• Title/Summary/Keyword: 한국 제4기학회

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Studies on Nuclear Transplantation in Mouse Embryos III. Production of Cloned Mice from 2nd Generation Nuclear Transplant Embryos (생쥐 수정란의 핵이식에 관한 연구 III. 제2세대 핵이식에 의한 복제생쥐의 생산)

  • 박충생;최상용;이효종;박희성;박성재
    • Journal of Embryo Transfer
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    • v.8 no.1
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    • pp.9-12
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    • 1993

  • 포유동물의 초기 발생단계에서 핵의 분화와 전능성을 규명하고 제2세대 핵이시 기법을 개발하고자 생쥐를 모델로 하여 공핵란은 2-세포기에 있는 수정란의 핵을 사용하였으며, 수핵란은 zygote 및 2-세포기에 있는 수정란을 탈핵하여 제2세대 핵이식을 실시하여 electrofusion system으로 핵융합을 실시하고 cloned embryo를 작출하여 이를 24-48시간동안 체외에서 배양을 시킨 다음 위임신이 유기된 수란생쥐의 난관에 체내 이식을 실시하여 개체로의 발생 여부 등을 조사하였다. 핵이식후의 융합율은 zygote 및 2-세포기의 수정란을 수핵란으로 사용하였을 때 각각 84.7 및 84.0%으로서 차이가 없었으며, 제1세대의 86.8 마ㅊ 85.4%로서 세대간에 차이가 없었다. 4-세포기 이상으로 발달한 제2세대 핵이식 수정란의 체외배양율은 수핵란을 zygote 및 2-세포기 수정란을 사용하였을때 각각 36.2 및 43.7%로서 제1세대 핵이식의 44.3 및 50.4% 보다는 다소 낮았다. 제2세대 핵이식 수정라늘 위임신이 유기된 수란생쥐의 난관에 이식을 실시하여 얻은 산자생산율은 수핵란을 zygote 및 2-세포기 수정란을 사용하였을때 각각 23.0 및 25.0%로서 모두 25마리의 산자를 생산하였다.

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The Study on thickness uniformity of copper electrodeposits controlled by the degree of quaternization of imine functional group (구리 도금 평탄제의 imine 작용기 4차화에 의한 도금 두께 불균일도 제어에 관한 연구)

  • Jo, Yu-Geun;Kim, Seong-Min;Jin, Sang-Hun;Lee, Un-Yeong;Lee, Min-Hyeong
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2018.06a
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    • pp.77-77
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    • 2018

  • Panel level packaging (PLP) 공정은 차세대 반도체 패키징 기술로써 wafer level packaging 대비 net die 면적이 넓어 생산 단가 절감에 유리하다. PLP 공정에 적용되는 구리 재배선 층 (RDL, redistribution layer)은 두께 불균일도에 의해 전기 저항의 유동이 민감하게 변화하기 때문에 RDL의 두께를 균일하게 형성하는 것은 신뢰성 측면에서 매우 중요하다. 구리 RDL은 주로 도금 공정을 통해 형성되며, 균일한 도금막 형성을 위해 도금조에 평탄제를 첨가하여 도금 속도를 균일하게 한다. 도금막에 대한 흡착은 주로 평탄제의 imine 작용기에 포함된 질소 원자가 관여하며, imine 작용기의 4차화에 의한 평탄제의 흡착 정도를 제어하여 평탄제 성능을 개선할 수 있다. 본 연구에서는 도금 평탄제에 포함된 imine 작용기의 질소 원자를 4차화하여 구리 RDL의 도금 두께 불균일도를 제어하고자 하였다. 유기첨가제와 4차화 반응을 위해 알킬화제로써 dimethyl sulfate의 비율을 조절하여 각각 0, 50, 100 %로 4차화 반응을 진행하였다. 평탄제의 4차화 여부를 확인하기 위해 gel permeation chromatography (GPC) 분석을 실시하였다. 도금은 20 ~ 200 um의 다양한 배선 폭을 갖는 구리 RDL 미세패턴에서 진행하였으며, 4차화 평탄제를 첨가하여 광학 현미경과 공초점 레이저 현미경을 통해 도금막 표면과 두께에 대한 분석을 실시하였다. GPC 분석을 통해 4차화 반응 후 알킬화제에 의해 나타나는 GPC peak이 감소한 것을 확인하였다. 광학 현미경 및 공초점 레이저 현미경 분석 결과, 4차화된 질소 원자가 존재하지 않는 평탄제의 경우, 도금 시 도금막의 두께가 불균일하였으며 단면 분석 시 dome 형태가 관찰되었다. 또한 100 % 4차화를 실시한 평탄제를 첨가하여 도금 한 경우 마찬가지로 두께가 불균일한 dish 형태의 도금막이 형성되었다. 반면, 50 % 4차화를 적용한 평탄제를 첨가한 경우, 도금막 단면의 형태는 평평한 모습을 보였으며 매우 양호한 균일도를 가지는 것으로 확인되었다. 이로 인해 imine 작용기를 포함한 평탄제의 4차화 반응을 통해 구리 RDL의 단면 형상 및 불균일도가 제어되는 것을 확인하였으며, 4차화된 imine 작용기의 비율을 조절하여 높은 균일도를 갖는 구리 RDL 도금이 가능한 것으로 판단되었다.

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