• Title/Summary/Keyword: 1차 광학

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한국광학기기협회 소식

  • Korea Optical Industry Association
    • The Optical Journal
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    • s.96
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    • pp.10-12
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    • 2005
  • 한국광학기기협회 제 18차 정기총회 개최/한국광학기기협회 제 1차 정기이사회 개최

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A New Third-Order Nonlinear Optical Process (새로운 3차 비선형 광학 과정)

  • 김민수;윤춘섭
    • Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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    • 2000.02a
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    • pp.144-145
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    • 2000
  • 비선형 감수율은, 비선형 광학 현상을 기술하는 중요한 특성값으로서, 비선형 광학 연구가 시작된 이래 지속적으로 많은 관심을 받아 왔다. 그러나 연구의 주된 범위가 2차 비선형 감수율 $\chi$$^{(2)}$ 와 그 응용에 집중되어 왔으며, 고차 비선형 감수율이 큰 물질의 부족으로 인해, 고차 비선형 광학 효과를 얻기 위하여 직접적인 고차 과정을 이용하기 보다 그림 1(a)와 같이 2차 비선형 광학 효과의 연속적인 과정을 통해 구현하는 방법이 선호되어, 비선형 감수율의 일반적인 특성에 대해서는 충분한 이해가 이루어지지 못하였다. (중략)

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부분간섭성조명과 Central Obscuration이 고려된 5반사광하계의 설계와 성능평가

  • 이동희;이상수
    • Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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    • 1995.06a
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    • pp.59-67
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    • 1995
  • 부분간섭조명과 central obscuration의 Optical Transfer Function(OTF) 에의 영향을 조사해보고, 이의 programing 기법을 소개하며, 모든 3차 수차와 5차 구면수차가 제거된 5반사광학계에 적용하여 축소배율(M = +1/5)을 갖는 리소그래피용 광학계로서의 가능성을 알아보았다. 이렇게 하여 얻어진 광학계 central obscuration이 약 31%이고 과월을 ArF excimer 레이저( 파장 0.193$\mu$m) 로 하는 nearly inchorent illumination($\sigma$ = 1.0)인 경우 NA가 0.45이며 분해능이 50% MTF 기준치와 초점심도 0.8$\mu$m에 대해 약 600cycles/mm 정도인 성능을 갖는 시스템이 되었다.

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Five Mirror System Derived From the Numerical Solutions of all Zero 3rd Order Aberrations and Zero 5th Order Spherical Aberration for DUV Optical Lithography (모든 3차 수차와 5차 구면수차를 제거하여 얻은 극자외선 리소그라피용 5-반사광학계)

  • 이동희
    • Korean Journal of Optics and Photonics
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    • v.4 no.4
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    • pp.373-380
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    • 1993
  • A five mirror system with a reduction magnification(M=+1/5) is designed for DUV optical lithography. Initially, numerical solutions of all zero 3rd order aberrations and zero 5th order spherical aberration are obtained for the spherical mirror system. Next, by the optimization method, the aspherization is carried out to the two spherical mirrors to obtain a system that has as less residual aberrations, higher NA and improved MTF as possible. We have finally obtained the system of which NA is 0.45 and the resolution is about 500 cycles/mm at the 50% MTF value criterion and the depth of focus of $1.0{\mu}m$ for the nearly incoherent illumination$({\sigma}=1.0)$ and the wavelength of 0.248 m(KrF excimer laser line).

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국내전시정보 - 'PHOTO&IMAGING 2009' 4월 9일${\sim}$12일 개최, 1월 15일까지 조기신청시 할인혜택

  • 한국광학기기협회
    • The Optical Journal
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    • s.119
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    • pp.97-97
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    • 2009
  • 제 18회 '2009 서울국제사진영상기자재전(PHOTO&IMAGING 2009)'이 오는 4월 9일부터 12일까지 4일 동안 서울 코엑스 본관 1층 태평양 홀에서 개최된다. 전시주최자 사무소에서는 현재 1차 조기신청에 이어 올해 1월 15일까지 2차 조기신청을 받는다. 조기신청 업체는 참가비 할일뿐 아니라 부스위치 우선 배정 등 다양한 혜택이 돌아가며 중소기업의 경우 약 15%의 추가할인의 혜택이 있다.

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이것이 신기술이다 - F/1.0 이중배율 비냉각 열화상카메라 광학계 개발

  • Kim, Hyeon-Gyu
    • The Optical Journal
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    • s.122
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    • pp.41-43
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    • 2009
  • 본 연구에서는 최근에 민수용으로 활용 빈도가 높은 $320{\times}240$ 어레이를 갖는 비냉각 검출기에 적합하도록 F/1.0. 이중배율 광학계를 설계제작하여 열영상을 획득하고 광학성능을 확인하기 위하여 최소분해가능온도차(MRTD; Minimum Resolvable Temperature Difference) 값을 측정하고 사람과 차량의 탐지를 추정하였다.

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Nonresonant-Pump Four Wave Mixing : New Scheme of Phase Matching for Third Order Nonlinear Laser Spectroscopy (비공명펌프 사광자혼합 : 3차 비선형 레이저 분광법을 위한 새로운 위상정합법)

  • 이은성;최대식;이재용;한재원
    • Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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    • 2002.07a
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    • pp.222-223
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    • 2002
  • 3차 비선형 광학현상을 이용한 레이저 분광학은 코헤런트 반스톡스 라만산란(Coherent Anti-Stokes Raman Scattering, CARS)이나 축퇴 사광자혼합(Degenerate Four-Wave Mixing, DFWM)이 기계공학의 연소진단이나 화학분야에 응용된 이래 활발히 연구되어져왔다.[1] 비선형 광학현상의 특성상, 발생한 신호는 입사 레이저광들과의 위상정합조건이 만족되는 특정한 방향으로만 진행하고 레이저광처럼 가간섭성을 갖는다. (중략)

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