• 제목/요약/키워드: 화학I

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ECMP 적용을 위한 $KNO_3$ 전해액의 I-V 특성 고찰 (I-V Characteristics of $KNO_3$ Electrolyte for ECMP Application)

  • 한상준;이영균;박성우;이우선;서용진
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2008년도 하계학술대회 논문집 Vol.9
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    • pp.115-115
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    • 2008
  • 본 논문에서는 최적화된 ECMP 공정을 위하여 I-V 특성 곡선과 CV법을 이용하여 패시베이션 막의 active, passive, transient, trans-passive 영역의 전기화학적 특성을 알아보았으며, Cu막의 표면 형상을 Scanning Electron Microscopy (SEM) 측정과 금속 화학적 조성을 Energy Dispersive Spectroscopy (EDS) 분석을 통해 분석하였다.

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Raman Frequencies Calculated at Various Pressures in Phase I of Benzene

  • Tari, Ozlem;Yurtseven, Hamit
    • 대한화학회지
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    • 제57권2호
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    • pp.204-209
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    • 2013
  • We calculate in this study the pressure dependence of the frequencies for the Raman modes of A ($A_g$), B ($A_g$, $B_{2g}$) and C ($B_{1g}$, $B_{3g}$) at constant temperatures of 274 and 294K (room temperature) for the solid phase I of benzene. Using the mode Gr$\ddot{u}$neisen parameter of each lattice mode, which correlates the pressure dependence of the crystal volume and the frequency, the Raman frequencies of those modes are computed for phase I of benzene. Our results show that the Raman frequencies of the three lattice modes (A, B and C) increase as the pressure increases, as expected. The temperature effect on the Raman frequencies is not significant, which can be explained by the experimental measurements.

국내 PWR 일차측 CRUD 제거를 위한 원자로 정지시 화학처리 조건 도출 (I)

  • 성기웅;나정원;김용익;성기방;강덕원;송명재
    • 한국원자력학회:학술대회논문집
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    • 한국원자력학회 1996년도 추계학술발표회논문집(1)
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    • pp.133-139
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    • 1996
  • PWR 원전에서의 원자로 정지시 일차측 화학제어 특성을 고찰하고 제어조건을 검토하여 국내 PWR 일차측 CRUD 제거를 위한 원자로 정지시 화학처리 조건을 도출하였다. 주요 정지시 화학처리 조건으로, 조기붕소화, 산성-환원 분위기 조성 (수소농도 $\geq$ 15cc/kg- $H_2O$), 과산화수소에 의한 산소화 (주입온도 82$^{\circ}C$, 주입농도 2~8 ppm) 및 정화 탈염기 유량을 최대로 하는 운전을 제시하였다.

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구리전해도금에서 알킬아민의 영향 연구 (Study on the Effect of Alkylamines on Cu Electroplating)

  • 이재원;신영민;방대석;조성기
    • 전기화학회지
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    • 제25권2호
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    • pp.81-87
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    • 2022
  • 본 연구에서는, 알킬아민이 구리전해도금에 미치는 영향을 cyclic voltammetry를 이용해 분석해보았다. 수용액상 용해도를 갖는 알킬아민을 도금액에 첨가할 경우, Cu2+의 환원반응이 억제되는 것을 확인할 수 있었다. 다양한 알킬아민 중 1,12-diaminododecane에 대해 다양한 농도 및 도금액 조건에서 억제 효과를 관찰하였다. 1,12-diaminododecane은 산성 도금액상에서 protonation 되어, Cu2+의 착화제로써 작용하지 않았으며, 따라서 1,12-diaminododecane의 억제 효과는 Cu 표면상 흡착에 의한 것임을 확인할 수 있었다. 1,12-diaminododecane는 (i) protonation에 의한 양이온화와 그에 따른 Cu 표면상 기흡착한 음이온과의 정전기적 인력에 의한 흡착과 (ii) amine에 의한 Cu 표면상 직접 흡착의 두가지 특성을 모두 가지고 있었다. 흡착한 1,12-diaminododecane은 도금 반응을 억제할 뿐만 아니라, 구리도금막 형성시 3차원적 성장과 표면 미세화를 야기하였다.