• 전자공학회논문지
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• 제51권2호
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• pp.133-140
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• 2014

최근 3D 디스플레이에 대한 개발이 활발히 이루어지고 있고, 그 중 셔터 글래스나 편광 글래스 이용한 3D 영상 기술이 주류를 이루고 있다. 그 중에서 셔터 글래스 방식의 경우 3D 안경의 영향으로 3D 시청 시 인지하는 휘도, 컬러 선명도(colorfulness) 그리고 선예도(sharpness)가 현저히 줄어들게 된다. 본 논문에서는 3D 시청 시 인지하는 채도를 CIECAM02 model을 이용하여 3D안경으로 인한 화질의 열화 정도를 평가하고 분석하였다. 이러한 과정을 통하여 셔터 글래스 방식의 3D PDP-TV를 3D 모드에서 시청시, 컬러 선명도와 선예도에 대한 손실에 대하여 결과를 도출하고, 이 결과를 토대로 3D 모드에서의 최적화된 화질 구현을 위한 컬러 선명도와 선예도를 보상하는 방안을 제안하고 실험을 진행하였다.

• 한국정보전자통신기술학회논문지
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• 제15권3호
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• pp.205-210
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• 2022

본 논문은 OLED 구동 박막 트랜지스터의 문턱전압 변동에 의한 AMOLED 디스플레이의 휘도 불균일도를 개선하기 위해 n-채널 박막 트랜지스터만을 사용한 새로운 OLED 화소회로를 제안하였다. 제안한 OLED 화소회로는 6개의 n-채널 박막 트랜지스터와 2개의 커패시터로 구성하였다. 제안한 OLED 화소회로의 동작은 커패시터 초기화 구간, OLED 구동 박막 트랜지스터의 문턱전압을 감지하는 구간, 영상 데이터 전압 기입 구간 및 OLED 발광 구간으로 구성되어 있다. SmartSpice 시뮬레이션 결과, OLED·구동 박막 트랜지스터의 문턱전압이 1.5±0.3 V 변동 시 제안한 OLED 화소회로는 OLED 전류 1 nA에서 최대 전류 오차가 5.18 %이고 OLED 음극 전압이 0.1 V 상승 시 제안한 OLED 화소회로가 기존 OLED 화소회로보다 OLED·전류 변화가 매우 적었다. 그러므로, 기존 OLED 화소회로보다 제안한 화소회로가 문턱전압 변동 및 OLED 음극 전압 상승에 뛰어난 보상 특성을 가진다는 것을 확인하였다.

• 대한전자공학회논문지SD
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• 제42권4호
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• pp.53-60
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• 2005

본 논문에서는 LCD 판넬 밝기의 균일성을 향상시키기 위하여 램프간의 저항 차이를 검출하는 회로를 사용한다. 기준 loop와 비교 loop의 feedback 전압을 나누어 검출된 저항의 차이는 PWM duty를 결정하는 제어 모드와 연결하여 램프 저항에 맞는 전압을 램프에 인가한다. 기준 loop의 feedback 전압은 모든 loop의 기준 전압이 되며, 하나의 IC에 램프의 수만큼 외부 기판을 연결하여 사용할 수 있다. 모든 비교 loop의 램프들은 기준 램프와 같은 밝기를 유지하기 위해 에러를 보상하며, 결과적으로 제안된 회로는 기존의 회로에 비해 약 $40\%$ 밝기 균일성을 재선한다.

• 전자공학회논문지S
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• 제36S권8호
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• pp.55-64
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• 1999

본 논문에서는 가변하는 다중 닻점을 이용하는 새로운 색역 사상 방법을 제안한다. 제안된 방법은 기존의 한 개의 닻점을 사용하는 색역 사상에서 발생하는 휘도 범위의 축소를 가변하는 닻점을 이용하여 보상하여준다. 또한 이 과정에서 연속 계조 칼라를 재현하기 위하여 색역을 여러 영역으로 구분하여 각각의 영역에서 다른 닻점을 사용하는 다중 닻점 방식을 제안한다. 따라서 본 논문에서는 저가의 칼라 출력장치에서 고화질의 칼라를 재현할 수 있게 한다.

• 한국통신학회논문지
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• 제38A권8호
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• pp.669-679
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• 2013

HDR (high dynamic range) 영상을 LDR (low dynamic range) 영상으로 변환할 때 톤 맵핑 (tone mapping) 과정은 필수적이다. 많은 TMO (tone mapping operator)는 인간 시각 시스템의 특성들을 모방하여 발달되어 왔고 그 중 가장 대표적인 시각 특성이 국부 순응 방식이다. 그러나 TMO는 밝기나 명암, 채도 등의 영상 정보들을 압축하여 LDR 영상으로 대응시키기 때문에 압축에 의한 화질 저하가 나타난다. 본 논문에서는 TMO에 의한 화질 저하 보상을 위해 인간 시각의 선명도 특성을 기저 및 세부 영상 분할 처리에 적용하여 휘도 적응적 에지 보존 함수를 제안했다. 또한, 인간 시각 시스템에서 공간 주파수와 대비 민감도 사이의 관계를 나타내는 CSF (contrast sensitivity function)를 이용하여 선명화 필터를 설계하고, 이를 배경 휘도에 따라 적응적으로 적용하였다.

• 전자공학회논문지S
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• 제36S권1호
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• pp.38-50
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• 1999

현재 많은 칼라 장치는 다양한 방법으로 영상을 재현한다. 그러나 장치마다 재현된 색은 장치 사이의 색역차로 인해 원래의 색과 많은 차이로 보인다. 본 논문에서는 서로 다른 장치에서 동일한 색을 재현할 때 발생하는 색의 오차를 줄이기 위해 영상 의존 색역 사상 방벙을 제안하였다. 이 방법은 색역 사상시 휘도값 변화에 의해 일어나는 휘도값 변화를 보상하면서 채도값을 클리핑한다. 색역 사상시 중심점인 앵커점을 기존의 방법보다 낮게 설정함으로써 원 영상과 재현된 영상 사이에서의 색 오차를 줄였다. 또, 사상된 영상을 색대비를 높이기 위해 프린터 색역을 밝은 영역과 어두운 영역으로 나누어 다른 사상 방법을 사용하였다. 결과적으로 모니터에 나타난 영상의 색과 비슷하고 대비가 높은 영상을 프린터로 재현할 수 있었다.

• 방송공학회논문지
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• 제14권6호
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• pp.749-768
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• 2009

본 논문은 H.264/AVC 화면내 부호화에서 부호화 효율 향상을 위해 율-왜곡 최적화를 이용한 화면내 예측 오프셋 보상 방법을 제안한다. H.264/AVC의 화면내 예측 부호화는 주변 블록의 복원 화소들을 현재 부호화하려는 블록의 예측 블록으로 활용함으로써 공간적 상관성을 제거하고 부호화 효율을 향상시킨다. 제안 방법은 화면내 부호화의 예측 오차를 감소시키기 위해, 율-왜곡 비용 관점에서의 최적 값을 갖는 화면내 예측 오프셋을 기존 화면내 예측 블록에 더하여 예측 블록의 정확도를 높인다. 따라서 예측 오차 신호의 양자화된 변환 계수를 감소시키며 원본 블록과 복원된 블록 간의 왜곡을 감소시켜 화면내 블록의 부호화 성능을 향상시킬 수 있다. 추가적으로, 휘도 성분의 부호화 성능 향상을 위해 화면내 예측 오프셋 보상이 사용되는 화면내 블록의 색차 성분에 JM 11.0에서 화면간 부호화에서 사용되는 계수 임계 처리 방법을 적용한다. 본 논문의 실험에서는 제안하는 방법이 JM 11.0과 비교 실험했을 때 High Profile 환경에서 평균 2.45%의 비트율 감소와 최대 4.41%의 비트율을 감소시킬 수 있음을 보인다.

• 한국항행학회논문지
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• 제26권2호
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• pp.72-77
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• 2022

강화학습의 기법 중 Q-Learning은 주어진 상태에서 행동을 수행하면서 미래의 효율적인 기댓값을 예측하는 Q 함수를 학습하면서 최적의 정책을 학습하는 것이다. Q-Learning은 강화학습의 기본적인 알고리즘으로 많이 활용하고 있다. 본 논문에서는 Q-Learning을 바탕으로 정책과 보상을 설계하여 효율적인 경로를 선택하고 학습하는 효용성에 대하여 연구하였다. 또한 Frozen Lake 게임의 8x8 그리드 환경에 동일한 학습 횟수를 적용하여 기존 알고리즘 및 처벌 보상 정책과 제시한 처벌강화 정책의 결과를 비교하였다. 해당 비교를 통해 본 논문에서 제시한 Q-Learning의 처벌강화 정책이 통상적인 알고리즘의 적용보다 학습 속도를 상당히 높일 수 있는 것으로 분석되었다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2009년도 추계학술대회 논문집
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• pp.206-206
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• 2009

RF Magnetron Sputtering 방법을 통해 ZnS:Mn 박막 형광체를 증착한 다층 TFEL (Thin-Film Electroluminescent) Backlight 소자를 제작하였다. Alumina 기판 위에 Au 전극과 PMN 후막 유전체를 Screen printing 기법으로 층을 형성하였다. 그 위에 MgO 박막 유전체를 E-Beam 장비를 이용하여 증착 후, ZnS:Mn 박막 형광체를 50 W 의 저전력으로 약 8000 ${\AA}$ 두께로 증착하였다. 형광체는 Sputter 증착 시 Sulfur 부족 현상을 보상해주기 위해 ZnS:Mn (0.5%) Target 에 2 at % 의 Sulfur를 첨가하였으며, 상부 전극으로 사용할 ITO 는 DC Magnetron Sputter 를 이용하여 증착하였다. 어닐링 공정은 Air 분위기에서 급속 열처리 장치 (RTA, Rapid Thermal Annealing) 을 이용하여 600 $^{\circ}C$에서 20 분 진행하였다. 이러한 과정들을 통해 저전압 고휘도의 TFEL Backlight 소자를 제조할 수 있었다.

• 대한기계학회논문집
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• 제17권6호
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• pp.1431-1440
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• 1993

This paper presents a new NC machine performance test and calibration system. In order to measure NC machine erros in simpler, and less time-comsuming way, some indirect measuring systems such as circular disk system and double ball bar system have been developed instead of laser interferometer. But these indirect measuring systems have shown their limits in identifying each of NC machine error sources in absolute numerical value. Therefore, we developed an unique NC machine error measurement system which provides a simple measuring process like other conventional indirect methods and still can indentify each of NC machine error sources in absolute numerical value.