Ion Beam Assisted Depposition법에 의한 TiN 박막 제작 및 특성연구 (Cu film growth on Si substrate by combining plasma enhanced chemical vapor deposition with partially ionized beam deposition)
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- 한국진공학회:학술대회논문집
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- 한국진공학회 1997년도 제13회 학술발표회 논문개요집
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- pp.114-114
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- 1997