In Crystalline Si solar cells, Anti-Reflection Coating is contribute to improvement in energy conversion efficiency due to decrease of optical loss and recombination owing to surface passivation. Porous Si is formed electrochemical etching that uses chemical solution and anodization etching. So It gives that advantage in rapid process time and without high cost equipment. In this paper, We compare Porous Si with $SiO_2$/SiNx ARC and analyze that by anti-reflection coating.
The interest in acquiring high efficiency solar cells has been steadily increasing due to various advantages such as low-cost installation, pollution free and everlasting energy generation. In order to raise the cell efficiency, there has been a lot of effort to develop effective anti-reflection coatings. In this work, the main objective was to investigate the effects of particle size and annealing temperature of silica anti-reflection coatings to maximize the cell efficiency as well as reliability. It was shown that the light transmittance could be increased by a few percent over a certain range of wavelength using the silica coating. Also, the tribological properties of the coating could be improved through the annealing process, which led to better reliability of the coating.
We report a novel manner for preparing single layer anti-reflective coatings with excellent optical properties (<1% reflection) over a broad wavelength regime. The technology is based upon the self-assembly and UV curing of reactive nano-particles, leading to nano-structured coatings with a gradient in refractive index. The single processing step leading to such coatings is fast, robust and cost effective. Furthermore in this paper we will address the mechanical durability of such nano-structured coatings.
Semiconductor laser diode has a reflective facet in a both-ends side fundamentally. Laser performance for improving, Anti-Reflection and High-reflection coating on the facet of semiconductor laser diode. To prevent internal feedback from both facets for realizing superluminescent diode and reducing the reflection-induced intensity noise of laser diode, it's key techniques are AR/HR coatings. In the study AR coating film were manufactured by Ion-Assisted Deposition(IAD) system. Then manufactured coating film measurement electrical properties(L-I-V, Se, Resistor) and Optical properties (wavelength FFP)
PV (photovoltaic) has becoming an important industry to invest due to its high robustness and require very little maintenance which goes a long time. Solar cell fabrication involves a few critical processes such as doping to make the N-type and P-type silicon, contact metallization, surface texturization, and anti-reflection coatings. Anti-reflection coating is a kind of surface passivation which ensures the stability, and efficiency of the solar cell. Thus, I will focus on the changes happen to the solar cell due to the reflectance and anti-reflection coating by PC1D. By using the PC1D (solar cell simulation program), I would analysis the effect of reflectance on the N-type cell. At last I will conclude the result regarding what I learned throughout this experiment.
The most important part of the fabrication solar cells is the anti-reflection coating when excludes the kinds of silicon substrates (crystalline, polycrystalline, or amorphous), patterns and materials of electrodes. Anti-reflection coatings reduce the reflection of sunlight and at last increase the intensity of radiation to inside of solar cells. So, we can obtain increase of solar cell efficiency about 10% using anti-reflection coating. There are many kinds of anti-reflection film for solar cell, such as SiN, $SiO_2$, a-Si, and so on. And, they have two functions, anti-reflection and passivation. However such materials could not perfectly prevent reflection. So, in this work, we investigated the anti-reflection coating with the columnar structure ZnO thin film. We synthesized columnar structure ZnO film on glass substrates. The ZnO films were synthesized using a RF magnetron sputtering system with a pure (99.95%) ZnO target at room temperature. The anti-reflection coating layer was sputtered by argon and oxygen gases. The angle of target and substrate measures 0, 20, 40, 60 degrees, the working pressure 10 mtorr and the 250 W of RF power during 40 minutes. The confirm the growth mechanism of ZnO on columnar structure, the anti-reflection coating layer was observed by field emission scanning electron microscopy (FE-SEM). The optical trends were observed by UV-vis and Elleso meter.
Cr-CrO cermet solar selective coatings with a double cermets layer film structure were prepared using a special direct current (dc) magnetron sputtering technology. The typical films structures from surface to bottom substrate were measured to be an $Al_2O_3$ anti-reflection layer on a double Cr-CrO cermet layer on an Al metal infrared reflection layer. Optical properties of optimized Cr-CrO cermet solar selective coating were absorptance (${\alpha}$) = 0.95 and emittance (${\varepsilon}$) = 0.10 ($100^{\circ}C$). Atomic force microscopy (AFM) image showed that Cr-CrO cermet film was very smooth and their grain size was also very small The results of thermal stability test showed that the Cr-CrO cermet solar selective coatings were stable for use at temperature of $400^{\circ}C$.
태양전지의 셀을 보호하기 위한 커버 글라스에는 반사방지 코팅 및 셀프클리닝과 같은 기능성 코팅이 적용되어왔다. 일반적으로 메조포러스 실리카를 이용한 반사방지 코팅은 빛의 투과를 증가시키며, $TiO_2$ 광촉매 필름은 셀프클리닝 코팅에 적용되어왔다. 본 연구에서는 $SiO_2/TiO_2$ 박막 코팅에 의한 투명 발수 반사방지 및 셀프클리닝 코팅을 sol-gel 공정과 dip-coating 공정으로 글라스 기판 위에 제조하였다. 기능성 코팅의 표면형상은 전계방출 주사전자현미경과 원자힘 현미경으로 분석하였고, 광학적 특성은 UV-visible 분광광도계로 분석하였다. 필름의 발수특성은 접촉각 측정으로 확인하였다. 그 결과 $TiO_2$ 필름은 기판인 슬라이드 글라스와 비슷한 수준의 높은 광 투과율을 나타내었다. 일반적으로 $TiO_2$ 나노입자는 필름에서 반사를 증가시키며, 결과적으로 투과율의 저하를 가져온다. 하지만 본 연구의 $SiO_2/TiO_2$ 박막으로 이루어진 기능성 코팅은 $110^{\circ}$의 접촉각을 나타내었으며, 파장 550 nm에서 기판인 슬라이드 글라스의 투과율보다 2.0% 증가한 93.5%의 광 투과율 특성을 나타내었다.
Zr-O ($Zr-ZrO_2$) cermets solar selective coatings with a double cermets layer film structure were prepared using a DC (direct current) magnetron sputtering method. The typical film structure from surface to bottom substrate were an $Al_2O_3$ anti-reflection layer on a double Zr-O cermets layer on an Al metal infrared reflection layer. Optical properties of optimized Zr-O cermets solar selective coating had an absorptance of ${\alpha}\;=\;0.95$ and thermal omittance of ${\epsilon}\;=\;0.10\;(100^{\circ}C)$. The absorbing layer of Zr-O cermets coatings on glass and silicon substrate was identified as being amorphous by using XRD. AFM showed that ZF-O cermets layers were very smooth and their surface roughness were approximately $0.1{\sim}0.2 nm$. The chemical analysis of the cermets coatings were determined by using XPS. Chemical shift of photoelectron binding energy was occurred due to the change of Zr-O cermets coating structure deposited with increase in oxygen flow rate. The result of thermal stability test showed that the Zr-O cermets solar selective coating was stable for use at temperature below $350^{\circ}C$.
$\1.55mu\textrm{m}$ InGaAsP MQW FP 반도체 레이저 단면의 무반사 코팅 두께를 앞면에 무반사 코팅하는 동안 뒷면의 출력을 실시간으로 측정하여 결정하였다. 굴절률 1.85인 $SiO_x$ 박막의 최적 두께는 188 nm이고, 무반사 코팅 전, 후의 문턱전류비로 계산한 단면의 반사율은 약 2 $\times$$10^{-4}$이었다. 무반사 코팅 후 주입전류 60 mA일 때 출력이 87%, 기울기 효율이 3.4배, 문턱전류가 2.64배 증가하였다. 또한 실시간으로 $Si/SiO_2$ 박막의 고반사 코팅을 뒷면에 한 후 코팅 전보다 출력이 약 160% 향상되었고, 기울기 효율이 3.8배 증가하였으며, 문턱전류는 1.07배로 코팅 전과 거의 비슷하여, 무반사 및 고반사 코팅 후 반도체 레이저의 출력특성이 크게 향상되었다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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