Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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2013.05a
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pp.137-137
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2013
본 연구에서는 반도체 검사 장비인 프로브 카드의 핵심 부품인 프로브 니들의 팁 부분의 내마모성을 향상시키기 위하여 무전해 Ni-B-W 합금 도금 실험을 실시하였다. 무전해 Ni-B-W 합금 도금 실험에서 여러 가지 제어인자 중 도금욕의 pH와 온도 그리고 환원제의 농도 등을 변수로 하였다. 도금욕 pH와 온도에 따른 전착속도 및 물성 변화를 관찰하였으며, 환원제 농도 변화에 의한 open circuit potential의 변화를 측정하였다.
Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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2013.05a
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pp.177-177
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2013
DC 마그네트론 스퍼터링을 이용하여 열처리 온도 변화에 따른 금속 박막의 물성 변화 및 특성 분석을 위해 유리기판 위에 박막의 두께 10 nm로 증착하여 열처리 공정을 진행하였다. 상온에서 Ag 박막의 비저항은 평균 $6.9{\times}10^{-6}{\Omega}.cm$로 Cu 박막의 $4.9{\times}10^{-5}{\Omega}.cm$보다 낮은 전기 전도성을 가지는 것을 확인 할 수 있었다. 또한 Ag 박막은 열처리 온도의 증가와 관계없이 전기전도성에 대한 큰 차이가 없으나 Cu 박막의 경우 열처리 온도 $150^{\circ}C$에서 $2.5{\times}10^{-4}{\Omega}.cm$로 비저항의 변화를 가졌다. 광학적 특성으로 Ag 박막은 58%에서 42%로 감소하는 반면 Cu 박막은 50%에서 75%이상의 광 투과도를 가지는 것을 확인 하였다.
Kim, Min-Ho;Kim, Tae-Wan;Park, Jun-Sik;Kim, Jeong-Min;Lee, Seong
Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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2011.10a
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pp.40.1-40.1
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2011
TZM합금은 융점이 높은 Mo 기지에 미세한 (Zr,Ti)C의 석출물이 분산되어 있어 고온에서 다양한 부품에 응용가능하다. 하지만, TZM합금이 대기중 고온에 노출될 경우, 초기 산화물이며 약 $600^{\circ}C$부터 기화가 시작되는 $MoO_3$상이 형성됨으로써 물성에 치명적인 영향을 미친다. 이러한 산화거동을 막기 위하여 표면보호 코팅을 필요로 한다. 본 연구에서는 복잡한 형상과 대량생산이 가능하며 표면 코팅층과 모재의 접합성이 가장 강하다고 알려진 확산코팅법을 이용하여 Si을 TZM 합금에 코팅하였으며, 코팅층의 형성 속도론을 이해하기 위하여 온도별 및 시간별로 코팅을 수행하여 시간과 온도에 따른 코팅층의 형성 기구를 고찰하고자 하였다. Si의 확산코팅결과, $MoSi_2$층은 $1350^{\circ}C$에서 산화시에 두께가 감소하였으며, $Mo_5Si_3$상은 두께가 성장하였다. 코팅층의 확산거동을 속도론적 분석을 통하여 규명하고 논의하고자 한다.
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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v.14
no.6
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pp.64-73
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1997
솔리드 모델러, 자동요소분할 기법, 4면체 특이요소, 응력확대계수의 해석 기능을 통합하여, 3차원 균열의 응력확대계수를 효율적으로 해석할 수 있는 시스템을 개발하였다. 균열을 포함하는 기하모델을 CAD 시스템을 이용하여 정의하고, 경계조건과 재료 물성치 및 절점밀도 분포를 기하모델에 직접 지정함으로써, 퍼지이론 에 의한 절점발생과 데로우니 삼각화법에 의한 요소가 자동으로 생성된다. 특히, 균열 근방에는 4면체 2차 특이요소를 생성시켰으며, 유한요소 해석을 위한 입력 데이터가 자동으로 작성되어 해석코드에 의한 응력 해석이 수행된다. 해석 후, 출력되는 변위를 이용하여 변위외삽법에 의한 응력확대계수가 자동적으로 계산되어 진다. 본 시스템의 효용성을 확인하기 위해, 인장력을 받는 평판내의 표면균열에 대해 해석하여 보았다.
Transactions of the Korean Society of Machine Tool Engineers
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v.15
no.4
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pp.56-62
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2006
Various kinds of rapid prototyping processes are available, such as stereo-lithography apparatus(SLA), fused deposition modeling(FDM), selective laser sintering(SLS), 3 dimensional printing(3DP), and laminated object manufacturing(LOM). In this study, benchmark tests are carried out to obtain detailed informations about surface roughness and mechanical properties of those parts. Although the patterns and roughness averages of part surface are dependent on the surface direction, the roughness of SLA part is the best and that of FDM or 3DP part is the worst. It is shown that FDM part has an advantage in impact strength, SLS(or EOS) part in compressive strength, and LOM part has an advantage in tensile strength and heat resistance, but the change of building direction in FDM and LOM processes severely weakens the tensile and impact strengths.
용액분무법으로 RuO2 박막을 석영 기판위에 성장시켰다. RuO2 박막의 결정구조는 정방 구조이 며 격자상수 a0=4.508 A, c0=3.092 A 이였다. RuO2 박막은 금속성 전도성을 나타냈다. RuO2박마의 광흡 수도는 후열처리함에 따라 증가하였고 박막의 광흡수도의 최소값은 후열처리 온도에 의존하지 않으며 에너지로 환산하면 ∼2.0eV로 거의 일정하였다. RuO2 박막의 후열처리의 온도와 후열처리 분위기가 기 판위에 성장된 RuO2 박막의 표면형태 grain 크기 grain 경계폭 전기적특성등에 영향을 미쳤다. RuO2 박 막이 실험실내의 공기중에 노출됨으로서 시료의 표면에 S와 C가 물리 흡착되었으며 sputtering 시간이 증가함에 따라 Ar+ 이온 빔의 충겨으로 RuO2가 부분적으로 환원되어 O원자의 피크 대 피크 높이가 감 소하여 O/Ru 의피크 높이의 비가 낮게 관측되었다.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2014.02a
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pp.200.2-200.2
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2014
HAP란 Hydroxylapatite의 준말이며 우리말로는 수산화인회석으로도 불린다. 본 실험에서는 다양한 농도의 염기조건(NaOH $10^{-3}$, $10^{-2}$, $10^{-1}$, 1, 10, 30 M)에서 서로 다른 형태의 HAP를 수열합성법을 통해 합성하였다. XRD (X-ray powder diffraction) 로 관찰한 결과 NaOH 농도 $10^{-1}M$ 이상에서부터 HAP가 합성됨을 확인하였다. Transmission and scaning electron microscopy 를 이용하여 HAP의 모양과 표면을 관찰해본 결과, NaOH의 농도가 진해 질수록 육각기둥의 형태에서 사각형으로 변화하였다. 6개의 각각의 HAP의 표면에 Pd (Palladium)을 도입하고 그 양을 정량화 하였다. 합성된 Pd-HAP를 C-C coupling reaction에 이종상 촉매로 사용하였다.
Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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2009.05a
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pp.135-135
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2009
ZIO 박막은 RF 마그네트론법으로 다양한 $In_{2}O_{3}$ 함량을 소결체 ZIO 타겟을 사용하여 유리 기판위에 증착되었다. $In_{2}O_{3}$ 9.54 wt%를 함유한 ZIO 타겟을 이용하여 PT에서 증착한 박막이 가장 낮은 비저항 $9.13{\times}10^{-4}{\Omega}cm$를 나타내었다. 전기적 특성을 향상시키기 위하여 기판온도를 상승하였으나 오히려 전기적 특성이 저하되는 결과를 나타났다. 게다가 기계적 특성 역시 기판온도 상승에 따라 저하되었다. 한편 XRD 측정을 통하여 기판온도 200과 $300^{\circ}C$에서 ZnO (002) 면과 $In_{2}O_{3}$ (400) 면이 동시에 관찰되었다. 그러므로 전기적, 기계적 특성의 저하는 상분리, 결정립크기의 감소와 같은 결정성 저하에 기인한다고 생각된다.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.47
no.4
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pp.168-173
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2014
The paper presents the comparative results of TiAlN coatings deposited by DC and pulsed DC asymmetric bipolar magnetron sputtering systems. The results show that, with the decreasing duty cycle and increasing pulse frequency, the coating morphology changes from a columnar to a dense structure, with finer grains. Pulsed sputtered TiAlN coatings showed higher hardness, higher residual stress, and smaller grain sizes than dc prepared TiAlN coatings. Moreover residual stress of pulsed sputtered TiAlN coatings increased on increasing pulse frequency. Meanwhile, the surface roughness decreased continuously with increasing pulsed DC frequency up to 50 kHz.
Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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2017.05a
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pp.103.2-103.2
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2017
Nanocrystalline HfN coatings were prepared by reactively sputtering Hf metal target with N2 gas using a magnetron sputtering system operated in DC and ABPP (asymmetric bipolar pulsed plasma) condition with various duties and frequencies. The effects of duty and frequency, ranging from 75 to 100 % and 5 to 50 kHz, on the coating microstructure, crystallographic and mechanical properties were systematically investigated with FE-SEM, AFM, XRD and nanoindentation. The results show that pulsed plasma has a significant influence on coating microstructure and mechanical properties of HfN coatings. Coating microstructure evolves from the columnar structure to a highly dense one as duty decreases. Average grain size and nano hardness of HfN coatings were also investigated with various pulsed conditions.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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