• 대한소아치과학회지
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• 제31권1호
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• pp.98-107
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• 2004

적절한 마무리와 연마는 치아 수복물의 심미성과 내구성 향상을 위해 필수적인 과정이다. 본 연구에서는 복합레진의 마무리/연마 과정 시행에 있어서 시기적 차이를 두어 마무리/연마 시기가 복합레진의 표면 거칠기와 경도에 미치는 영향을 비교하고자 하였다. 네 종류의 복합레진(Filtek A110, Silux Plus, Revolution formular2, Palfique Estelite)을 이용하여 시편을 제작하고 마무리/연마 과정을 거치지 않은 대조군과 중합 직후 마무리/연마를 시행한 경우와 1주 후 마무리/연마를 시행한 두 가지 실험군으로 구분하였다. 이 시편들의 표면 거칠기$(R_a\;value,\;{\mu}m)$와 경도(VHN)를 측정하고, 주사전자현미경으로 관찰하여 다음과 같은 결과를 얻었다. 1 네 가지 재료 모두 대조군에서 가장 활택한 표면을 얻었고 마무리/연마 과정을 거친 후 표면 거칠기가 증가하였으나, 마무리/연마시기에 따른 유의한 차이는 보이지 않았다. 2. 표면 거칠기는 중합 직후 마무리/연마를 시행한 경우 Silux Plus와 Revolution formular 2가 차이를 보였고, 1 주 후 시행한 경우 Silux Plus와 Palfique Estelite가 차이를 나타내었다(p<0.05). 3. 경도는 재료에 따라 Palfique Estelite > Filtek A110 > Silux Plus > Revolution formular 2 순으로 감소하였으나, 마무리/연마시기에 따른 차이는 보이지 않았다. 4. 마무리 연마시기가 표면 거칠기와 경도에 미치는 영향은 재료에 따라 차이를 보였다.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2003년도 추계학술대회 논문요약집
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• pp.263-263
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• 2003

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2007년도 추계학술대회 논문집
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• pp.527-527
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• 2007

CMP가 1980년 IBM에 의해 반도체 웨이퍼의 표면 연마를 위해 적용된 후, 많은 연구 개발의 노력으로 반도체 집적회로의 제조 공정에서 필수 핵심기술이 되었으나, 소모자재(연마패드, 탄성지지대, 슬러리, 패드 컨디셔너)의 비용이 CMP 공정 비용의 70% 이상을 차지하는 등 제조단가가 높다는 단점을 극복할 수가 없었다. 특히, 고가의 슬러리가 차지하는 비중이 40% 이상을 넘고 있어, 슬러리 원액의 소모량을 줄이기 위한 연구들이 현재 활발히 연구 중이다. 슬러리의 변수로는 연마입자의 종류 및 특성, 용액의 pH, 연마입자의 슬러리내 안정성 등이 있다. 슬러리내 연마입자는 연마량과 균일도 측면에서 밀접한 관계를 가지고 있다. 또한, 연마제의 영향에 따라 연마율의 차이 즉, CMP 특성의 변화를 보이고 있기 때문에 투입량 또한 최적화가 필요하다. 본 연구에서는 새로운 연마제의 특성을 알아보기 위해 탈이온수(de-ionized water; DIW)에 $CeO_2,\;MnO_2,\;ZrO_2$ 등을 첨가한 후 분산시간에 따른 연마 특성과 atomic force microscopy (AFM)분석을 통해 표면 거칠기를 비교 분석하였다. 그리고, 세 가지 종류의 연마제를 각각 1wt%, 3wt%, 5wt% 첨가하여 산화막에 대한 CMP 특성을 알아본 후, scanning electron microscopy (SEM) 측정과 입도 분석을 통해 그 가능성을 알아보았다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2008년도 하계학술대회 논문집 Vol.9
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• pp.539-539
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• 2008

본 논문에서는 투명전도박막의 균일한 표면특성을 확보하기 위해 광역평탄화 공정을 적용하여 투명전도 박막의 표면 거칠기를 연구하였으며 슬러리의 종류에 따른 박막의 연마특성을 연구하였다. 본 실험에서 사용된 ITO 박막은 RF Sputtering에 의해 제작되었고 하부 기판은 석영 Glass가 사용되었다. 광역평탄화를 위한 CMP 공정은 고분자 물질계열의 패드위에 슬러리입자를 공급하고 웨이퍼 캐리어에 하중을 가하며 웨이퍼의 표면을 연마하는 방법으로 가공물을 탄성패드에 누르면서 상대 운동시켜 가공물과 친화력이 우수한 부식액으로 화학적 제거를 함과 동시에 초미립자로 기계적 제거를 하는 것이다. ITO 박막의 평탄화를 위한 공정조건은 Polisher pressure 300 g/$cm^2$, 슬러리 유속 80 ml/min, 플레이튼속도 60 rpm으로 하였다. 위의 조건에 따라 공정을 진행 후 연마특성을 측정하였으며 이때 사용된 슬러리는 산화막에 사용되는 실리카슬러리와 금속연마용 슬러리인 EPL을 사용하였다. 연마율은 실리카 슬러리가 EPL슬러리에 비해 높음을 확인 하였다. CMP 공정에 의해 평탄화를 수행 할 경우 실리카슬러리와 EPL슬러리 모두 CMP전에 비해 돌출된 힐록들이 감소되었음을 알 수 있었다. 비균일도 특성은 모든 슬러리가 양호한 특성을 나타내었다. 평탄화된 박막의 표면과 거칠기 특성은 AFM(XE-200, PSIA Company) 을 이용하여 분석을 하였다.

• 전기전자학회논문지
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• 제23권4호
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• pp.1175-1181
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• 2019

논문에서는 1:10으로 희석된 실리카 슬러리에 산화망간(MnO₂) 연마제를 첨가하여 재처리된 혼합연마제 슬러리(Mixed Abrasive Slurry; MAS)의 화학기계적연마(CMP) 특성을 연구하였다. 최적의 연마 성능을 갖는 슬러리를 설계하기 위해서는 높은 연마율, 하부층에 대한 적절한 연마선택비, 연마 후의 낮은 표면결함, 슬러리의 안정성 등을 얻어야 한다. 산화망간이 첨가된 MAS의 연마 성능은 연마율 및 비균일도와 같은 CMP 성능, 입도 분석, 표면 형상에 대해 평가하였다. 실험결과, 높은 연마율과 낮은 비균일도 측면에서 볼 때 원액 실리카 슬러리와 대등한 슬러리 특성을 얻을 수 있었다. 따라서 본 연구에서 제안하는 MnO₂-MAS를 사용하면 고가의 소모재인 슬러리를 절약하는데 매우 유용할 것이다.

• Restorative Dentistry and Endodontics
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• 제33권1호
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• pp.1-8
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• 2008

본 연구는 공초점 현미경을 이용하여 새로운 단량체와 filler의 크기, 연마방법이 실험용 복합레진의 표면조도에 미치는 영향을 연구하였다. 단점이 많은 희석재인 TEGDMA의 사용을 줄이기 위해, Bis-GMA의 유도체로서 중합수축이 적고 점도가 낮은 새로운 단량체인 methoxlyated Bis-GMA (Bis-M-CMA)를 첨가하고 다른 크기의 filer를 갖는 2종의 실험용 복합레진과 TEGDMA를 함유한 1종의 실험용 복합레진을 제작하였다. EX1; 실험용 복합레진 1 (Bis-M-GMA/TEGDMA = 95/5 wt%, 40 nm 나노필러 함유), EX2; 실험용 복합레진 2 (Bis-M-GMA/TEGDMA = 95/5wt%, 20 nm 나노필러 함유), EX3; 실험용 복합레진 3 (Bis-GMA/TEGDMA = 70/30 wt%, 40 nm 나노필러 함유). 테프론 몰드를 이용하여 지름 6 mm 두께 2 mm의 시편을 각 실험용 복합레진과 Filtek Z250으로 9개씩 만들고 3군으로 분류하였다. Mylar strip 군은 연마를 하지 않았고, Sof-lex군은 #1000 SiC paper로 연마한 뒤 501-lex disc로 연마하였다. Diapolisher 군은 #1000 SiC paper로 연마한 뒤 DiaPolisher polishing point로 연마하였다. 공초점 현미경을 이용하여 각 시편당 7군데에서 Rq (Root mean square roughness), Rv (Valley roughness), Rp (Peak roughness), Rc (2D Roughness), Sc (3D Roughness) 값을 측정하였고, Two-way ANOVA와 Tukey multiple comparisons test로 유의수준 0.05로 통계처리 하였다. 복합레진의 종류 (p < 0.001), 연마 방법 (p < 0.001)은 각각 모두 표면조도 값에 영향을 미치며, 복합레진의 종류와 연마 방법 간에는 교호 작용이 관찰되었다 (p < 0.001). 복합레진의 종류에 따른 표면조도는 EX2가 가장 거친 표면을 보였고, EX3이 가장 평활한 면을 형성하였으며 (p < 0.05). 연마 방법에서는 연마하지 않은 Mylar strip 군이 가장 평활한 면을 형성하였다 (p < 0.05). 본 연구 결과를 종합하여보면 연마하지 않고 Mylar strip하에서 복합레진이 중합된 경우 가장 낮은 표면조도와 평활한 표면을 보였으며, 새로운 레진 단량체인 Bis-M-GMA를 함유한 복합레진이 수복물의 표면조도 측면에서는 필러 크기에 관계없이 기존의 Bis-GMA/TEGDMA를 기질단량체로 사용하는 복합레진에 비교하여 우수하지 못한 것을 확인하였다.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2003년도 추계학술대회 논문요약집
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• pp.82-82
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• 2003

산업이 발전함에 따라 연마 후의 요구 정밀도도 더욱 높아지고 있다. 하지만 일반적인 기계 가공으로는 연마하기 힘든 부위가 아직 너무 많은 것이 현실이다. 곡관부, 관내부, 가공물 사이에 있는 틈새부 등이 그 예이다. 따라서 본 연구에서는 일반적인 기계 가공으로 연마하기 어려운 틈새부의 연마를 하기 위한 기본적인 자기 연마 특성을 관찰 하고자 하는 것이다. 본 연구에서 사용하는 Al은 Al-Mg합금으로 비열처리 5xxx계열이다. 이 합금은 고강도를 가지고 있으면서, 해수에 대한 내식성이 우수하여 널리 이용되는 금속이다. 본 연구에서 사용되는 실험 장치는 두개의 극(N-S) 사이에 연마 입자를 투입하여 브릿지를 형성한다. 이 브릿지 사이를 Al합금이 두개의 서버 모터에 의해 상대적인 운동을 하게 한다. 연마는 이러한 상대 운동을 이용하는 원리이다. 본 연구에서 이루어지는 실험은 연마 입자의 성분비와 양, 그리고 가공시간 등의 변수를 이용하여 가장 우수한 연마 조건을 선택하고자 한다. 차후 연구 과제는 본 연구에서 얻어지는 연마 특성을 이용하여 두 개의 평판 혹은 어려 개의 Al평판의 틈 즉, 일반적인 기계 가공으로 연마하기 힘든 부위의 연마에 적용하여 그 특성을 알아보고, 일선 산업 현장에 응용 가치를 알아보고자 한다.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2004년도 춘계학술대회 논문요약집
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• pp.246-246
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• 2004

현재 비구면렌즈를 만들기 위해서는 다양한 방법이 있다. Glass종류의 가공시 초정밀 절삭가공기(DTM)에서 가공하거나 정밀 연삭기를 가지고 가공하게 된다. 이 과정에서 렌즈 표면에 공구 흔적이나 표면거칠기 개선을 위해 연마작업을 하게 되는데, 사용하는 장비가 폴리싱 머신이다. 축대칭인 폴리싱머신의 경우 X, Z, $\theta$로 동시 3축제어가 가능하다. 하지만 이 장비의 경우 연마에서 원하는 형상정밀도와 표면거칠기를 얻기 위해 각축들의 위치정밀도와 분해능이 높은 부품을 사용하여 기계자체가 고가라는 점이 단점으로 작용한다.(중략)

• 한국철도학회논문집
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• 제13권6호
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• pp.577-582
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• 2010

고속철도 운행에 따라 레일표면결함에 대한 관리의 중요성이 점점 더 증대되고 있다. 차량의 고속주행시 레일표면결함은 레일의 피로수명 단축 및 궤도의 열화 촉진, 승차감 저하를 유발하기 때문이다. 현재 경부고속철도에서는 레일의 효율적 유지보수를 위하여 레일연마를 수행하고 있다. 본 논문에서는 레일연마에 따른 레일의 피로수명을 예측하였다. 이를 위해서 연마 후 KTX 운행시 레일 저부의 휨응력을 계측하였으며, Rain-flow counting 기법을 적용하여 빈도해석을 실시하여 RCM에 의해 등가응력범위를 산정하였다. 선형누적피로피해를 이용한 피로수명 평가방법은 수정 Miner 법칙에 기초하였다. 해석결과 연마에 따른 레일의 피로수명이 15% 증가되는 것으로 나타났다.

• 한국정밀공학회지
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• 제15권2호
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• pp.53-60
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• 1998

In this study, it is experimented to find factors effecting surface roughness using the system of experiments. in the mirror surface finishing system. (1) The film feed and oscillation frequency in $40{\mu}m$ abrasive film, grinding speed in $30{\mu}m$, and machining time in $15{\mu}m$15 are the main factors effecting the surface roughness. (2) Applying the optimal finishing condition to $40{\mu}m$, $30{\mu}m$, $15{\mu}m$ abrasive finishing film in sequence, it is possible to obtian about Ra 10 nm surface roughness on SM45C workpiece. (3) Application of the system of experments to the micro abrasive grain film finishing was very effective method in the extraction of main factor and optimal condition.