• 한국공작기계학회논문집
• /
• 제18권1호
• /
• pp.68-75
• /
• 2009

A major disadvantage of thermal nanoimprint lithography(NIL) is the thermal cycle, that is, heating over glass transition temperature and then cooling below it, which requires a significant amount of processing time and limits the throughput. One of the methods to overcome this disadvantage is to make the processing temperature lower Accordingly, it is necessary to determine the effects on the processing parameters for thermal NIL at reduced temperatures and to optimize the parameters. This starts with a clear understanding of polymer material behavior during the NIL process. In this work, the squeezing and filling of thin polymer films into nanocavities during the low temperature thermal NIL have been investigated based upon a two-dimensional viscoelastic finite element analysis in order to understand how the process conditions affect a pattern quality; Pressure and initial polymer resist thickness dependency of cavity filling behaviors has been investigated.

• 한국산학기술학회논문지
• /
• 제15권4호
• /
• pp.1838-1843
• /
• 2014

나노 임프린트 리소그래피는 수십 나노미터에서 수십 마이크론에 이르는 패턴을 간단하고 저비용으로 대면적 기판에 제작할 수 있어 차세대 패터닝 기술로 주목 받고 있다. 특히, 발광소자, 태양전지, 디스플레이 등의 분야에서는 저반사 나노패턴, 광결정 패턴 등 기능성 패턴을 제작하고 이를 적용하는 연구가 활발히 진행 중에 있다. NIL공정을 통해 성공적으로 패턴을 전사시키기 위해서는 적절한 공정조건의 선택이 필요하다. 이에 본 연구에서는 열 나노임프린트를 이용하여 모스아이 패턴을 전사할 때, 충전과정 및 잔류층 형성을 수치 해석하여 폴리머 레지스트의 점탄성 거동을 살펴 보았고, 레지스트 초기 코팅 두께의 변화 및 가압력의 변화가 충전과정 및 잔류층에 미치는 영향을 조사하였다. 해석결과 본 논문에서 고려된 PMMA의 경우, 4MPa 이상의 압력에서 100초 내로 충전공정이 완료되는 것으로 나타났다.