• Title/Summary/Keyword: 전류의 특성

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Optimum Implant Depth and Its Determination in Implanted Vertical Cavity Surface Emitting Lasers (임플랜트된 표면 방출형 레이저에서 최적 임플랜트 깊이와 최적 깊이 판정 방법)

  • 안세환;김상배
    • Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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    • v.41 no.8
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    • pp.45-50
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    • 2004
  • The characteristics and reliability of implanted VCSELs are greatly influenced by the thickness of the semi-insulating layer made by ion implantation for the current confinement. We propose a simple and purely electrical method of estimating the optimum implant depth, and find that the implant front should be located 2-DBR periods above the 1 - λ cavity in order to obtain simultaneously the low threshold current and high reliability.

TMD FET와 2차원 silicon single layer FET의 소자 특성 비교

  • Hwang, Sin-Ae;Yu, Tae-Gyun
    • Proceeding of EDISON Challenge
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    • 2017.03a
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    • pp.448-452
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    • 2017
  • 단층 $MoS_2$와 단층 실리콘을 채널 물질로 사용한 TMD FET과 UTB FET의 소자 특성 분석 시뮬레이션을 진행하였다. TMD FET과 UTB FET의 채널과 oxide 두께를 변화시켜가며 각 각의 게이트 전압과 드레인 전류의 특성과 subthreshold swing 등을 분석하였으며, 채널과 oxide 두께가 얇을수록 단채널 효과가 줄어든다는 것을 알 수 있었다. 얇은 채널을 사용하는 트랜지스터의 최적 구동 조건은 채널과 oxide 층의 두께가 1 nm 정도 되어야 한다는 시뮬레이션 결과를 바탕으로 TMD FET과 UTB FET의 소자 특성을 상호 비교해 보았으며 TMD FET의 SS값이 더 좋다는 것을 확인할 수 있었다.

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The Quench Characteristic Analysis of Superconducting element Between Flux-coupling type SFCL and Resistance type to applied voltage (자속결합형 SFCL과 일반 저항형 SFCL의 인가전압에 따른 초전도 소자 퀜치특성)

  • Jung, Byung-Ik;Cho, Yongl-Sun;Choi, Hyo-Sang
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2009.07a
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    • pp.2146_2147
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    • 2009
  • 현재 많은 초전도 한류기들이 개발되었고 현재도 실계통 적용을 위해 개발중이다. 본 논문에서는 초전도 소자만을 이용한 저항형 초전도 한류기와 변압기와 초전도 소자를 접목한 자속결합형 초전도 한류기의 사고전류 제한 특성과 초전도 소자의 퀜치특성을 비교 분석하였다. 자속결합형 초전도 한류기는 변압기 코일의 턴수를 조절함으로써 사고전류의 크기 및 퀜치 특성을 개선시키는 반면 저항형 초전도 한류기는 초전도 소자의 불균일 퀜치와 사고전류의 크기를 조절하기 힘들다는 단점을 가지고 있다. 또한 자속결합형 초전도 한류기의 경우에서 초전도 소자에 발생하는 전압의 크기가 현저히 작음을 알 수 있었다. 초전도 소자의 전압이 높고, 퀜치 불균일로 인해서 일부 전력 부담이 편중되는 소자의 열화가 더 빨리 진행될 것이다.

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The Modeling of Induction Disc Type OverCurrent Relay using EMTP (EMTP를 이용한 유도 원판형 과전류 계전기 모델링)

  • Seong, No-Kyu;Yeo, Sang-Min;Rhee, Sang-Bong;Kim, Chul-Hwan;Jung, Chang-Soo
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2008.07a
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    • pp.119-120
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    • 2008
  • 본 논문은 배전계통에서 사용되고 있는 유도 원판형 과전류 계전기를 EMTP(ElectroMagnetic Transients Program)을 이용하여 모델링 하였다. EMTP 내의 TACS 소자는 동적 응답 특성을 모델링 할 수 있는 소자로 유도 원판형 계전기의 동적 응답 특성을 모델링하는데 사용되었다. 계전기의 순시동작 및 한시동작 특성은 한국전력공사 과전류 계전기 표준규격에 근거하여 모델링하였으며, 순시동작 및 한시동작 (반한시, 강반한시) 특성을 모두 모델링하였다. 또한 한국전력공사 실 배전계통에 투입하여 고장 발생 시 계전기 동작을 관찰함으로써 모델링한 계전기의 동작을 검증하였다.

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고온초전도 BSCCO 2223상 형성시 나타나는 여러 가지 이차상들이 선재의 임계전류에 미치는 영향(토요일)

  • 박성창;김철진;유재무;고재웅;김영국
    • Proceedings of the Korea Crystallographic Association Conference
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    • 2003.05a
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    • pp.24-24
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    • 2003
  • 고온초전도 BSCCO 2223 ((Bi, Pb)₂Sr₂Ca₂Cu₃O/sub x/) 선재의 특성을 향상시키기 위해서는 반복적인 인발 및 압연과정을 통한 texturing향상, BSCCO 2223입자의 배향성 증대, 피복재내 초전도체의 충진율(밀도)향상, 이차상의 부피분율 감소등이 이루어져야 한다. 최적 열처리 조건을 통하여 열처리 시에 형성되는 이차상인 (Bi,Pb)₂Sr₂CuO/sub y/ (2201, amorphous phase)를 조절하면서, (Ca,Sr)₂CuO₃ (2/1 AEC), (Ca,Sr)/sub 14/Cu/sub 24/O/sub 41/ (14/24 AEC)와 같은 이차상들의 부피분율 및 크기를 감소시켜야만 한다. 본 실험에서는 BSCCO 2223 선재의 특성을 향상시킬수 있는 최적의 열처리 조건 확립 및 기계적 공정시 나타나는 여러 가지 문제점을 개선하여 높은 임계전류를 가지는 선재의 특성을 분석하고자 하였다. 최종적으로 제조된 선재는 2223상 결정이 피복재(Ag)와 평행하게 길게 성장하며, AEC상의 크기와 부피분율이 감소할수록 더 높은 임계전류특성을 나타내었다(I/sub c/~70A, J/sub c/~42,000 A/㎠). 또한 이 선재에서 나타나는 여러 가지 이차상들을 분석하기 위하여 XRD, SEM, EDS 분석을 행하였다.

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Ring Oscillator Circuit for Controlling Temperature Characteristics (온도 특성을 제어하기 위한 링 발진기 회로)

  • Choi, Jin Ho
    • Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference
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    • 2015.10a
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    • pp.883-884
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    • 2015
  • In this paper, a ring oscillator circuit having controllable output characteristics with temperature is introduced. The ring oscillator can be used in the various system to require temperature measurement. The ring oscillator is comprised of a current source and a number of NOT gates and the bias current of the current source is controlled with temperature.

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The Analysis of Electric characteristics by Voltage Stress in Polycrystalline Silicon Thin Film Transistor (다결정 실리콘 박막 트랜지스터에서 DC 전압 스트레스에 의한 전기적 특성의 분석)

  • Chang, Won-Soo;Jung, Eun-Sik;Jung, Yon-Shik;Lee, Yong-Jae
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2002.05a
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    • pp.202-205
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    • 2002
  • 본 논문은 계속적인 소자의 이용은 전기적인 스트레스까지 야기시키는데, 특히 게이트에 인가되는 전압이나 전류 스트레스는 게이트 산화 막의 열화를 야기 시킬 수 있다. 유리기판위에 저온(${\leq}600^{\circ}C$)공정의 고상결정화을 통하여 다결정 박막 트랜지스터를 제작한 후, 이 소자에 게이트와 드레인에 전압 스트레스를 인가하여 출력 특상과 전달특성을 분석하였는데, 그 결과 다결정 실리콘 박막 트랜지스터의 전달특성은 게이트 와 드레인 전압에 의존하는데 임계전압은 긴 채널길이와 좁은 채널 폭에서 높고 출력특성은 갑자기 높은 드레인 전류가 흐른다. 전기적 스트레스가 인가된 소자는 드레인 전류를 감소시킨다. 결국 전계효과 이동도는 긴 채널길이와 좁은 폭의 채널에서 더 빠른 것을 알 수 있다.

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Analysis of the aging effects on the thyristor leakage current and blocking voltage characteristics (전압-열 가속열화에 따른 사이리스터 소자 누설전류 밀 차단전압 특성 분석)

  • Kim, Hyoung-Woo;Seo, Kil-Soo;Kim, Ki-Hyun;Kim, Nam-Kyun
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2006.07c
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    • pp.1309-1310
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    • 2006
  • 사이리스터 소자의 신뢰성은 HVDC, SVC, FACTs와 같은 대용량 전력 시스템의 신뢰성에 많은 영향을 미친다. 따라서 사이리스터 소자의 신뢰성을 분석하는 것은 시스템의 안정적인 운용과 신뢰성의 확보에 필수적이다. 본 논문에서는 장시간동안 전압 및 열을 인가하여 사이리스터를 가속열화 시켰을 때 사이리스터 소자의 차단전압 및 누설전류 특성의 변화에 대해 실험을 통해 분석하였다. 가속열화 시험에는 14개의 사이리스터가 사용되었고, 1000V, $100^{\circ}C$의 조건에서 가속열화를 진행하였으며, 7일에서 10일의 간격으로 소자의 누설전류 및 차단전압 특성을 측정하여 초기 특성과 비교 분석하였다.

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Control of Bidirectional Half-Bridge Converter for Optimal Charge/Discharge of the Supercapacitor (슈퍼커패시터의 최적 충방전을 위한 양방향 하프브리지 컨버터의 제어)

  • Lee, Jong-Hak;Choi, Woojin
    • Proceedings of the KIPE Conference
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    • 2010.11a
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    • pp.207-208
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    • 2010
  • 연료전지와 같은 신재생에너지원은 부하변동에 강인하게 대처하기 어려운 특성을 지니고 있어 단독으로 사용될 경우 전력품질 문제를 야기 할 수 있으며, 따라서 이를 보상하기 위한 보조 에너지 저장장치의 사용이 요구된다. 슈퍼커패시터는 전력밀도가 높고 사이클 수명이 긴 특성을 지니고 있어, 주 에너지원의 느린 응답특성을 보상하는 데에 유용하게 사용될 수 있다. 본 논문에서는 슈퍼커패시터의 최적 충방전을 위한 양방향 하프브리지 컨버터의 설계 및 제어에 관해 기술한다. 최적 충방전 전류의 값을 결정하기 위해 EIS 실험을 통해 슈퍼커패시터 모듈의 임피던스 특성을 분석하였고, 충전 전류별 충전 효율이 달라지는 원인을 분석하였으며, 위상제어에 의한 하프브리지 컨버터의 충방전 제어방법에 관해 제시한다.

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Development of amorphous Si solar cell with narrow band gap for Tandem cell (Tandem cell 적용을 위한 narrow band gap을 갖는 a-Si 태양전지 개발)

  • Kim, Sunho;You, Dongjoo;Ahn, Seh-Won;Lee, Heonmin;Kim, Donghwan
    • 한국신재생에너지학회:학술대회논문집
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    • 2010.06a
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    • pp.63.1-63.1
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    • 2010
  • 실리콘 박막 태양전지의 효율을 향상시키기 위해 밴드갭이 다른 흡수층을 적용한 tandem형 적층 태양전지를 이용하고 있다. 일반적으로 1.7eV이상의 밴드갭이 큰 비정질 실리콘을 이용하여 단파장의 빛을 흡수하고, 상대적으로 낮은 1.1eV 정도의 밴드갭을 갖는 미세결정 실리콘 층으로 장파장을 흡수하게 된다. 이렇게 연결된 tandem형 태양전지의 효율을 극대화하기 위해서는 각 태양전지에서 발생하는 전류 밀도를 일치시키는 것이 필요하다. 이를 위해 비정질 실리콘의 두께가 증가되는 경우가 있는데 이러한 경우 비정질 실리콘의 광열화 특성(Lihgt-induced degradation)으로 안정화 효율이 감소하게 된다. 따라서 비정질 실리콘 태양전지의 전류 밀도를 향상 시켜 두께를 최소화하는 것이 매우 중요하다. Tandem형 태양전지에서 비정질 실리콘 태양전지의 전류 밀도를 향상시키기 위해 두 개의 전지사이에 광 반사층을 적용하여 태양전지를 제조하게 된다. 이러한 경우 비정질 실리콘의 전류 밀도는 증가하지만, 광 반사 층의 장파장 흡수로 인하여 하부 태양전지의 전류 밀도 감소가 더 커지게 되어 전체 발생 전류 밀도는 오히려 감소하게 된다. 본 논문에서는 비정질 실리콘의 밴드갭을 제어하여 광 흡수 파장 영역 확대로 전류 밀도를 향상시키는 연구를 진행하였다. PECVD의 RF power 조건을 제어하여 1.75eV에서 1.67eV까지 밴드갭을 변화시켰다. 이와 같은 조건의 박막을 광 흡수층으로 갖는 p-i-n 구조의 비정질 실리콘 태양전지를 제작하였다. i층의 밴드갭이 감소됨에 따라 장파장 영역의 흡수가 확대되어 전류 밀도가 증가 하였지만, Voc의 감소가 컸다. 이는 i층의 밴드갭이 좁아짐에 따라 p층과의 불연속성이 커졌기 때문이다. 이러한 악영향을 줄이기 위해 p층과 i층 사이에 buffer층을 삽입하여 태양전지를 제작하였다. 이와 같은 최적의 buffer층 삽입을 통하여 불연속성을 줄임으로써 Voc의 상승효과를 확인하였다. 본 연구의 결과로 좁은 밴드갭을 갖는 광 흡수 층을 적용하여 전류 밀도를 향상시키고, 최적화된 buffer층 삽입으로 Voc를 향상시킴으로써 고효율의 비정질 실리콘 태양전지를 제작하였다. 이를 tandem형 태양전지에 적용할 경우 초기 효율뿐만 아니라 얇은 두께에서 제조할 수 있기 때문에 광열화 특성이 향상되어 안정화 효율의 증가를 가져올 수 있다.

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