• Title/Summary/Keyword: 플라스마 포커스

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펄스형 방전플라스마에서 발생하는 가시광선의 분광특성 연구 (Spectroscopy of Visible Light Emitted from Plasma Occurred by Pulse Discharge)

  • 최운상
    • 한국안광학회지
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    • 제3권1호
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    • pp.27-31
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    • 1998
  • 펄스형 방전플라즈마 발생장치인 플라스마 포커스장치에서 발생하는 가시광선영역의 빛을 시간분해분석법과 시간적분분석법으로 분광분석하였다. 플라스마포커스장치는 전극이 동축형으로 사용되었고, 시간 용해분석법은 고정된 파장의 광펄스를 오실로스코프로 분석하였으며, 시간 적분법을 일정한 범위의 파장대를 필림에 현상하여 densitometer로 분석하였다. 가시광선발생은 방전전압과 기체압력을 변수로 측정하여 방전전압은 17 kV이고 기체압력은 아르곤기체일 경우 0.5 torr가 최적조건이었다.

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펄스형 방전플라스마에서 발생하는 X선 측정 (X-ray Radiation from Pulsed Discharge Plasma)

  • 최운상;문병연;곽호원
    • 한국안광학회지
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    • 제11권4호
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    • pp.311-315
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    • 2006
  • 플라스마 포커스장치에서 방사되는 전자기파 중에서 X선에 대한 특성을 조사하였다. X선 측정은 pin 포토다이오드와 0.5mm 핀홀카메라로 이루어졌으며, X선 이외의 전자기파를 차폐하기 위해 $25{\mu}m$ 베리륨박막을 사용하였다. X선 발생조건은 방전전압이 15kV이었고, 아르곤 기체압력은 0.12torr 이었다. X선 발생의 재현성이 조사되었고, 방사되는 X선의 온도는 3keV 이상이었다.

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펄스형 방전플라스마에서 발생하는 가시광선의 분광(II) (Spectroscopy of visible light emitted from plasma occurred by pulse discharge(II))

  • 최운상;정수자;김용훈;장준규;정정복;신장철
    • 한국안광학회지
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    • 제5권2호
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    • pp.163-165
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    • 2000
  • 펄스형 방전플라즈마 발생장치인 플라스마 포커스장치에서 발생하는 가시광선영역의 빛을 시간적분 분석법으로 분광 분석하였다. 플라스마 포커스장치는 펄스방전에 의해 전기에너지를 빛에너지로 발생시킬 수 있는 장치이다. 분광분석기는 초점거리가 0.5 m인 모노크로메터를 사용하였다. 시간적분 분석법은 분광된 일정한 범위의 가시광선영역의 파장대를 필름에 현상하여 densitometer로 분석하는 방법이다. 가시광선 발생은 방전전압과 기체압력의 최적조건에서 발생되었는데 방전전압은 13kV이고 아르곤과 헬륨기체가 가시광선영역의 빛을 발생시키는데 사용되었다.

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펄스형 방전플라스마 장치에서 반경방향 Current Sheath의 속력 (Radial Speed of Current Sheath in Pulsed Discharge Plasma Device)

  • 최운상;장준규
    • 한국안광학회지
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    • 제13권3호
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    • pp.57-60
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    • 2008
  • 목적: 펄스형 방전플라스마 포커스 장치에서 반경방향 플라스마 current sheath 의 속력을 측정하였다. 방법: 측정에는 시간분해 분광분석법과 로고프스키 코일이 사용되었다. 결과: 15 kV의 방전전압과 수십 torr의 He과 Ar의 기체기압에서 $10^5$ cm/s의 속력이 측정되었으며, 기체기압이 증가할수록 current sheath의 속력은 감소되었다. 결론: 최적조건인 수 torr의 기압에서는 $10^7$ cm/s의 속력이 나올 것으로 예상된다.

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