시설재배토양은 강우가 차단된 시설이므로 시용한 비료의 용탈되기 어려워 작물이 흡수한 양을 제외하고는 대부분 토양에 집적되게 된다. 이와 같이 집적된 염류는 작물의 정상적인 양수분의 흡수에 영향을 주고 나아가서는 뿌리의 활력을 저하시켜 작물생산성 감소를 가져오게 된다. 작물에는 필요한 염류이지만 이상적으로 집적되면 피해를 초래할 수 있으므로 시설재배토양에서의 시비관리는 토양환경 및 작물에 맞는 적적한 시비가 이뤄져야 한다. (중략)
본고에서는 실제감 있는 3차원 영상을 구하기 위한 차세대 디스플레이로서 주목을 받고 있는 집적영상을 기반으로 한 초다시점 시스템 기술의 개발 현황을 확인하고, 기존에 제안된 연구들을 바탕으로 최근 보고된 집적 영상 기반 초다시점 디스플레이 시스템의 소개와 이를 보다 발전시키기 위한 조건 및 요구사항들을 알아본다.
RF CMOS 집적회로 기술은 CMOS 기술의 급격한 발전과 더불어 최근 크게 주목 받고 있다. 이는 CMOS가 제공 할 수 대량생산 능력으로 인해 기존 RF IC의 저가격화뿐 아니라 미래의 복합.다기능 무선 멀티미디어 단말기 구현을 위란 single chip solution을 제공 할 수 있는 가능성이 가장 높기 때문이다. 본 논문은 먼저 개인 휴대 통신 단말기 시장을 전망해보고, 향후 전개될 다양한 무선서비스에 대응하기 위한 RF CMOS 집적회로의 소자 및 설계 기술개발 현황과 향후의 발전 전망을 기술한다.
체내의 유익한 정보를 검출하기 위해서는 생리학적으로 부작용이 얼고 정확한 정보를 신속히 걸출하여야만 한다. 이를 위해서는 무침습적으로 측정하거나 무침습적이지 못할 경우, 침습을 최소화하기 위한 센서의 소형화가 불가피하다. 최근 집적회로 공정 기술인 미세 가공 기술을 응용하여 소형화될 뿐 아니라 고도의 기능을 가진 센서가 연구되고 있다. 또한 센서에 집적회로와 액류에이터를 일체화한 집적화 센서도 연구되고 있다. 여기서는 현재 사용되고 있는 미세 가공 기술들 중 식각 기술과 식각 중지 기술, 접합 기술에 관해 언급하였다. 그리고, 이러한 기술을 이용하여 제작된 마이크로 센서(Micro Sensor)에 관해 간략히 살펴본다.
오늘날 세계 전자공업시장 규모는 1조달러선을 넘어섰고 마침내 세계 최대 규모의 산업으로 발돋움할 날도 멀지 않았다. 이른바 전자산업혁명의 중추적인 역할을 하고 있는 집적회로는 21세기 디지털시대의 핵심체인 마이크로칩의 '모태' 이기도 하다. 20세기 최대의 발명으로 평가되고 있는 집적회로를 40여년 전 수더분한 인상의 말수가 적은 재크 킬비라는 당시 '무명'의 한 청년이 발견하리라고 생각했던 사람은 아무도 없었다.
집적결상(integral imaging)에서 렌즈어레이(lens array)를 이용하여 3차원적인 물체를 기본영상(elemental image)들로 결상한 후, 다시 그 기본 이미지들로부터 3차원 이미지를 재생하는 과정에서 기본 이미지들을 변환시키지 않으면, 3차원 이미지가 재생될 때, 렌즈어레이와 수직한 축에 대해 렌즈어레이에 가까운 쪽과 먼 쪽이 서로 바뀌는 슈도스코픽(pseudoscopic) 현상이 일어난다. 그래서 기본이미지들을 변환시키기 위해 렌즈어레이를 한번 더 사용한 이단 집적결상계를 이용하거나 영상처리 방법을 이용하는데, 이와 같은 방법은 광학적 손실을 크게 하거나 처리 속도를 느리게 한다. (중략)
정부가 광주 지역에 광산업을 육성하겠다는 방침을 밝힘에 따라 작년 말부터 진행돼오던 ‘광산업 육성 및 집적화계획’이 수면 위로 떠올랐다. 광주광역시는 첨단과학산업단지 내에 광산업 집적화단지를 조성해서 저가로 임대해 주고, 제품 개발, 평가, 생산을 지원하는 시스템을 갖출 예정이다. 지금까지 진행돼 온 과정과 중점 내용, 관계자 인터뷰를 통해서 자세한 내용을 소개한다.
초고속 고밀도 GaAs논리소자 제조에서 내열성게이트를 이용한 자기정렬형 MESFET 기술은 우수한 성과를 보이고 있다. 본 고에서는 GaAs 집적소자에 응용되는 여러가지 내열성재료들의 특징과 문제점을 파악하고 현재까지의 개발현황을 알아보았다. 현재 여러가지 저저항 텅스텐화합물이 집적소자제조에 성공적으로 이용되고 있다. 이들 내열성재료의 특성과 더불어 집적소자제조의 전후공정 및 소자구조는 최종적으로 얻어지는 소자특성을 좌우한다. 따라서 최근까지의 내열성게이트를 이용한 GaAs 공정기술의 개발과정을 정리하고 각 기술의 특징을 분석하였다.
1Kbit DRAM, 최초의 마이크로프로세서 Intel 4004가 1970년대 처음으로 세상에 나온지 약 30년이 경과되었다. 4004는 4비트 프로세서로 집적 트랜지스터 수 2,300개, 동작 주파수 750KHz, 16핀으로 내장되었다.
이 시점에서 누가 현재의 고성능 프로세서의 출현을 예측이나 했을까 4비트에는 있는데, 하나의 프로세서가 한개의 침에 탑재되어 실용화되어, 원칩 프로세서가 스타트를 끊었던 것이다. 오늘날의 DEC Alpha21264에는 1,520만개의 트랜지스터를 집적해서 600Mhz 587핀으로 내장되었다. 이러한 발전의 원동력은 반도체 집적회로의 기술의 비약적인 발전은 물론, 계산기 아키텍처, 컴파일러, OS등을 완수하는 역할도 대단히 크다. 본 원고에서는 주로 1990년대의 계산기 아키텍처의 변천을 살펴보고 향후 10년의 발전을 전망하려 한다.
마이크로프로세서의 전송대역 증가와 함께 요구되어지는 집적형 광자기술은 좁은 영역에서 복잡한 광 배선들을 나열함에 따라 기존의 Electrical Interconnection들의 전자기적 분산이나 방출에 의한 결함 문제를 극복함으로써, 높은 전송 효율을 갖는 Optical Interconnection을 구현 할 수 있게 되었다. 그러나 집적화시 고려되는 배선들 간의 상호 연관성과 효율적인 특성이 문제시 되는데 이를 위한 경향성과 최적화 요소들이 필요하게 되었다.(중략)
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[게시일 2004년 10월 1일]
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