Purpose: This study was to evaluate the wear resistance of 3D printed, milled, and conventionally cured provisional resin materials. Materials and methods: Four types of resin materials made with different methods were examined: Stereolithography apparatus (SLA) 3D printed resin (S3P), digital light processing (DLP) 3D printed resin (D3P), milled resin (MIL), conventionally self-cured resin (CON). In the 3D printed resin specimens, the build orientation and layer thickness were set to $0^{\circ}$ and $100{\mu}m$, respectively. The specimens were tested in a 2-axis chewing simulator with the steatite as the antagonist under thermocycling condition (5 kg, 30,000 cycles, 0.8 Hz, $5^{\circ}C/55^{\circ}C$). Wear losses of the specimens were calculated using CAD software and scanning electron microscope (SEM) was used to investigate wear surface of the specimens. Statistical significance was determined using One-way ANOVA and Dunnett T3 analysis (${\alpha}=.05$). Results: Wear losses of the S3P, D3P, and MIL groups significantly smaller than those of the CON group (P < .05). There was no significant difference among S3P, D3P, and MIL group (P > .05). In the SEM observations, in the S3P and D3P groups, vertical cracks were observed in the sliding direction of the antagonist. In the MIL group, there was an overall uniform wear surface, whereas in the CON group, a distinct wear track and numerous bubbles were observed. Conclusion: Within the limits of this study, provisional resin materials made with 3D printing show adequate wear resistance for applications in dentistry.
Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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v.23
no.2
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pp.73-78
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2016
An increase in the transistor density of integrated circuit devices leads to a very high increase in heat dissipation density, which causes a long-term reliability and various thermal problems in microelectronics. In this study, liquid cooling method was investigated using straight microchannels with various metal bumps. Microchannels were fabricated on Si wafer using deep reactive ion etching (DRIE), and Ag, Cu, or Cr/Au/Cu metal bumps were placed on Si wafer by a screen printing method. The surface temperature of liquid cooling structures with various metal bumps was measured by infrared (IR) microscopy. For liquid cooling with Cr/Au/Cu bumps, the surface temperature difference before and after liquid cooling was $45.2^{\circ}C$ and the power density drop was $2.8W/cm^2$ at $200^{\circ}C$ heating temperature.
Since the 4th industrial revolution was thrown into the world at the Davos World Economic Forum in January 2016, the world has been undergoing major social and economic changes. In this study, the direction of quality management in the 4th industrial revolution era was examined. First, in all the major countries the industrial structural changes and smart business models were confirmed due to the convergence of new ICT such as IoT, robotics, 3D printing, big data, and AI with the existing technologies and industries. Second, we found that although the core technology level of the 4th industrial revolution in Korea is not as good as that of advanced countries, we have been working on expanding smart production methods and creating new industries by utilizing new ICT. Finally, it was confirmed that quality management is a real-time implementation of new ICT that reflects the needs of the market in real time based on big data from the planning and design stage of products or services.
Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SP
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v.37
no.5
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pp.76-83
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2000
This paper proposes a new color halftorning method using color correction by vector error diffusion to reduce color difference, necessarily appears on cross-media color reproduction In order to predict output colors on each device, a neural system IS applied and mean prediction errors in device characterization for monitor and printer are defined to calculate the thresholds for color correction Thus, color difference between monitor and printer is compared per each pixel If color difference is larger than the predetermined mean prediction errors, the halftoned dots to the current pixel are rearranged by vector error diffusion The proposed method can reduce the smear artifact by selective vector error diffusion and decrease color difference on cross- media color reproduction by color correction.
Kim, Kyeong-Man;Song, Kun-Woen;Min, Gak;Kim, Jeong-Yeop;Ha, Yeong-Ho
Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SP
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v.38
no.2
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pp.208-217
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2001
Model-based color image halftoning method using dot-pattern database is proposed for low-resolution color image printing. Dot-pattern database used in the proposed method is based on Blue-Noise Mask. The database consists of dot-patterns constructed by circular dot-overlap model according to each color value. In halftoning procedure, input color value is reproduced as the dot-pattern selected to minimize the difference between the color values of the original image and those of the printed image. Also, the contrast sensitivity function as a human visual model is used to improve the perceived quality of the printed image in dot-pattern selection. Thus, the proposed method can substantially reproduce the color values of the pixels in original image and obtain better image quality. In the experiment, the proposed method has less ΔΕ/Sub ab/ between the original image in monitor and the printed one than that of ED and BNM halftoning. This result approves that the proposed method reproduces better image quality.
The Journal of Korean Institute of Electromagnetic Engineering and Science
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v.28
no.12
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pp.1007-1010
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2017
In this paper, a frequency selective surface(FSS) with bandstop operation for radio-frequency spectrum management is presented. The proposed FSS is composed of patterns of fractal-based miniaturized unit cells for stable performance for angles of incidence and polarizations. For practical applications requiring high productivity and environmental compatibility, we fabricated a film-type FSS by screen-printing using Ag ink, rather than a conventional manufacturing method using a printed circuit board. To validate this study, we measured the transmission characteristics of the proposed FSS using the free-space measurement method, and observed the received strength of signal penetrating the FSS film applied to a wall.
In this study, mesoporous tin oxide was synthesized by sol-gel method using $C_{16}TMABr$ surfactant as a template in a basic condition. The optimum conditions for the synthesis of mesoporous $SnO_2$ were investigated and the obtained samples were characterized by XRD, nitrogen adsorption and TEM analysis. A mesoporous and nanostructured $SnO_2$ gas sensor with Au electrode and Pt heater has been fabricated on alumina substrate as one unit via a screen printing process. Sensing abilities of fabricated sensors were examined for CO and $CH_4$ gases, respectively, at $350^{\circ}C$ in the concentration range of 1~10,000 ppm. Influence of loading amount of palladium impregnated on $SnO_2$ was also tested in detection of those gases. High sensitivity to detecting gases and the fast response speed with stability were obtained with the mesoporous tin oxide sensor as compared to a non-porous one under the same detection conditions.
Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics S
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v.35S
no.6
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pp.137-146
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1998
Recently many devices print electronic images in a variety of ways. The reproduced color, however, is different from the original color because of the difference of hardware characteristics. To maintain device independent color, gamut mapping method is proposed. The proposed color gamut mapping uses nonlinear intensity mapping and clipping for saturation mapping on HSI color space. In the dithering operation, expanded nonlinear ordered dithering and modified error diffusion are proposed. The proposed ordered dithering uses expanded nonlinear quantization which considers overlapping phenomena of neighbored printing dots. In the modified error diffusion, quantization errors to be diffused are adjusted to improve both image blur and color change produced in the error diffusion. So, the printed image is similar to the image of monitor. Our results indicate that proposed algorithm can produce high quality image in the low bit color devices.
Bragg reflecting waveguide devices have been fabricated on a flexible polymer substrate utilizing a post lift-off process which could Provide excellent uniformity of grating Patterns on Plastic film. The 510 m Period Bragg grating pattern is made by two methods. In the first sample the grating is fabricated by exposing the laser interference pattern on a photoresist, and then it is inscribed by $O_2$ plasma etching. The grating pattern of the second sample is formed by a PDMS soft mold imprinting process. The selective adhesion property of SU-8 material for Au and Si surfaces is utilized to prepare a 100-mm thick plastic substrate. Single mode waveguide is fabricated on the plastic substrate using polymer materials with refractive indices of 1.540 and 1.430 for the core and the cladding layers, respectively. The Bragg grating on Plastic substrate does not show any degradation in its spectral response compared to the reference sample made on a silicon wafer.
Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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v.47
no.2
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pp.7-14
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2010
This paper describes the effects of kinetic parameters such as attaching speed, attaching time, and dettaching speed on printing property of electrodes which were fabricated by micro-contact printing with Ag ink. In inking process the attaching speed was preferable to be less than 1 mm/s, attaching time as short as possible, and detaching speed larger than 1000 mm/s in order to obtain the transfer ratio of ink larger than 98%. Meanwhile in printing process the parameters were totally opposite to the results of inking process; attaching speed larger than 100 mm/s, attaching time larger than 30 sec, and detaching speed less than 1 mm/s for the best results. With the parameters we could obtain the micro-contact printed electrodes with the minimum line width of $30\;{\mu}m$, thickness of 300~500 nm, roughness less than 50 nm, and resistivity of about $15{\sim}16{\mu\Omega\cdot}cm$.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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