• Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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• v.19 no.10
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• pp.212-220
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• 2002

The finishing process for die and mold manufacturing is very important because it influences the final quality of products. Injection molds need higher quality surface than general purpose dies and molds. Conventional polishing can not make mold surface down to nanometer roughness efficiently because of their loading and glazing. This paper focused on the development of fixed abrasive pad using water swelling mechanism of polymer binder network. Self-conditioning was recognized as the long term polishing stabilization tool without any loading or glazing because water makes fixed abrasives free by swelling of the pad. Consequently, stable nano-polishing process has been applied on the injection mold, from the experimental results with polished surface roughness of Ra 15.1nm on STD-11 die steel.

• Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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• 1992.04a
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• pp.55-59
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• 1992

최근 신 연삭 공구인 미세한 지립의 다이아몬드 휠을 이용함으로써 고경도와 취성을 지니는 엔지 니어링 세라믹스등의 신소재및 초경재 등 난삭재류를 대상으로 경면 가공을 추구하고자 노력이 진행중이다. 이는 래핑이나 폴리싱 등의 유리 지립에 의한 경면 창성법에 비하여 가공 능률이나 가공 정도가 높고 곡면이나 홈 등의 복잡 형상부의가공에도적용할 수 있다는 잇점이 있기 때문이다. 따라서 현재 이러한 신 연삭 가공법은 지금까지 연삭 가공후에 연마 가공 공정을 부가함으로써 초정 밀 효과를 지닐 수 있었던 각종 부품들에대한 단일 최종 마무리가공 공정으로의 응용에많은 기대를 걸고 있다. 본 연구는 높은 압축 강도치, 고온경도치와 내마모성, 강성 등을 지님으로써 외부 압력에 대한 변형률이 극히 적어 금형 칫수에가까운 제품을 생산할 수 있다는 특성으로 근래그 사용도가 급증 하고 있는 초경합금 금형재를 대상으로 해그 동안 난삭재에 대한 최적 가공 조건 설정이 정립되어 있지 못했던 관계로 인하여 기존의 숙련자 경험에만 주로 의존 할 수 밖에 없었던 단순한 다이아몬드 연삭 공구의 활용추세로부터 탈피하고 Diamond wheel 및 범용 연삭 공구를 최적으로 활용함으로써 연삭 가공의 초정밀화를 달성하며후 가공을 생략할 수 있는 가공 공정을 창출 해내기위하여, 상관 관계를 연삭 저항 및 가공 표면 품위등의 측면으로분석, 평가해봄으로써 초정밀 가공 차원에서의 최적 가공 조건 설정을 위한 지침을 명확하게 규명하기 위하여 실험적으로 수행하게 된 것이다.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2014.02a
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• pp.220.1-220.1
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• 2014

본 연구에서는 PECVD 공법 중에 이온화 에너지가 높은 선형이온빔 소스를 이용하여 고온에서 전도성 카본박막을 코팅하였다. 카본 박막 코팅을 위한 Precursor는 $C_2H_2$ gas를 이용하였으며, 온도에 따른 카본 박막의 전기적 특성 및 두께에 따른 카본 박막 성장 구조를 분석하였다. 카본 박막의 전기적 특성은 Interfacial contact resistance (ICR) 방법으로 측정하였으며, 접촉 저항 측정을 위한 모재는 SUS316L stainless steel을 사용하였고 카본 박막 성장 구조 분석을 위해서는 폴리싱된 Si-wafer를 사용하였다. 선형이온빔 소스를 이용하여 상온에서 증착한 카본 코팅의 접촉저항 값은 50 nm 코팅 두께에서 $660m{\Omega}cm^2@10kgf/cm^2$으로 비정질상의 특성을 나타냈으며, 고온에서는 $14.8m{\Omega}cm^2@10kgf/cm^2$으로 온도가 증가함에 따라 비정질상의 카본 박막이 전도성을 가지는 카본박막으로의 성장을 확인할 수 있었다. 또한 전도성 카본 박막의 성장 구조 분석은 FE-SEM 및 Raman spectrum 분석을 통해 확인하였으며, 그 결과 코팅 두께가 증가할수록 카본 입자들은 수nm에서 약 150 nm의 카본 cluster를 형성하며 성장하였다. 이때 전도성 카본 박막의 두께에 따른 접촉저항의 값은 고온 조건에서 카본 박막의 두께가 약 100 nm일 때, $12.1m{\Omega}cm^2@10kgf/cm^2$의 가장 낮은 값을 가졌다. 위의 결과를 경제성이 아주 우수한 대면적 전도성 나노 카본 박막의 상용화 가능성이 높아질 것으로 기대된다.

• Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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• v.18 no.10
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• pp.69-75
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• 2001

Systems engineering has been utilized in system development primarily for large-scale projects or commercial large-scale systems during the last several decades. We can understand why it would be useful to apply systems engineering to the development of a relatively small system. However, it is difficult to effectively carry out a project due to the complexity in applying the methods of systems engineering. To apply systems engineering to the development of a small system, the system engineering processes should be tailored. We established a requirements driven system design process(RDSDP) that can effectively carry out the system design far a small system. RDSDP is a system design process that treats all the requirements thoroughly and effectively. This is applied by the designer according to a standardized and systematized process during the first phase in design, in which system specifications are made. By using RDSDP, we can affect a reduction of the number of redesign phases in the process of the system design, shorten the period for to make specification, which will then cause the system to succeed in the actual application.

• Proceedings of the Korean Society for Technology of Plasticity Conference
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• 2009.05a
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• pp.78-83
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• 2009

In general, Light-hardening polymer was used UV nanoimprint technology. A light-hardening polymer was had the problem of poor hardness, durability. In order to overcome the problem of polymer, inter change optical glass. However glass is very manufacture and a lowering of standars transmittance. In order to glass recover was necessary polishing process. The process is magnetorheological fluids polishing. MR polishing has been developed as a new precision finishing technique to obtain a fine surface. Hence, Magnetorheological fluids has been used for micro polishing to get micro parts. This polishing process guarantees high polishing quality by controlling the fluid density electrically. The applied material in experiments is fused silica glass. Fused silica glass is widely used in the optical field because of high degree of purity. For MR polishing experiments, MR fluid was composed with DI-water, carbonyl iron and nano slurry ceria. The wheel speed and electric current were chosen as the variables for analyzing the characteristics of MR polishing process. Outstanding surface roughness of Ra=1.58nm was obtained on the fused silica glass specimen. And originally glass transmittance was recover on the fused silica glass.

• Journal of the Korean Society of Manufacturing Technology Engineers
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• v.25 no.2
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• pp.112-117
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• 2016

In the construction industry, concrete polishing is used to grind and rub the surface of concrete grounds with polishing machines to increase the strength of the concrete after deposition. Polishing is performed manually in spite of the generation of dust and the requirement of frequent replacements of the polishing pad. The concrete polishing robot developed in this research is a novel polishing automation system for preventing the workers from being exposed to poor working environments. This robot is able to change multiple polishing tools automatically; however, the workers can conveniently replace the worn-out polishing pads with new ones. The mobile platform of the polishing robot employs omnidirectional wheels to enable a flexible motion even in small and complicated workspaces. To evaluate the performance of the developed concrete polishing robot, extensive experiments including square trajectory tracking, automatic tool changing, actual polishing, and path generation simulation were performed.

• Journal of the Korean Society of Manufacturing Technology Engineers
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• v.25 no.4
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• pp.301-306
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• 2016

High speed polishing can kinematically increase the polishing removal rate by using the conventional Preston equation, especially for hard substrates such as sapphire or diamond. However, high speed effects should be clarified beforehand considering the lubrication state and process parameter variations. In this paper, we developed a polishing experimental method and apparatus to determine the lubrication state by measuring the real time friction coefficient using two load cells. Through experiments, we obtained a boundary lubrication state above 0.35 of the friction coefficient by using low table speed and high polishing load, indicating a synchronized stable behavior in polishing head rotation. However, larger Stribeck indexes by a high speed above 200 rpm can generate a hydrodynamic lubrication state below 0.25 of the low friction coefficient. This causes the polishing head rotation to stop. A forced and synchronized head rotation is required for high speed polishing.

• Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference
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• 2010.05a
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• pp.795-797
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• 2010

습식 식각은 식각용액으로서 화학용액을 사용하는 공정으로 반응물이 기판표면에서 화학반응을 일으켜 표면을 식각하는 과정이며, 표면결합의 제거를 위한 식각연마와 폴리싱을 위한 식각, 그리고 구조적 형상 패턴등이 있다. 여기서 화학용액은 산화제 또는 환원제 역할을 하는 혼합용액으로 구성된다. 습식 식각 시 수${\mu}m$의 해상도를 얻기 위해서는 그 부식액의 조성이나, 에칭시간, 부식액의 온도 등을 고려하여야 한다. 또한 습식 식각 후 포토 레지스트를 제거하는 과정에서 포토 레지스트를 깨끗이 제거해야 하며, 제거공정 자체가 a-Si:H 박막을 부식 하지 않을 조건으로 행하여야 한다. 포토레지스트 제거 후 잔류 포토 레지스트를 제거하기 위해서 본 실험에서는 RCA-I 세척 기법을 사용한 후 D.I 로 린스 하였다. 본 실험에서 사용한 금속은 Cr, Al, ITO 로 모두 DC sputter 방법을 사용해서 증착하여 사용하였다. Cr박막은 $1300\AA$ 정도의 두께를 사용하였고, ITO (Indium Tin Oxide) 박막은 가시광 영역에서 투명하고 (80% 이상의 transmittance), 저저항 (Sheet Resistance : $50{\Omega}/sq$ 이하) 인 박막을 사용하였으며, 신호선으로 주로 사용되는 Al등의 증착조건에 따른 wet etching 특성을 조사하였다.

• Proceedings of the Korean Institute of Building Construction Conference
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• 2019.11a
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• pp.62-63
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• 2019

Currently, polymer-based tile cement (Thin-bed method) and epoxy adhesive (Thick-bed method) are mainly used as tile adhesive for polishing and porcelain. In the case of epoxy adhesive, there is a low economic efficiency, there is a problem that the work efficiency is reduced by mixing the resin and the hardener. In particular, the epoxy contains a bisphenol A and amine component, there is a risk of workable disease when a worker is exposed to odor and harmful gases generated in the epoxy adhesive for a long time. Against this background, it is necessary to analyze the hazards of using epoxy adhesives indoors, and develop cementitious high performance tile adhesive products with significantly lower hazards than epoxy adhesives.

• Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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• 2001.10a
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• pp.269-275
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• 2001

정밀가공기계 및 소음발생원의 방진재료로서 사용될 수 있는 재료는 우선 내부 및 외부진동의 흡수성과 감쇠성이 뛰어나야 하고, 시간 및 온도변화에 따라 형상 및 치수 정밀도가 안정되어야 하며, 불규칙한 외력과 운동전달기구의 변동 하중 하에서도 높은 정적, 동적 강성을 유지해야 한다. 본 연구에서 개발한 재료인 Ferrite-Resin 복합재료는 Resin-Concrete에 미세한 산화철을 filler 재료로 사용함으로써 주철 및 강의 구조재료가 갖는 강성과 비중의 값에 접근시킬 수이었다. 일반적으로 불포화 폴리에스테르 수지나 에폭시계 수지는 glass 전위점의 근처에서 진동에너지의 흡수가 큰 영역이 존재하며 이는 10 .mu.m 이내의 미세한 filler재료가 포함되었을 경우에도 그 종류에 관계없이 큰 변화가 없는 성질이다. 시험편을 통한 재료실험을 통하여 개발된 복합재료를 모델 구조물에 적용시킴으로서 그 적용성을 검토하였다. 앞으로의 수지와 Ferrite 함유량 및 제조 공정이 적절히 모색되면, 이 방진재료가 정밀기계의 구조재료로서 뿐만 아니라 냉동기, 소형선박의 기관실, 가전제품 및 기어박스 등의 케이싱 재료로 사용되는 방진재료로서 그 응용이 확대될 수 있을 것으로 본다.