진공 증착한 CdS 박막의 질소 이온 주입 효과를 X-선 회절 검사, 광 투과율, 라만 산란 특성을 통하여 조사하였다. 질소 이온 주입하지 않은 CdS 박막은 (0 0 2)면으로의 우선 방위를 가지고 성장하였다. 질소 이온 주입한 시편의 경우 metallic Cd가 형성됨을 XRD 분석 결과 알 수 있었다. 가시광 영역에서의 광투과율은 질소 이온 주입 양이 많아짐에 따라 크게 감소하였다. 또한 질소 이온 주입 양에 따라 CdS 박막의 흡수 계수는 지수 함수적으로 증가하였고, 밴드 갭은 감소하였다 CdS 박막의 라만 peak 위치는 질소 이온 주입 양에 관계없이 299 cm-1로 거의 일정하지만, peak의 FWHM은 이온 주입 양이 증가함에 따라 커졌고, peak 면적은 감소하였다.
By substituting Cd$\^$2+/ into both A-site and B-site in PNN-PZ-PT ternary perovskite material, it is possible to determine the effects of the substitution site of Cd$\^$2+/ on sintering behavior. Sintering was performed in the temperature range from 1000$^{\circ}C$ to 1300$^{\circ}C$. The substitution site of Cd$\^$2+/ is identified by XPS spectra. Although Cd$\^$2+/ is substituted into both A-site and B-site in PNN-PZ-PT, Cd$\^$2+/ prefers A-site to B-site. The density is influenced by substitution site of Cd$\^$2+/. If Cd$\^$2+/ replaces Pv$\^$2+/, weight gain is observed during sinterig process. On the contrary, if Cd$\^$2+/ replaces Ni$\^$2+/, weight loss is promoted during sintering. From these weight changes, it is believed that Cd$\^$2+/ changes the bonding strength between B-site cation and oxygen of octahedron in perovskite structure. The changes of lattice parameters as a function of Cd$\^$2+/ content were consistent with those of the bonding strength. The densities of A-site-doped compositions were higher than those of B-site-doped composition.
$[Cd(N_3)_2(2-ethylimidazole)_2]$ 착물을 합성하고 단결정 X-선 회절법으로 구조를 규명하였다. 이 착물은 단사정계, 공간군 Cc, a=16.200(3), b=12.926(3), $c=7.007(1){\AA}$, ${\beta}=102.29(3)^{\circ}$, $V=1433.7(5){\AA}^3$, Z=4로 결정화되었으며, 1874 개의 독립적인 회절반점에 대한 최종 신뢰도 인자 $R_1$ 및 ${\omega}R_2$ 값은 각각 0.0239 및 0.0604 이었다. Cd(II) 금속 원자는 4개의 azido 리간드와 2개의 2-ethylimidazole 리간드의 질소 원자가 배위되어 약간 찌그러진 팔면체 구조를 나타낸다. c 축 방향으로 배열되어 있는 Cd(II) 금속 원자 사이를 azido 리간드가 end-on (${\mu}-1$,1) 형태로 bridge 하고 2-ethylimidazole 리간드가 시스 형태로 결합하여 이 착물은 1차원의 zigzag 사슬 구조를 형성한다.
In this paper, structual, optical and electrical properties of CdTe thin films prepared by electron beam evaporation method were studied. The crystal structure of CdTe films deposited at substrate temperature of $100{\sim}400^{\circ}C$ was zincblend type with preferential orientation of the (111)plane parallel to the substrate. The result of optical absoption and transmittance show that solar radiation with energy larger than band gap is almost completely absorbed within an about $2{\mu}m$ thickness of the evaporated CdTe layer and optical band gap of the CdTe film was larger with increasing substrate temperature. The resistivity of CdTe films deposited on the glass substrate was about $10^5{\sim}10^7{\Omega}cm$.
As the essential techniques for the CD (Critical Dimension) measurement of the LCD pattern, there are various modules such as an optics design, auto-focus [1-4], and precise edge detection. Since the operation of image enhancement to improve the CD measurement repeatability, a ring type of the reflected lighting optics is devised. It has a simpler structure than the transmission light optics, but it delivers the same output. The edge detection is the most essential function of the CD measurements. The CD measurement is a vital inspection for LCDs [5-6] and semiconductors [7-8] to improve the production yield rate, there are numbers of techniques to measure the CD. So in this study, a new subpixel algorithm is developed through facet modeling, which complements the previous sub-pixel edge detection algorithm. Currently this CD measurement system is being used in LCD manufacturing systems for repeatability of less than 30 nm.
CdS박막을 5*$10^{-7}$Torr의 초기 진공하에서 CdS source 온도를 800~1100.deg.C로 하고 기판 온도를 100~200.deg.C로 하여 corning 7059 glass 기판위에 0.6~1.2.mu.m의 두께로 진공증착 방법으로 제조하였다. CdS soruce 온도와 기판온도가 증착된 CdS 박막의 미세구조와 결정구조 및 전기적, 광학적 성질에 미치는 영향을 알아 보았다. 기판을 가열하지 않은 경우는 source 온도가 증가할수록 전기비저항과 광투과도가 낮게 나타났다. Source 온도를 1100.deg.C로 고정하였을 경우 기판의 온도에 따라 전기비저항값과 광투과도값은 증가하였으며 optical band gap도 증가하였다. Soruce 온도가 1100.deg.C이고 기판온도가 190.deg.C일때 전기비저항값은 2*$10^{6}$ohm-cm였고 광투과도는 band gap 이상의 파장에서 80% 이상의 값을 가졌다. 증착된 CdS박막의 결정구조는 모두 hexagonal structure를 가지며 source 온도가 낮을수록 기판온도가 높을수록 C축으로 방향성있게 성장하였다.
To understand the effects of Cd substitution for Cu, $(Pb_{0.5}Cu_{0.5-x}Cd_x)Sr_2(Ca_{0.7}Y_{0.3})Cu_2O_z$ (x = 0 ~ 0.5) compounds were synthesized and the structural and superconducting properties of the compounds were characterized. Resistivity data revealed that superconducting transition temperature rises initially up to x = 0.25 and then decreases as the Cd doping content increases. Room-temperature thermoelectric power decreases at first up to x = 0.25 and then increases with higher Cd doping content, indicating that the change in $T_c$ is mainly caused by the change in the hole concentration on the superconducting planes by the Cd doping. The non-monotonic dependence of the lattice parameters and the transition temperature with Cd doping content is discussed in connection with the possible formation of $Pb^{+2}$ ions and the removal of excess oxygen caused by Cd substitution in the charge reservoir layer. A correlation between transition temperature and c/a lattice parameter ratio was observed for the $(Pb_{0.5}Cu_{0.5-x}Cd_x)Sr_2(Ca_{0.7}Y_{0.3})Cu_2O_z$ system.
CdTe nanoparticles were synthesized in aqueous solution by colloidal method. The absorption and photoluminescence(PL) spectrum of the synthesized CdTe nanoparticles revealed the strong exitonic peak in the visible region. Electroluminescence of CdTe nanoparticles were observed in the structure of Al/CdTe/PVK/ITO and Al/CdTe/PEDOT/ITO that were fabricated by spin coating of polyvinylcarvazole(PVK), poly(3,4-ethylenedioxythiophene(PEDOT) and CdTe nanoparticles. The turn-on voltages of Al/CdTe/PVK/ITO and Al/CdTe/PEDOT/ITO for electroluminescence were 5V and 6V, respectively. We identified that the reduction of turn-on voltage resulted from the increase of hole injection into the hole transport layer due to lower ionization energy of PEDOT.
Cadmium sulfide is commonly used as the window material for thin film solar cells, and can be prepared by several techniques such as sputtering, spray pyrolysis, close spaced sublimation (CSS), thermal evaporation, solution growth methods, etc. In this study, CdS films were deposited by thermal evaporation, close spaced sublimation, and solution growth methods, respectively, and the effects of the methods on physical properties of polycrystalline CdS deposited on ITO/glass were investigated. Also, the effects of variously prepared CdS thin films on the physical properties of CdTe deposited on the CdS were investigated. The thickness of polycrystalline CdS films was maintained at $0.3\mu\textrm{m}$ except for the solution grown CdS when $0.2\mu\textrm{m}$ thick CdS was deposited. After the deposition, all the samples were annealed at $400^{\circ}C$ or $500^{\circ}C$ in H2 atmosphere. To investigate physical properties of the deposited and annealed CdS thin films, UV-VIS spectro-photometry, X-ray diffractometry (XRD), and Auger electron spectroscopy (AES), and cross sectional transmission electron microscopy(XTEM) were used to analyze grain size, crystal structure, preferred orientation, optical properties, etc. The annealed CdS showed the bandedge transition at 510nm and the optical transmittance high than 80% for all of the variously deposited films. XRD results showed that CdS thin films variously deposited and annealed had the same hexagonal structures, however, showed different preferred orientations. CSS grown CdS had [103] preferred orientation, thermally evaporated CdS had [002], and CdS grown by the solution growth had no preferred orientation. The largest grain size was obtained for the CSS grown CdS while the least grain size was obtained for the solution grown CdS. Some of the physical properties of CdTe deposited on the CdS thin film such as grain size at the junction and grain orientation were affected by the physical properties of CdS thin films.
The structure of boron ion-implanted pn junctio in the vacancy-doped p-type HgCdTe was investigated with the differential Hall measurement. The as-implanted junction showed the electron concentration as high as 1${\times}10^{18}/cm^{3}$ and the junction depth of 0.6.mu.m. When the HgCdTe junction was heated in oven, the electron concentration near the junction decreased and the junction depth increased as the annealing temperature and time increased. The junction structure after the thermal annealing was n$^{+}$/n$^{-}$/p. For the 200.deg. C 20min annealed sample, the electron mobility was 10$^{4}cm^{2}/V{\cdot}$s near the surface(n$^{+}$), and was larger thatn 10$^{5}cm^{2}/V{\cdot}$s near the junction(n$^{+}$). The junction formation mechanism is conjectured as follows. When HgCdTe is ion-implanted, the ion energy generates crystal defecis and displaced Hg atoms HgCdTe is ion-implanted, the ion energy generates crystal defecis and displaced Hg atoms near the surface. The displaced Hg vacancies diffuse in easily by the thernal treatment and a fill the Hg vacancies in the p-HgCdTe substrate. With the Hg vacancies filled completely, the GfCdTe substrate becomes n-type because of the residual n-type impurity which was added during the wafer growing. Therefore, the n$^{+}$/n$^{-}$/p regions are formed by crystal defects, residual impurities, and Hg vacancies, respectively.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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