A Study on Plasma Etching of Tungsten Thin Films using $SF_6$ and $SF_6-N_2$ gases
($SF_6$ 와 $SF_6-N_2$ 가스를 이용한 텅스텐 박막의 플라즈마 식각에 관한 연구)
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- Journal of Sensor Science and Technology
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- v.8 no.3
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- pp.291-297
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- 1999