• 대한화학회지
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• 제66권6호
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• pp.436-441
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• 2022

나노 다공성 구조를 가지는 전극은 매우 큰 전기화학적 표면적을 지니기 때문에 그 형성 방법에 대한 연구가 다양하게 이루어져 왔다. 본 논문에서는 정전위 양극 산화를 이용하여 초미세전극(ultramicroelectrode, UME) 표면에 나노 다공성 금(nanoporous gold, NPG) 구조를 도입하는 방법을 연구하였다. 1M KCl을 포함하는 0.1M 인산완충용액(pH 8)에서 1.3 V의 정전위를 가해 주면 잘 정의된 NPG 구조가 UME 표면에 도입되었다. NPG-UME 형성에서 인가 전위와 반응 시간, 그리고 전극의 크기가 형성된 NPG 전극의 거칠기 인자(roughness factor, R_f)에 미치는 영향을 관찰하여 양극 산화 효율을 조사하였다. 10분 정도의 짧은 시간에 2000정도의 큰 R_f 값을 가지는 NPG-UME를 만들 수 있었는데, 전기화학적 글루코오스 검출에 효과적으로 활용 가능하였다. 본 연구 결과는 적은 시료양으로 전기화학적 분석을 수행하는 경우 응용성이 클 것으로 기대한다.

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 2003년도 하계학술대회 논문집 D
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• pp.2807-2808
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• 2003

말초 신경계에서 손상된 신경은 그 손상된 정도에 따라 재생의 정도가 달라진다. 이러한 신경 재생의 정도를 확인할 수 있는 방법으로 초미세 전극 어레이 기술이 연구되고 있는데 이것은 전기신호경로(via hole)를 초미세 전극어레이를 제작하여, 손상된 신경의 근위부(proximal stump)와 원위부(distal stump) 사이에 직접 삽입하여 선경으로부터 재생되어온 신경 섬유의 전기적 전도 선호를 측정 및 기록하는 것이다. 이는 신경 재생을 관찰하는 방법으로서 신경보철(neural prostheses) 기술에 이용된다. 따라서, 본 논문에서는 손상된 신경의 재생을 관찰하기 위한 implantable microelectrode array system을 설계하고, 원 신호인 선경 전도 신호의 특성과 제작된 이식형 초미세전극(implantable microelectrode)의 특성을 고찰하며, 동물 실험을 통하여 그 성능을 검증하였다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 1996년도 제11회 학술발표회 논문개요집
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• pp.89-90
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• 1996

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 1998년도 제14회 학술발표회 논문개요집
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• pp.167-168
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• 1998

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 1997년도 제12회 학술발표회 논문개요집
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• pp.197-198
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• 1997

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2003년도 제25회 학술발표회 초록집
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• pp.212-212
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• 2003

• 한국표면공학회:학술대회논문집
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• 한국표면공학회 2007년도 추계학술대회 논문집
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• pp.83-84
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• 2007

Damascene 공정을 이용하여 80nm급의 trench 패턴 내에 구리 배선 형성을 위해 무전해 구리 도금법을 이용하였다. 화학 반응으로 진행되는 무전해 도금법에 의한 구리이온의 초미세 패턴 내 환원 과정에 구리 이온의 물질 전달과정이 구리 도금층의 표면 특성과 superconformality에 미치는 영향을 살펴보았다. 회전 전극에 고정된 칩의 회전 속도가 증가함에 따라 구리 도금층의 비저항이 감소하고, trench 내 균일 도금성이 향상되는 것으로 나타났다.

• 한국정밀공학회지
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• 제31권11호
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• pp.969-974
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• 2014

Previously fabricated electronic devices were used for vacuum manufacturing processes such as conventional semiconductor manufacturing. However, they are difficult to apply to continuous processes such as roll-to-roll printing, which results in very high device manufacturing and processing costs. Therefore, many developers have been interested in applying continuous processes to contact printing or noncontact printing technologies and they proposed various continuous printing techniques instead of conventional batch coating. In this paper, we proposed improved gravure offset printing process as one of the contact printing technique. We used etching pattern geometry with soft core blanket roll for printing of ultra fine line below the 10um.Using this technique we obtained flexible metal grid mesh film as transparent conductive film.

• 한국공작기계학회:학술대회논문집
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• 한국공작기계학회 2004년도 춘계학술대회 논문집
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• pp.508-512
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• 2004

An ultra-sharp tungsten electrode for field emission was manufactured by using an electrochemical etching method, and its beam characteristics were investigated. KOH and NaOH were the electrolytes used in this research, and the taper length of the tip varied form 150 $\mu\textrm{m}$ to 250 $\mu\textrm{m}$ according to the applied voltage and the concentration of the electrolyte. The electron-beam stability was measured to be within 5% for a total emission current of 5 ${\mu}\textrm{A}$ during 4 hours of operation, and the Ignition voltages were found to be ∼300 V. The tip radius was experimentally found to be 250${\AA}$ from a linear fitting of Fowler-Nordheim plots, which was in remarkably good agreement with that of the image size from scanning ion-microscopy.

• 한국공작기계학회:학술대회논문집
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• 한국공작기계학회 2004년도 춘계학술대회 논문집
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• pp.449-452
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• 2004

To obtain the ultra-sharp tungsten tip, an analog to digital converter circuit aided by a personal computer has been setup. At the moment the lower part of the needle drops off during the etching process, a maximum current change across the reference resistor is detected by the PC interface card and the applied voltage is then cut off within a few milliseconds. Out experiment has been able to fabricate an ultra-sharp tungsten tip ~200 $\AA$ radius with a higher reproduction rate and reliability than the conventional method.