A Study on the Fabrication of LCVD System and Characteristics of Silicon Nitride Thin Film Deposited by the System (LCVD법을 이용한 박막성장장치의 제작 및 그 장치를 이용하여 제작한 Silicon Nitride 박막의 특성 연구)
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- Journal of the Korean Vacuum Society
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- v.2 no.3
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- pp.368-373
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- 1993