Proceedings of the Korea Air Pollution Research Association Conference
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2003.05b
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pp.324-324
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2003
국내의 수은 배출특성에 대하여는 소수의 연구자들이 환경대기 중 배출특성에 대하여 연구결과를 제시하고 있으나 실제로 어떤 배출원에서 얼마만한 양의 수은이 방출되는지, 또한 배출원에서의 수은의 형태나 거동 등 어떠한 특성을 가지는지에 대한 관련 연구는 수은 분석방법이 까다로운데다가 방법들간(흡광광도법, EPA 101A, 온타리오법 등)에 차이가 있고 미량분석이 갖는 어려움으로 거의 이루어지지 않고 있는 실정이다. (중략)
Proceedings of the Korea Air Pollution Research Association Conference
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1999.10a
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pp.92-93
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1999
수은은 상온에서 액체상태로 존재하는 유일한 금속으로서, 증기압이 매우 높기 때문에 가장 쉽게 휘발될 수 있는 중금속이다. 다른 중금속들은 거의 입자 상태로 변환되기 때문에 전기 집진기 등과 같은 일반적인 입자 제어시설에서 98%이상이 제거되지만, 증기압이 매우 높은 수은은 다단계 습식 스크러버, 활성탄을 사용하는 전기집진기/습식 스크러버가 결합된 특정한 방지시설에 없는 한 거의 대부분이 그대로 배출된다.(중략)
Proceedings of the Korea Air Pollution Research Association Conference
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2000.04a
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pp.103-104
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2000
수은은 상온에서 액체상태로 존재하는 유일한 금속으로서, 증기압이 매우 높기 때문에 가장 쉽게 휘발될 수 있는 중금속이다. 다른 중금속들은 거의 입자 상태로 변환되기 때문에 전기 집진기 등과 같은 일반적인 입자 제어시설에서 98%이상이 제거되지만, 증기압이 매우 높은 수은은 다단계 습식 스크러버, 활성탄을 사용하는 전기집진기/습식 스크러버가 결합된 특정한 방지시설에 없는 한 거의 대부분이 그대로 배출된다. (중략)
Proceedings of the Korea Air Pollution Research Association Conference
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2003.11a
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pp.200-201
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2003
최근 들어 미국에서는 석탄 연소배가스 중에 포함된 미량의 중금속이 인체 및 환경에 심각한 피해를 줄 수 있다고 보고 이에 대한 연구를 진행하고 있으며, 특히 수은에 대해서는 SOx, NOx, 먼지와 더불어 배출규제를 시행할 계획을 가지고 있다. 수은배출 규제에 대비하여 미국의 정부산하 연구소와 기업들은 연소 배가스로부터 수은을 제거하기 위한 흡착제 분사, 수은 산화 등 여러 가지 저감기술에 대해 실험실 규모로부터 실증 규모까지 연구를 진행하고 있다. (중략)
Proceedings of the Korea Air Pollution Research Association Conference
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2001.11a
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pp.103-108
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2001
각종 연소기반의 오염 배출원에서의 수은을 비롯한 중금속의 배출은 많은 우려를 낳고있다. 이미 미국에서는 1990년 Clean Air Act Amendments를 통해 11개의 중금속의 (As, Be, Cd, Co, Cr, Hg, Mn, Ni, Pb, Sb, and Se) 배출을 가장 효과적인 적용 가능한 기술로서 그 배출을 제어하도록 되어있다. 그 중에서도 특히 수은은 다른 중금속과는 달리 높은 휘발성, 강한 유해성, 그리고 체내에 축적이 되는 특성으로 해서 더욱 관심의 대상이 되고 있다. 또한 수은은 연소장치에서 대기중으로 배출시 다른 중금속이 입자의 형태로 배출되는 것과는 달리 주로 원소상태의 기체로 배출되는 것으로 알려져 있다. (중략)
Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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v.16
no.3
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pp.53-59
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2009
Low pressure mercury lamp type UV equipments have been widely used for cleaning and modification of PCB surfaces. To enhance the productivity of the process, we newly developed remote DBD type atmospheric pressure plasma equipment. The productivity of both equipments could be compared by measuring surface contact angle for various transferring speed. By the result of the measurement, we could verify that the productivity of the atmospheric pressure plasma be superior to the productivity of the UV equipment. XPS experiments confirmed that the surface effect of the UV and atmospheric pressure plasma processing are similar for each other. Organic contamination level was reduced after the processing and some surface elements were oxidized for both cases. Finally, the atmospheric pressure plasma equipment was adapted to flip chip BGA's flux printing process and it was concluded that the printing uniformity be enhanced by the atmospheric pressure plasma surface treatment.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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