showed better cleaning ability compared with those with lower wetting index. However wetting index did not have any correlation with cleaning ability in semi-aqueous cleaning agents. It was observed that soil concentration in aqueous and semi-aqueous cleaning agents should be maintained below the certain concentrations which depend on types of clearing agents. More than 70% soils in contaminated rinse water by some of aqueous and semi-aqueous clearing agents could be separated by simple settling method. This means that some cleaning agents with high oil-water separation efficiency will be effiective for recycling oil-contaminated rinse water. It was found that contaminated rinse water with aqueous agents was purified easiy by ultrafiltration method with PAN membrane of 30 kDa.
In this paper efficient method for particle removal from silicon wafers by usage of HF and ozone was studied. It was found that at least 0.3 vol% concentration of HF was required for particle removal and removal efficiency increased with the application of megasonic in ozonated water. Additional cleaning with minute amount of ammonia (0.01 vol%) after HF/Ozone step showed over 99% in removal efficiency. It is proposed that the superior cleaning efficiency of HF-Ozone-ammonia is due to micro-etching of silicon surface and impediment of particle re-adsorption in alkali environment. Compared to SC-1 cleaning method micro roughness has also been slightly improved. Therefore it is expected that HF-ozone-ammonia cleaning method is a viable alternative to the conventional wet cleaning methods.
Ballast gravel in a railroad field is often polluted by grease and heavy metals. In this paper, the performances of a dry cleaning method for polluted ballast gravel in which pollutants on the gravel surface can be physically removed was extensively studied. A polluted ballast cleaning device able to shoot emery blasting media onto the surface using compressed air was prepared. Polluted ballast gravel was put into this device for cleaning, with the treatment time varied from 1 to 10 min. The cleaning efficiency of the total petroleum hydrocarbons and heavy metals were studied. The total petroleum hydrocarbon removal efficiency was 70-80% for gravels sampled from a locomotive waiting line, while it was 40-60% for gravels sampled from a turnout area. The heavy metal removal efficiency exceeded 90% for copper and lead, while it was 65-80% for nickel and zinc. This system was found to be effective for the remediation of polluted ballast gravels.
Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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2010.05a
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pp.24.1-24.1
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2010
In practical operation, the exposed surfaces may get dirty thus degrade the performance of devices. So the combination of self cleaning and antireflection is very desirable for use in outdoor photovoltaic and displaying devices, self cleaning windows and car windshields. For the purpose of self cleaning, the surface needs to be either superhydrophobic or superhydrophilic. However, in practice AR in the visible region and self cleaning are a pair of competitive properties. To satisfy the requirements for superhydrophobic or superhydrophilic surfaces, high surface roughness is required. But it usually cause severely light scattering. Photo-responsive coatings (TiO2, ZnO etc.) can lead to superhydrophilic. However, the refractive indices are high. Thus for porous structure, controlling pore size in the underwavelength scale to reduce the light scattering is very crucial for highly transparent and self cleaning antireflection coating. Herein, we demonstrate a simple method to make high performance broadband antireflection layer on the glass surface, by "carving" the surface by hot alkali solution. Etched glass has superhydrophilic surface. By chemical modification, it turns to superhydrophobic. Enhanced transparency (up to 97%) in a broad wavelength range was obtained by short time etching. Also antifogging effect has been demonstrated, which may offer advantage for devices working at high humidity environment or underwater. Compositional dependence of the properties was observed by comparing three different commercially available glasses.
As the minimum feature size decreases, techniques to avoid contamination and processes to maintain clean wafer surfaces have become very important. The deposition and detachment of nanoparticles from surfaces are major problem to integrated circuit fabrication. Therefore, cleaning technology which reduces nanoparticles is essential to increase yield. Previous megasonic cleaning technology has reached the limits to reduce nanoparticles. Megasonic cleaning is one of the efficiency method to reduce contamination nanoparticle. Two major mechanisms are active in a megasonic cleaning, namely, acoustic streaming and cavitation. Acoustic streaming does not lead to sufficiently strong force to cause damage to the substrates or patterns. Sonoluminescence is a phenomenon of light emission associated with the cavitation of a bubble under ultrasound. We studied a correlation between sonoluminescence and sound pressure distribution for the minimum of pattern damage in megasonic cleaning.
Journal of the Korea Society of Computer and Information
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v.29
no.7
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pp.21-32
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2024
Since leather shoes cannot be washed with water, there is a need for a cleaning method that can remove extraneous substance from the inside and outside of shoes and senitize the inside of shoes without using water. For this purpose, this paper develops a shoes cleaning machine control system that automatically controls the entire process of shoes cleaning in a shoes cleaning machine that quickly cleans the inside and outside of shoes using compressed air, sterilization solution. The developed system uses Rasberry Pi, a general purpose single board computer(SBC), to control various actuators of the shoes cleaning machine. The shoes cleaning machine operated by the developed system shows a sterilization efficiency of more than 99% and an odor removal efficiency of more than 86% in a cleaning time of less than 1 minute.
In this study, we optimized the removal condition of contaminants attached on the scrap surface to recycle the scrap generated from the Zr alloy tube manufacturing process back to the nuclear grade. The main contaminant is remnant of watersoluble cooling lubricant that is used in the pilgering manufacture during the tube production, and it is assumed to be compressed and carbonized on the surface of tube. Zirlo alloy tube of ${\phi}9.50mm$, which has high occurrence frequency of scrap, was selected as the object to be cleaned, and cleaning abilities of reagents were evaluated by measuring the characteristics of contaminants remained and by analyzing the surface of the tube after cleaning process. For evaluation of each cleaning agent, we selected two types of sodium hydroxide series and three types of potassium hydroxide series. Furthermore, to confirm dependence on tempe-rature and ultrasonic intensities, cleaning at the room temperature, $40^{\circ}C$, and $60^{\circ}C$ was conducted, and results showed that higher the cleaning temperature and higher the ultrasonic intensity, better the cleaning effect. As a result of the bare-eye inspection, while the use of sodium hydroxide provided satisfactory condition on the tube surface, the use of potassium hydroxide series provided satisfactory condition on the tube surface only when the ultrasonic intensity was over 120 W. In the cleaning effect analysis using the gravimetric method, cleaning efficiency of sodium hydroxide series was as high as 97.6% ($60^{\circ}C$, 120 W), but since the tube surface condition was poor after the use of potassium hydroxide, the gravimetric method was not appropriate. In the analytical result of surface contaminants on the tube surface, C, O, Ca, and Zr were detected, and mainly C and O dominated the proportion of contaminants. It was also found that the degree of cleaning on the tube affected the componential ratio of C and O; if the degree of cleaning is high, or if cleaning is well-conducted, the proportion of C is decreased, and the proportion of O is increased. Based on these results, optimal cleaning for application in the industry can be expected by categorizing cleaning process into three steps of Alkali cleaning, Rinsing, and Drying and by adjusting cleaning parameters in each step.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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