• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2016년도 제50회 동계 정기학술대회 초록집
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• pp.302.2-302.2
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• 2016

알루미늄 산화막 스퍼터링 공정 중 타겟이 반응성이 있는 산소와 결합하여 산화되는 타겟 오염은 증착 효율의 감소[1]와 방전기 내 아크 발생을 촉진[2]하여 이를 억제하는 방법이 연구되어 왔다. 본 연구에서는 알루미늄 산화막 증착 공정 중 타겟 오염 현상이 기판에 증착된 알루미늄 산화막 특성이 미치는 영향을 분석하였다. 실험에는 알루미늄 타겟이 설치된 6 인치 웨이퍼용 직류 마그네트론 스퍼터링 장치를 활용하였다. 위 장치에서 공정 변수 제어를 통해 타겟 오염 현상의 진행 속도를 제어하였다. 공정 중 타겟 오염 현상을 타겟 표면 알루미나 형성에 따른 전압 강하로 관찰하였고 타겟 오염에 의한 플라즈마 변화를 원자방출분광법을 통해 관찰하였다. 이 때 기판에 증착 된 알루미나 박막의 화학적 결합 특성을 XPS depth로 측정하였으며, 알루미나 박막의 두께를 TEM을 통해 측정하였다. 측정 결과 타겟 오염 발생에 의해 공정 중 인가 전압 감소와 타겟 오염에 소모된 산소 신호의 감소가 타겟 오염 정도에 따라 변동되었다. 또한 공정 중 타겟 오염 정도가 클수록 기판에 증착한 막과 실리콘 웨이퍼 사이에 산소와 실로콘 웨이퍼의 화합물인 산화규소 계면의 형성 증가됨을 확인했다. 위 현상은 타겟 오염 과정 중 발생하는 방전기 내 산소 분압 변화와 막 증착 속도 변화가 산소의 실리콘 웨이퍼로의 확산에 영향을 준 것으로 해석되었다. 위 결과를 통해 스퍼터링 공정 중 타겟 오염 현상이 기판에 증착 된 알루미나 막 및 계면에 미치는 영향을 확인하였다.

• 한국정보처리학회:학술대회논문집
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• 한국정보처리학회 2000년도 제13회 춘계학술대회 및 임시총회 학술발표 논문집
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• pp.835-841
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• 2000

호스트와 타겟 간의 통신 부담과 타겟 자원이 제한적이라는 문제를 해결하기 위해서, 호스트 중심 원격 개발 환경(Remote Development Environment: RDE)을 구성하였다. 이 원격 개발 환경은 여러 개발 도구로 구성되어 있는데, 이들 도구가 타겟시스템에 접속하여 내장형 응용를 개발하는데 있어서 공통 기능, 공통 데이터가 존재한다. 그런데 이들을 각각 유지시키는 것은 타겟시스템에 부담을 줄 뿐만 아니라, 개발 도구를 추가/구현하는 것도 매우 어렵게 한다. 이 문제를 해결하기 위해 원격 개발 도구들의 공통 요소들을 모아 도구와 타겟시스템 사이에 중개자 역할을 하는 타겟관리자를 둔다. 타겟관리자는 미들웨어로서 호스트와 타겟 간의 통신 채널을 하나로 유지하면서 도구와 타겟 간의 통신을 중재하고, 도구들이 심볼 테이블을 공유할 수 있도록 심볼 테이블을 관리한다. 또한, 타겟에 있는 도구 전용 메모리를 관리하며, 호스트 상에서 개발한 내장형 소프트웨어를 타겟에 로딩하는 일을 처리한다. 이러한 타겟관리자를 사용하는 원격 개발 환경은 도구들에게 공통 인터페이스를 제공하여, 통신 방식 등의 하부 구조에 상관없이 서비스를 받을 수 있고, 새로운 도구를 추가하는 것도 용이하게 할 수 있다는 장점을 갖게 된다. 본 논문에서는 ETRI 에서 개발 중인 실시간 운영 체제인 Q+용 타겟관리자를 설계하고 구현한다. 또한, 타겟관리자가 동작하게 될 내장형 실시간 응용 개발 환경에 대하여 소개하고, 구현 결과를 도구들과 연계하여 보여주며, 타겟 관리자를 둔 원격 개발 환경이 타겟 관리자를 두지 않은 경우에 비해 호스트와 타겟 간의 통신 횟수가 얼마나 감소하는지 시험 결과를 통해 보여준다. 현재 타겟 관리자의 프로토타입을 개발하여 도구들과 통합 시험을 하였는데 기본 기능들이 성공적으로 수행됨을 확인하였다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2013년도 제44회 동계 정기학술대회 초록집
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• pp.533-533
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• 2013

본 연구에서는 선형 대향 타겟 스퍼터 시스템을 이용하여 hetero sputtering방법으로 증착한Al-Ga-Zn-O (AGZO) 박막의 기판-타겟간 거리(Target-to-Substrate distance)에 따른 전기적, 광학적, 구조적 특성을 분석하였다. 타겟과 기판 사이의 거리 변화(30~120 mm)에 따른 AGZO 박막의 특성 변화를 관찰하기 위하여 일정한 DC 파워 250 W, 공정압력 0.3 mTorr, Ar 20 sccm에서 서로 다른 AZO 타겟과 GZO 타겟을 이용하여 hetero-sputtering 공정을 진행하였다. 최적의 타겟과 기판 사이의 거리를 결정하기 위해 AGZO 박막의 투과도(T)와 면저항($R_{sh}$)을 기반으로 figure of merit ($T^{10}/R_{sh}$)값을 계산하였다. 기판-타겟간 거리는 AGZO 박막의 밀도에 영향을 주는 핵심 인자로 30 mm에서 120 mm로 증가수록 밀도가 낮은 AGZO 박막이 형성되었다. 최적의 타겟과 기판 사이의 거리(30 mm)에서 AGZO 박막은 132 Ohm/sq의 낮은 면저항과 87.2%의 높은 투과도를 나타내었다. 그러나 기판-타겟간 거리가 증가할수록 같은 두께에서 면저항은 급격히 증가함을 발견할 수 있었으며 이러한 특성 변화는 스퍼터되어 기판에 도달하는 입자의 에너지 차이로 설명이 가능하다. 따라서 본 연구에서는 기판-타겟간 거리에 따른 AGZO 박막의 특성 변화를 설명할 수 있는 메커니즘을 다양한 분석을 통해 제시하였다. 또한 적화된 AGZO 투명 전극을 이용해 제작한 GaN-LED의 Damage free sputtering 기술에 대해서 소개한다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2009년도 제38회 동계학술대회 초록집
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• pp.237-237
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• 2010

에너지소비와 엔진 부품의 마모문제를 해결하기 위해, soft-phase를 doping한 hard상의 coating에 대한 실험이 최근 중요한 연구 테마로서 진행 중이다. 특히 MoN-Cu coating은 미국 Argon 연구소의 Erdemer박사 등에 의해, 고온 및 상온 윤활성이 우수한 코팅층으로 보고된 이후 많은 연구가 진행되고 있다. 그러나 기존 연구는 Mo와 Cu의 원소타겟을 이용한 연구가 주력이 되었다. 높은 경도와 저온 고온에서의 낮은 나노 혼합물 코팅 종류는 일반적으로 Mo와 Cu와 같은 원소 합금을 이용한 다수 타겟을 이용한 공정에 의해 진행되어왔다. 이러한 복수의 타겟에 의해 증착 동안에는, 정확한 조성, 큰 크기의 시편들의 균일 증착을 조절하기가 쉽지 않다. 또한, 코팅층에 3번째 성분을 추가하기가 어렵다는 문제점이 있다. 본 연구에서는, 최상의 마찰계수와 표면경도를 보이는 MoN-Cu층을 형성시키기 위하여 합금으로 단일 타겟을 제조하였다. 이를 위한 최적 조성을 결정하기 위하여 Mo, Cu 단일 타겟을 이용한 Unbalanced Magnetron sputtering 법으로 다양한 Cu 함량의 MoN+Cu 합금을 제조하였으며, 이에 대한 경도 및 마찰계수 측정을 통해 최적의 Cu 함량을 결정하였다. 이러한 최적 조성의 Cu 타겟제조를 기계적 합금화와 Spark plasma sintering 기술을 이용하여 제작하였으며, 복수의 합금 타겟과 단일 합금 타겟으로 제조된 코팅층의 물성 비교를 통해 합금 타겟의 우수성 여부를 확인하고자 하였다. 증착된 두 조건의 물성을 비교 단일 타겟은 두가지 타겟으로 증착한 것보다 비슷한 조성에서 경도가 높았으며 경도가 비슷한 조성에서는 마찰계수가 낮았다. 또 입자는 10 at.% Cu 조성에 대해 단일타겟이 50nm 결정립을 갖는 반해 단일타겟은 측정이 불가능할 정도의 미세한 결정립을 가졌다. Erdemir의 연구 결과에 의하면, Cu 함량이 증가함에 따라 columnar 형태의 코팅층구조가 나노 구조로 변한다고 하였는데, 본 연구에서 복수의 원소 타겟에서는 확인이 안되었으며, 단일 합금 타겟에서 완벽한 featurless 형태의 코팅층 구조와 우수한 조도의 박막층을 얻을 수 있었다. 이렇게 제조된 다양한 코팅층에 대한 마찰계수 측정이 진행중이다.

• 한국감성과학회:학술대회논문집
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• 한국감성과학회 2003년도 추계학술대회 논문집
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• pp.51-55
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• 2003

소형 표시창에서 펜과 커서키를 이용한 타겟 포인팅 성능을 비교하기 위하여 두 가지 실험이 수행되었다. 첫 번째 실험에서 우리는 서로 다른 타겟 크기에서 두 가지 입력방법에 의한 참여자의 타겟 포인팅 성능을 조사하였다. 타겟의 크기가 5미리 보다 작을 경우 펜입력이 키를 기본으로 하는 입력보다 더 에러가 많지만 타겟 크기가 5미리일 때 에러율이 키입력과 같은 수준으로 감소한다는 것을 발견했다. 두 번째 실험에서 우리는 타겟의 개수가 미치는 영향을 조사하였다. 그 결과 타겟의 크기가 5미리일 때 타겟의 거리가 3단계의 경로길이를 초과할 경우 펜입력이 키입력보다 더 빨리 타겟을 포인팅할 수 있다는 것을 알았다.

• 한국정보과학회:학술대회논문집
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• 한국정보과학회 1999년도 가을 학술발표논문집 Vol.26 No.2 (3)
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• pp.134-136
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• 1999

내장 프로세서에서 실행되는 응용 프로그램 개발환경에서는 타겟에서 실행될 프로그램을 호스트에서 개발하여 타겟에서 실행되도록 구성한다. 내장 프로세서 응용 개발 환경의 중심을 이루는 호스트-타겟 연결 미들웨어(이후 타겟서버라 칭함)를 개발하였다. 타겟서버는 전단부, 후단부 인터페이스를 통하여 호스트에서 개발된 목적모듈을 타겟시스템에 로딩시키는 기능을 한다. 또한, 호스트에서 운용되는 타겟 접근도구의 요구사항을 전송하고 타겟의 정보를 호스트 도구에게 전송하는 역할을 한다. 이러한 역할을 수행하기 위하여 내부 모듈에서 리더, 로더, 타겟메모리 관리, 심볼테이블 관리모듈이 구현되었다. 이렇게 구현된 타겟서버는 기존의 호스트 시스템 도구에 연결되어 정확한 수행에 대한 테스팅 과정을 마쳤고 하나의 라이브러리로 지원되었다.

• 한국정보과학회:학술대회논문집
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• 한국정보과학회 1999년도 가을 학술발표논문집 Vol.26 No.2 (3)
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• pp.158-160
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• 1999

셋탑 박스와 같은 내장형 타겟 시스템의 자원 제약으로 인해 내장형 실시간 응용을 효율적으로 개발하기 위해서는 원격 호스트 상에서 동작하는 응용 개발 도구가 필요시 된다. 본 논문에서는 호스트 상의 원격 디버거, 대화형 쉘, 자원 모니터와 같은 응용 개발 도구들의 타겟 접근을 최소화하고 통신 채널을 하나로 유지하기 위해 호스트와 타겟 간의 중개자 역할을 하는 타겟 서버를 설계 구현한 내용에 대해 기술한다. 우리가 개발한 타겟 서버는 호스트-타겟 통신 방식, 실행 모듈 형식에 독립적인 구조이며, 도구의 확장성을 고려하여 Open API를 제공한다.

• 한국공간정보시스템학회 논문지
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• 제5권2호
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• pp.83-89
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• 2003

본 연구에서는 차량측량시스템에 사용할 수 있는 코드(Coded) 타겟을 설계, 제작하고 이를 자동으로 식별하고 타겟 중심의 영상좌표를 획득하는 방법을 개발하였다. 차량측량시스템은 CCD, GPS, INS 장비를 통합 탑재하여 도로상에 존재하는 시설물과 노면에 대한 3차원 정보를 획득할 수 있는 시스템이다. 차량측량시스템은 특성상 카메라 검교정과 외부표정을 위해서 미리 설치된 타겟을 사용하며 표정작업을 위한 영상좌표 획득은 수동에 의한 방법이 사용되어 왔다. 그러나 코드 타겟을 사용하며 타겟의 자기인식(Self-Identifying)을 통해 각 영상에서 관측된 타겟을 하나의 공액점으로 인식 가능하고 자동으로 타겟 중심의 영상점 획득이 가능하다. 이처럼 자동화된 타겟 관측 및 영상점 획득이 가능하다면 차량측량시스템의 카메라 검교정 및 외부표정을 작업의 효율성을 향상시키고 영상좌표 획득의 일관성을 유지하는데 매우 효과적일 것으로 판단된다.

• 한국통계학회:학술대회논문집
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• 한국통계학회 2003년도 추계 학술발표회 논문집
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• pp.219-222
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• 2003

본 연구는 2000년 인구주택총조사에 기반하여, 국내 3,516개 읍면동 단위의 소지역을 마케팅 의사결정 활용의 관점에서, 유사한 인구${\cdot}$사회${\cdot}$경제${\cdot}$소비행태를 가지는 26개의 마이크로타겟(Micro Target) 군집으로 구축하는데 그 초점을 두고 있다. 마이크로타겟 군집은 고객분류, 상권분석, 광고전략 수립, 타겟마케팅(Target Marketing)등의 마케팅 의사결정과 마케팅 전략수립에 있어 핵심적 요건으로 기능하게 된다.

• 한국정보처리학회:학술대회논문집
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• 한국정보처리학회 2002년도 춘계학술발표논문집 (상)
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• pp.663-666
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• 2002

임베디드 리눅스의 개발은 커널과 각 시스템 응용들을 자신이 원하는 플랫폼에 맞추어 일일이 수작업으로 설정, 컴파일, 타겟에의 인스톨 과정을 거쳐야 한다. 이것은 실제 타겟에 필요한 응용 개발에 앞서 많은 개발 시간을 소요하게 하며, 또한 그 과정 중 많은 시행착오의 반복을 야기하게 한다. Qplus 타겟 빌더는 임베디드 리눅스 개발 과정 중 설정 가능한 사항들을 옵션화하여 개발자가 통합된 환경에서 커널과 응용을 세세하게 설정할 수 있게 하며, 각 옵션들간의 의존성을 자동으로 검사함으로써 타겟에 적합한 설정을 할 수 있게 도와준다. 또한 타겟에 적재(deployment)될 수 있는 형태로 루트파일 시스템을 자동 생성하고 라이브러리 최적화를 통해 사이즈를 최적화시킨다. Qplus 타겟빌더는 인터렉티브한 타겟 시스템 설정과 자동화된 타겟에의 적재로 임베디드 리눅스의 개발 시간을 단축시켜 준다.