• 제목/요약/키워드: 전압 측정

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Gate-All-Around SOI MOSFET의 소자열화 (Hot Electron Induced Device Degradation in Gate-All-Around SOI MOSFETs)

  • 최낙종;유종근;박종태
    • 대한전자공학회논문지SD
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    • 제40권10호
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    • pp.32-38
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    • 2003
  • SIMOX 웨이퍼를 사용하여 제작된 GAA 구조 SOI MOSFET의 열전자에 의한 소자열화를 측정·분석하였다. nMOSFET의 열화는 스트레스 게이트 전압이 문턱전압과 같을 때 최대가 되었는데 이는 낮은 게이트 전압에서 PBT 작용의 활성화로 충격이온화가 많이 되었기 때문이다. 소자의 열화는 충격이혼화로 생성된 열전자와 홀에의한 계면상태 생성이 주된 원인임을 degradation rate와 dynamic transconductance 측정으로부터 확인하였다. 그리고 pMOSFET의 열화의 원인은 DAHC 현상에서 생성된 열전자 주입에 의한 전자 트랩핑이 주된 것임을 스트레스 게이트 전압변화에 따른 드레인 전류 변화로부터 확인 할 수 있었다.

가입자 통신 선로에서의 뇌격 파라미터 분석과 측정 (Analysis and Measurement of Lightning Parameters on Subscriber Telecommunication Lines)

  • 오호석;박동철
    • 한국전자파학회논문지
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    • 제18권11호
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    • pp.1309-1317
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    • 2007
  • 본 논문은 낙뢰에 의해 전송 선로에 유기되는 유도뢰 전압을 해석하고 낙뢰 위치 및 선로 길이에 따른 유도뢰 전압의 크기, 파두장, 파미장 등에 대한 낙뢰 파라미터 변화를 분석하였다. 분석한 결과를 확인하기 위해 실제 통신 선로를 대상으로 유도뢰 전압을 측정하였다. 선로 길이가 길어짐에 따라 그리고 낙뢰 위치가 선로와 멀어짐에 따라 파두장, 파미장이 증가하는 경향을 확인하였다. 전체 선로 길이보다는 가공 선로 길이가 상대적으로 유도 전압 크기에 영향을 끼침을 확인하였다.

$SF_6$ 가스 동축원통전극 내의 금속이물이 절연파괴에 미치는 영향 (The Effect on Breakdown of the Conducting Particles Between Coaxial Cylindrical Electrodes in $SF_6$ Gas)

  • 조국희;권동진;이강수;곽희로
    • 조명전기설비학회논문지
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    • 제12권2호
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    • pp.85-90
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    • 1998
  • 본 논문에서는 AC 전압 하에서 자유 도전성 금속이물 혼입에 의한 SF6 가스로 압축된 GIS의 절연특성에 관하여 연구하였다. GIS 내에서 자유 도전성 금속이물이 혼입되면 절연파괴 전압을 낮추는 결정적인 역할을 할 수 있으므로, 금속이물의 재질과 크기에 따른 부상전계 및 절연파괴전압을 측정하였다. 구리, 철, 알루미늄의 선형 금속이물에서의 부상전계 계산값과 측정값을 비교, 분석하였다. 압축된 $SF_6$ 가스로 절연된 동축원통전극간에 금속이물의 혼입될 경우의 절연파괴전압은 금속이물의 없을 때보다 낮게 나타났으며, 금속이물의 재질과 크기에 상당히 의존하였다. 따라서 자유도전성 금속이물은 GIS의 절연파괴 특성에 매우 중요한 요소로 작용함을 알 수 있었다.

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마이크로 비틀림 구동기의 폐루프 피드백 제어에 관한 연구 (A Study on Close-loop Feedback Control for Micro Torsional Actuator)

  • 최원석;김건년;지태영;박효덕;허훈
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 2003년도 하계학술대회 논문집 C
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    • pp.1923-1925
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    • 2003
  • 본 논문은 유리 기판과 실리콘 기판의 양극접합과 CMP공정을 통하여 정전기력으로 구동되는 마이크로 비틀림 액추에이터를 제작하고 이 제작된 액추에이터의 성능을 개선하는 방법과 실험에 관한 것이다. 이 비틀림 액추에이터는 미소 거울로 사용하기 위해 제작하였다. 미소 거울은 영상을 정확히 반사하거나 회절 시키는 것이 목적이지만 MEMS 공정의 특성 문제로 인해 일관적인 성능을 나타내는 것이 비교적 힘들다. 따라서 이를 개선하기 위해선 구조적인 접근 보다 실제 구동될 때의 현상을 보상하는 것이 필요하다. 일정한 입력전압에 비례하는 미소 거울의 변위를 알고 이를 기준으로 하여 시스템을 구동하여야 한다. 여기서 인가되는 전압에 비례하는 변위가 정확한지 측정을 해야 하고 만약 오차가 있다면 이를 개선하여야 한다. 또한 구동 시 발생하는 overshoot 현상과 작은 떨림 현상을 줄이고 빠른 시간 내에 응답하도록 시스템을 보상하여야 한다. 본 논문에선 PID 제어기법을 사용하여 $0.5^{\circ}$의 각도로 구동할 때를 기준으로 이 때의 구동전압 200V를 인가하고 오차를 측정하여 시스템을 보상하였다.

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트렌치 식각 형상에 따른 신뢰성 향상 (The reliability enhancement according to the trench etching profile)

  • 김상기;이주욱;김관하;박훈수;김보우;구진근;강진영
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2007년도 하계학술대회 논문집 Vol.8
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    • pp.127-128
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    • 2007
  • 고밀도 트렌치 게이트 전력소자 제조를 위해 HBr. He-$O_2$, $SiF_4$, $CF_4$ 등의 식각 가스를 이용하여 형성한, 트렌치 표면 거칠기 및 손상을 최소화 하여 고밀도 트렌치 게이트 전력소자를 제조하였다. 트렌치 형상 각도가 약 900일 경우 항복전압은 약 29 V인 반면, 트렌치 각도가 $88^{\circ}$일 경우 항복전압이 37V로 트렌치 형상에 따라 약 25%의 항복전압이 높아졌음을 알 수 있었다. n-채널 트렌치 게이트 전력소자의 전압-전류 측정 결과 트렌치 게이트 수가 45.000개일 때 게이트에 10 V를 인가했을 때 전류는 약 46 A로 측정되어 고밀도 트렌치 게이트 전력소자의 특성이 좋음을 알 수 있었다.

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EML에서 Ir(ppy)3와 CBP의 도핑 위치에 따른 녹색 인광 OLED 특성 변화 연구

  • 임기원;최병덕
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2016년도 제50회 동계 정기학술대회 초록집
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    • pp.229.2-229.2
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    • 2016
  • 본 연구에서는 Host와 Dopant $Ir(ppy)_3$의 도핑 위치 변화에 따른 bottom emission 인광 OLED를 제작하여 발광 효율 및 특성을 분석하였다. 소자의 EML은 $Ir(ppy)_3/CBP$$CBP/Ir(ppy)_3$ 순으로 증착하여 제작하였다. $Ir(ppy)_3/CBP$은 낮은 구동 전압에서 큰 전류밀도와 큰 luminance을 측정하였고, 반대로 $CBP/Ir(ppy)_3$은 높은 구동 전압에서 $CBP/Ir(ppy)_3$은 큰 전류밀도와 큰 luminance가 측정되었다. 이는 $Ir(ppy)_3/CBP$에서 HTL과 EML 사이에 hole direct injection이 발생으로 Hole이 증가하지만 charge balance 불일치로 roll-off가 발생하고, $CBP/Ir(ppy)_3$에서 electron direct injection에 의한 electron 증가로 charge balance가 향상된다. EL spectrum 측정에서 $Ir(ppy)_3$은 파장 512nm 발광이 일어나고, CBP와 NPB은 각각 파장 380nm, 433nm로 분석된다. 각 물질의 triplet의 전달은 energy level이 큰 곳에서 작은 곳으로 전달되는데 이러한 이유로 전압에 따른 recombination zone 변화로 각 물질에서 나오는 파장의 intensity가 달라지는 것을 확인하였다. $Ir(ppy)_3/CBP$은 낮은 전류 밀도에서는 CBP의 영향으로 380nm 파장대가 크고, 높은 전류 밀도에서는 $Ir(ppy)_3$의 영향으로 512nm 파장대가 크게 나오는 것을 확인했고, $CBP/Ir(ppy)_3$에서는 낮은 전류 밀도에서 512nm 파장대가 커지고, 큰 전류 밀도에서는 CBP에서 NPB로의 triplet 에너지 전달의 증가로 433nm 파장대가 커지는 것을 확인하였다.

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5GHz 저잡음 증폭기의 성능검사를 위한 새로운 고주파 Built-In Self-Test 회로 설계 (Design of a New RF Buit-In Self-Test Circuit for Measuring 5GHz Low Noise Amplifier Specifications)

  • 류지열;노석호;박세현
    • 한국정보통신학회논문지
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    • 제8권8호
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    • pp.1705-1712
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    • 2004
  • 본 논문에서는 5.25GHz 저잡음 증폭기(LNA)에 대해 전압이득, 잡음지수 및 입력 임피던스를 측정할 수 있는 새로운 형태의 저가 고주파 BIST(Built-In Self-Test, 자체내부검사)회로 설계 및 검사 기술을 제안한다. 이러한 BIST 회로는 0.18$\mu\textrm{m}$ SiGe 공정으로 제작되어 있다. 이러한 접근방법은 입력 임피던스 정합과 출력 전압 측정원리를 이용한다. 본 논문에서 제안하는 방법은 측정이 간단하고 비용이 저렴하다는 장점이 있다. BIST 회로가 차지하는 면적은 LNA가 차지하는 전체면적의 약 18%에 불과하다.

저용량 태양광 발전기가 집중 배치된 저압 계통의 전기품질 측정 및 분석 (The power quality measurement and analysis of concentrated PV system in LV distribution system)

  • 채우규;김재언;윤기갑;서정출
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 2006년도 추계학술대회 논문집 전력기술부문
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    • pp.78-80
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    • 2006
  • 최근 정부의 '태양광주택 10만호 보급사업'으로 저압계통 연계형 태양광 발전시스템이 배전계통의 곳곳에 도입되었다. 기존에는 주로 저용량 태양광(3kW 내외)이 1대씩 연계되어 계통에 큰 영향을 주지 않았지만, 최근에는 공동주택 등에 30${\sim}$100대씩 집중적으로 도입되고 있어 여러 가지 문제점이 나타나고 있다. 이와 관련하여 본 논문에서는 50kVA 주상변압기 1대에 2.3kW급 태양광 32대가 연계된 지역의 전기품질을 측정하고 그 문제점을 분석하였다. 태양광 주택단지 인입지점에서 측정결과 전압이 250V를 상회하는 경우도 있었으며, 주상변압기 2차 직하는 태양광이 연계된 A상의 경우 B상, C상에 비하여 약 2V높은 전압을 기록하였지만 그 값은 정상 범위였다. 전압 상승 요인의 분석결과 태양광의 연계용량이 변압기의 용량을 크게 초과하였으며 저압선도 상위 규격으로 교체될 필요가 있었다.

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수퍼 커패시터의 고장진단을 위한 파라미터의 측정기법과 순시전압강하 보상장치에의 응용사례 (Parameter Measurement Method for Super Capacitor Failure Diagnosis and Application of Voltage Sag Compensation System Using Super Capacitor)

  • 손진근
    • 한국ITS학회 논문지
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    • 제8권6호
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    • pp.173-179
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    • 2009
  • 본 논문에서는 순시전압강하 보상장치 등의 전력변환시스템에 사용되는 수퍼 커패시터(또는 전기이중층콘덴서; EDLC)의 고장진단을 위한 파라미터의 측정기법에 관한 연구를 수행하였다. 직류 에너지의 저장을 위한 기존의 장치에는 납축전지 또는 전해 커패시터를 사용하여 왔으나 환경문제 및 에너지밀도의 측면에서 불리하여 최근에는 수퍼 커패시터의 사용이 주목을 받고 있다. 따라서 본 논문에서는 이러한 수퍼 커패시터의 내부 특성 및 고장 마모 등을 분석하기 위한 커패시터의 등가직렬저항(ESR) 및 정전용량을 측정하는 기법을 제시하여 고장진단의 주요한 데이터에 활용이 가능토록 하였으며, 또한 수퍼 커패시터를 적용한 순간전압강하에 대한 응용 실험을 수행하여 그 결과를 함께 제시하였다.

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에칭에 따른 단일 나노선의 전압-전류 특성 변화 (Voltage-Current Characteristics of a Single Nanowire with an Etching process)

  • 임찬영;김강현;원부운;강해용;김규태;김상식;강원
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2004년도 추계학술대회 논문집 Vol.17
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    • pp.151-154
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    • 2004
  • 화합물 반도체 단일 나노선의 에칭 효과를 보기 위하여 에칭 용액과 시간을 달리하면서 전류-전압 특성을 측정하였다. 측정을 위한 단일 나노선 소자는 Electron beam lithography를 이용하여 전극을 top contact 방식으로 만들었다. 에칭은 식각과정에서 현상된 상태의 패턴에서 수행하며 금속 전극과 나노선 접합 부분만을 에칭 하였다. 에칭용액은 Buffered Oxide Etchant(BOE)을 이용하였으며 에칭 시간은 수 십초에서 수 십분까지 다양하게 하였다. 전압-전류 특성 측정결과에서 에칭 용액과 에칭 시간에 따라 전류가 증가하는 것을 확인 할 수 있었다. 이러한 효과는 나노선 외곽에 비정질 산화층의 제거 효과로 인한 것으로 설명할 수 있다.

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