Crystallographic and Interfacial Characterization of Al2O3 and ZrO2 Dielectric Films Prepared by Atomic Layer Chemical Vapor Deposition on the Si Substrate (Si 기판에서 원자층 화학 기상 증착법으로 제조된 Al2O3 및 ZrO2 유전 박막의 결정학적 특성 및 계면 구조 평가)
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- Korean Journal of Materials Research
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- v.13 no.8
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- pp.497-502
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- 2003