Garcia, Manuel;Vocka, Radim;Tuominen, Riku;Gommlich, Andre;Leppanen, Jaakko;Valtavirta, Ville;Imke, Uwe;Ferraro, Diego;Uffelen, Paul Van;Milisdorfer, Lukas;Sanchez-Espinoza, Victor
Nuclear Engineering and Technology
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v.53
no.10
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pp.3133-3150
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2021
This work deals with the validation of a high-fidelity multiphysics system coupling the Serpent 2 Monte Carlo neutron transport code with SUBCHANFLOW, a subchannel thermalhydraulics code, and TRANSURANUS, a fuel-performance analysis code. The results for a full-core pin-by-pin burnup calculation for the ninth operating cycle of the Temelín II VVER-1000 plant, which starts from a fresh core, are presented and assessed using experimental data. A good agreement is found comparing the critical boron concentration and a set of pin-level neutron flux profiles against measurements. In addition, the calculated axial and radial power distributions match closely the values reported by the core monitoring system. To demonstrate the modeling capabilities of the three-code coupling, pin-level neutronic, thermalhydraulic and thermomechanic results are shown as well. These studies are encompassed in the final phase of the EU Horizon 2020 McSAFE project, during which the Serpent-SUBCHANFLOW-TRANSURANUS system was developed.
Alnaqbi, Jwaher;Hartanto, Donny;Alnuaimi, Reem;Imron, Muhammad;Gillette, Victor
Nuclear Engineering and Technology
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v.54
no.2
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pp.764-769
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2022
The United Arab Emirates is currently building and operating four units of the APR-1400 developed by a South Korean vendor, Korea Electric Power Corporation (KEPCO). This paper attempts to perform APR-1400 reactor core analysis by using the well-known two-step method. The two-step method was applied to the APR-1400 first cycle using the open-source nodal diffusion code, KOMODO. In this study, the group constants were generated using CASMO-4 fuel transport lattice code. The simulation was performed in Hot Zero Power (HZP) at steady-state and transient conditions. Some typical parameters necessary for the Nuclear Design Report (NDR) were evaluated in this paper, such as effective neutron multiplication factor, control rod worth, and critical boron concentration for steady-state analysis. Other parameters such as reactivity insertion, power, and fuel temperature changes during the Reactivity Insertion Accident (RIA) simulation were evaluated as well. The results from KOMODO were verified using PARCS and SIMULATE-3 nodal core simulators. It was found that KOMODO gives an excellent agreement.
Kim, Gyeong-Jung;Hong, Seung-Hwi;Kim, Yong-Seong;Lee, U;Kim, Yeong-Heon;Seo, Se-Yeong;Jang, Jong-Sik;Sin, Dong-Hui;Choe, Seok-Ho
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2010.08a
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pp.297-297
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2010
Precise control of the position and density of doping elements at the nanoscale is becoming a central issue for realizing state-of-the-art silicon-based optoelectronic devices. As dimensions are scaled down to take benefits from the quantum confinement effect, however, the presence of interfaces and the nature of materials adjacent to silicon turn out to be important and govern the physical properties. Utilization of visible light is a promising method to overcome the efficiency limit of the crystalline Si solar cells. Si quantum dots (QDs) have been proposed as an emission source of visible light, which is based on the quantum confinement effect. Light emission in the visible wavelength has been reported by controlling the size and density of Si QDs embedded within various types of insulating matrix. For the realization of all-Si QD solar cells with homojunctions, it is prerequisite not only to optimize the impurity doping for both p- and n-type Si QDs, but also to construct p-n homojunctions between them. In this study, XPS and SIMS were used for the development of p-type and n-type Si quantum dot solar cells. The stoichiometry of SiOx layers were controlled by in-situ XPS analysis and the concentration of B and P by SIMS for the activated doping in Si nano structures. Especially, it has been experimentally evidenced that boron atoms in silicon nanostructures confined in SiO2 matrix can segregate into the Si/$SiO_2$ interfaces and the Si bulk forming a distinct bimodal spatial distribution. By performing quantitative analysis and theoretical modelling, it has been found that boron incorporated into the four-fold Si crystal lattice can have electrical activity. Based on these findings, p-type Si quantum dot solar cell with the energy-conversion efficiency of 10.2% was realized from a [B-doped $SiO_{1.2}$(2 nm)/$SiO_2(2\;nm)]^{25}$ superlattice film with a B doping level of $4.0{\times}10^{20}\;atoms/cm^2$.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2000.02a
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pp.180-180
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2000
Plasma source ion implantation is a new doping technique for the formation of shallow junction with the merits of high dose rate, low-cost and minimal wafer charging damage. In plasma source ion implantation process, the wafer is placed directly in the plasma of the appropriate dopant ions. Negative pulse bias is applied to the wafer, causing the dopant ions to be accelerated toward the wafer and implanted below the surface. In this work, inductively couples plasma was generated by anodized Al antenna that was located inside the vacuum chamber. The outside wall of Al chamber was surrounded by Nd-Fe-B permanent magnets to confine the plasma and to enhance the uniformity. Before implantation, the wafer was pre-sputtered using DC bias of 300B in Ar plasma in order to eliminate the native oxide. After cleaning, B2H6 (5%)/H2 plasma and negative pulse bias of -1kV to 5 kV were used to form shallow p+/n junction at the boron dose of 1$\times$1015 to 5$\times$1016 #/cm2. The as-implanted samples were annealed at 90$0^{\circ}C$, 95$0^{\circ}C$ and 100$0^{\circ}C$during various annealing time with rapid thermal process. After annealing, the sheet resistance and the junction depth were measured with four point probe and secondary ion mass spectroscopy, respectively. The doping uniformity was also investigated. In addition, the electrical characteristics were measured for Schottky diode with a current-voltage meter.
To alloy high melting point elements such as boron, ruthenium, and iridium with copper, heat treatment was performed using metal oxides of $B_2O_3$, $RuO_2$, and $IrO_2$ at the temperature of $1200^{\circ}C$ in vacuum for 30 minutes. The microstructure analysis of the alloyed sample was confirmed using an optical microscope and FE-SEM. Hardness and trace element analyses were performed using Vickers hardness and WD-XRF, respectively. Diffusion profile analysis was performed using D-SIMS. From the microstructure analysis results, crystal grains were found to have formed with sizes of 2.97 mm. For the copper alloys formed using metal oxides of $B_2O_3$, $RuO_2$, and $IrO_2$ the sizes of the crystal grains were 1.24, 1.77, and 2.23 mm, respectively, while these sizes were smaller than pure copper. From the Vickers hardness results, the hardness of the Ir-copper alloy was found to have increased by a maximum of 2.2 times compared to pure copper. From the trace element analysis, the copper alloy was fabricated with the expected composition. From the diffusion profile analysis results, it can be seen that 0.059 wt%, 0.030 wt%, and 0.114 wt% of B, Ru, and Ir, respectively, were alloyed in the copper, and it led to change the hardness. Therefore, we verified that alloying of high melting point elements is possible at the low temperature of $1200^{\circ}C$.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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1992.02a
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pp.17-18
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1992
SIMS is an indispensable surface analysis instrument in trace element depth p profiling because of high detection sensitivity and excellent depth r resolution, however, it requires standard sample to do quantitative analysis d due to matrix effect depending on the species of impurities and sample m matricies and on the sputtering rates. A Among the SNMS technology developed to supply the deficiency, we researched i into CsX+ SNMS which improved the resul t quanti tati vely wi thout any extra epuipments. So basic SNMS functions were confirmed through matrix element composition rate a analysis using Si02 layer etc. and adaptability to trace element c concentration analysis was tried. For that purpose we compared SIMS depth profile data for Boron which presented s strong matrix effect on account of Fluorin existence after BF2 ion implantation on silicon substrate with SNMS data. d dynamic range were investigated. A After these experements we concluded that CsX+ SNMS reduced matrix effect and we could apply it to profile impurity elements.
In this study, a DeCART/MIG uncertainty quantification (UQ) analysis code system with a multicorrelated cross section stochastic sampling (S.S.) module was established and verified through the UAM (Uncertainty Analysis in Modeling) and the BEAVRS (Benchmark for Evaluation And Validation of Reactor Simulations) benchmark calculations. For the S.S. calculations, a sample of 500 DeCART multigroup cross section sets for two major actinides, i.e., 235U and 238U, were generated by the MIG code and covariance data from the ENDF/B-VII.1 evaluated nuclear data library. In the three pin problems (i.e. TMI-1, PB2, and Koz-6) from the UAM benchmark, the uncertainties in kinf by the DeCART/MIG S.S. calculations agreed very well with the sensitivity and uncertainty (S/U) perturbation results by DeCART/MUSAD and the S/U direct subtraction (S/U-DS) results by the DeCART/MIG. From these results, it was concluded that the multi-group cross section sampling module of the MIG code works correctly and accurately. In the BEAVRS whole benchmark problems, the uncertainties in the control rod bank worth, isothermal temperature coefficient, power distribution, and critical boron concentration due to cross section uncertainties were calculated by the DeCART/MIG code system. Overall, the uncertainties in these design parameters were less than the general design review criteria of a typical pressurized water reactor start-up case. This newly-developed DeCART/MIG UQ analysis code system by the S.S. method can be widely utilized as uncertainty analysis and margin estimation tools for developing and designing new advanced nuclear reactors.
$SrAl_2O_4:Eu$ green phosphor was prepared by spray pyrolysis and its luminescence properties were controlled by replacing the Al sites with boron and using organic modifier or drying control chemical additive. It was clear that the substitution of B into the Al sites was helpful to obtain pure monoclinic $SrAl_2O_4$ phase and greatly enhance the emission intensity. In terms of the emission intensity, the optimal content of boron was about 1 at% with respect to the aluminum element. The luminescence intensity of $Sr_{0.9}Al_{1.98}B_{0.02}O_4:Eu_{0.1}$ phosphor could be improved by the use of 0.2 M organic additives in the spray solution. Futhermore, using 0.5 M dimethylformamide(DMF) as a drying control chemical with organic additives made it possible to improve about 172% the emission intensity of $Sr_{0.9}Al_{1.98}B_{0.02}O_4:Eu_{0.1}$ phosphor. According to XRD analysis, the organic additive and DMF used enhanced the crystallinity without any change in the crystal phase. When used only the organic additive without DMF, the surface area of the prepared $Sr_{0.9}Al_{1.98}B_{0.02}O_4:Eu_{0.1}$ phosphor became enlarged. The use of DMF with the organic additive resulted in significant reduction in the surface area. It was concluded that the increase of the crystallinity as well as the reduction of surface area mainly contribute to the improvement in the luminescence intensity of $Sr_{0.9}Al_{1.98}B_{0.02}O_4:Eu_{0.1}$ phosphor prepared using DMF and organic additives.
Proceedings of the Korean Society of Medical Physics Conference
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2002.09a
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pp.161-163
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2002
The BNCT(Boron Neutron Capture Therapy) facility has been developed in Hanaro(High-flux Advanced Neutron Application Reactor), a research reactor of Korea Atomic Energy Research Institute. A typical tangenial beam port is utilized with this BNCT facility. Thermal neutrons can be penetrated within the limits of the possible maximum instead of being filtered fast neutrons and gamma rays as much as possible using the silicon and bismuth single crystals. In addition to, the liquid nitrogen (LN$_2$) is used to cool down the silicon and bismuth single crystals for the increase of the penetrated thermal neutron flux. Neutron beams for BNCT are shielded using the water shutter. The water shutter was designed and manufactured not to interfere with any other subsystem of Hanaro when the BNCT facility is operated. Also, it is replaced with conventional beam port plug in order to cut off helium gas leakage in the beam port. A circular collimator, composed of $\^$6/Li$_2$CO$_3$ and polyethylene compounds, is installed at the irradiation position. The measured neutron flux with 24 MW reactor power using the Au-198 activation analysis method is 8.3${\times}$10$\^$8/ n/cm$^2$ s at the collimator, exit point of neutron beams. Flatness of neutron beams is proven to ${\pm}$ 6.8% at 97 mm collimator. According to the result of acceptance tests of the water shutter, the filling time of water is about 190 seconds and drainage time of it is about 270 seconds. The radiation leakages in the irradiation room are analyzed to near the background level for neutron and 12 mSv/hr in the maximum for gamma by using BF$_3$ proportional counter and GM counter respectively. Therefore, it is verified that the neutron beams from BNCT facility in Hanaro will be enough to utilize for the purpose of clinical and pre-clinical experiment.
Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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v.25
no.3
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pp.55-59
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2018
In this paper, we investigated the characteristics of shear stress type piezoresistor on a diaphragm structure formed by MEMS (Microelectromechanical System) technology of silicon-direct-bonding (SDB) wafers with Si/$SiO_2$/Si-sub. The diaphragm structure formed by etching the backside of the wafer using a TMAH aqueous solution can be used for manufacturing various sensors. In this study, the optimum shape condition of the shear stress type piezoresistor formed on the diaphragm is found through ANSYS simulation, and the diaphragm structure is formed by using the semiconductor microfabrication technique and the shear stress formed by boron implantation. The characteristics of the piezoelectric resistance are compared with the simulation results. The sensing diaphragm was made in the shape of an exact square. It has been experimentally found that the maximum shear stress for the same pressure at the center of the edge of the diaphragm is generated when the structure is in the exact square shape. Thus, the sensing part of the sensor has been designed to be placed at the center of the edge of the diaphragm. The prepared shear stress type piezoresistor was in good agreement with the simulation results, and the sensitivity of the piezoresistor formed on the $2200{\mu}m{\times}2200{\mu}m$ diaphragm was $183.7{\mu}V/kPa$ and the linearity of 1.3 %FS at the pressure range of 0~100 kPa and the symmetry of sensitivity was also excellent.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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