• Title/Summary/Keyword: 전류분포

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Characteristics of AC Loss in a High-$T_c$ Model Power Cable (고온 초전도모델전력케이블의 교류손실 특성)

  • Kim, Chang-Wan;Jung, Jae-Hoon;Ryu, Kyung-Woo;Choi, Byung-Ju
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2001.07b
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    • pp.681-683
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    • 2001
  • 다수의 Bi-2223테이프로 구성된 고온 초전도모델전력케이블의 통전손실을 조사하였다. 전력케이블의 임계전류는 각각 테이프의 임계전류가 유사하다할지라도 전류리드-테이프사이의 접속저항으로부터 기인하는 불균일 전류분포 때문에 전압리드의 접촉위치에 의존하였으며, 전력케이블의 통전손실은 전압리드의 접촉위치 및 전류의 주파수에 무관하였다. 따라서 전력케이블의 통전손실은 케이블의 상이한 임계전류에 영향을 받지 않으며, 전류의 주파수는 각각 테이프에 흐르는 전류분포에 영향을 미치지 않음을 의미한다.

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The Performances and Temperature Distributions of the Circular Molten Carbonate Unit Fuel Cell (원형 용융탄산염 단위 연료전지의 성능과 온도분포)

  • 김미현;정귀영;남석우;오인환;임태훈;홍성안
    • Journal of Energy Engineering
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    • v.8 no.1
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    • pp.7-13
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    • 1999
  • 원형 용융탄산염 단위 연료전지의 성능 및 온도분포가 수치모사를 통해 얻어졌다. 원형 단위전지내에서는 사각형 단위전지에 비해 비교적 균일한 온도분포가 얻어졌다. 전지의 바깥쪽으로 갈수록 가스전환율이 커졌고 전류밀도도 크게 증가하였다. 운전전압이 감소할수록 각 가스들의 전환율은 커지고 전류밀도도 커졌다. 원형 전지에서의 평균전류밀도나 출력은 전압이 높을 때는 사각형 전지보다 작았고, 전압이 낮을 때는 더 컸다. 음극 및 양극 가스의 전환율도 마찬가지였다. 전압이 낮을 때 가스의 전환율이 커서 원형 전지의 효용성이 크게 나타났다.

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충돌주파수가 고주파 수평행평판플라즈마의 전기장균일도에 미치는 영향 연구

  • Gang, Hyeon-Ju;Choe, U-Yeong;Lee, Bo-Ram;Jeong, Jin-Uk
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.08a
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    • pp.347-347
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    • 2011
  • 고주파수평행평판플라즈마소스에서 전기장분포를 맥스웰방정식을 적용하여 해석하였다. 크게 두가지 요인이 전기장분포를 결정하였는데, 변위전류가 우세한 경우는 중심에 전기장이 큰 모양의 분포가 되었고, 전도전류가 주된 경우는 바깥쪽에 전기장이 센 모양을 가졌다. 본 계산에 의하면 전기장분포를 결정하는 또 다른 하나의 요인은 충돌주파수였는데, 충돌주파수에 의해서 전기장분포가 변화되는 것을 확인하였고, 전기장분포를 변화시킬 수 있는 충돌주파수조 건도 본 논문에서 제시할 예정이다.

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Non-linear Analysis for Penetrated Magnetic Field in Superconducting Nb Foil (인가 자장에 의한 초전도 Nb 박막의 비선형적인 자장분포 해석)

  • Chung, Yoon-Do;Oh, Sung-Kwun;Kim, Hyun-Ki;Ko, Tae-Kuk
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2009.07a
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    • pp.644_645
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    • 2009
  • 이미 개발된 리니어형 초전도 전류 보상기는 다양한 동작 조건에서 충전 전류 실험을 통해 검증되었고, 고자장 초전도 마그넷용 전류보상기로 적용하기위한 기본적인 특성을 수행하고 있다. 충전전류는 초전도 Nb 박막에 인가되는 자장의 크기와 이동속도(주파수)에 영향을 받아 발생됨이 실험적으로 이미 확인되었다. 특히 인가 주파수가 임계점이상 (20 Hz이상)에서 충전전류가 서서히 감소되는 비선형적인 충전특성이 확인되었다. 본 논문에서는 초전도 Nb 박막에 침투되는 자장의 분포를 3D FEM을 이용하여 자장분포 해석을 수행하였다. 초전도 Nb 박막에 인가되는 자속의 이동속도에 따른 침투영역의 크기 변화를 근거로 침투자속에 따른 초전도 Nb 박막의 비선형성을 확인하였다.

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Characteristic mode analysis of EM radiation by 3-dimensianl object (특성 모드를 이용한 3차원 구조 전파방사 해석)

  • Son, Seung-han;Ahn, Chang-hoi
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2015.07a
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    • pp.1256-1256
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    • 2015
  • 방열판과 같이 전류나 전압원에 연결된 도체의 구조물은 유기된 전류에 의해 전파를 방사하게 된다. 이때의 전류 분포는 도체 구조물의 형상과 주파수에 따른 전류 분포를 갖게 되는데, 이는 모드의 특성 해석을 통하여 분석할 수 있다. 원치 않는 전파의 방사를 이 특성 모드 해석을 통하여 분석하고, 이를 통해서 효율적인 접지 위치를 선정 후 최적의 저항을 사용하여 원치 않는 전파의 방사가 최소가 되도록 한다.

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플라즈마에서 볼츠만 관계식의 실험적 검증

  • Kim, Yeong-Cheol;Lee, Hyo-Chang;Hwang, Hye-Ju;Kim, Jun-Yeong;Kim, Dong-Hwan;Jeong, Jin-Uk
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2013.02a
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    • pp.561-561
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    • 2013
  • 볼츠만 관계식을 아르곤과 산소 플라즈마에서 공간상의 전자 전류 측정과 전자에너지 분포함수의 측정을 통해 실험적으로 검증하였다. 전자의 에너지 분포가 볼츠만 관계식을 따를 때, 탐침의 전위를 고정시켜 각 위치마다 측정 할 경우 탐침과 플라즈마 간의 전위차의 감소와 플라즈마 밀도 감소가 서로 상쇄되는 효과로 인해 공간상에서 전자전류가 일정하게 측정이 된다. 또한 볼츠만 관계식을 전자역학적으로 해석할 때, 전자에너지 분포함수의 비국부적 특성을 의미하기 때문에 공간상에서 전자에너지 분포함수가 일정하게 측정된다. 낮은 압력에서 전자전류는 공간상에서 일정하였고, 전자에너지 분포함수 또한 전체 에너지 상에서 일치하는 것을 확인할 수 있었다. 이는 전자가 아르곤과 산소 플라즈마에서 각각의 경우에 볼츠만 관계식을 따르는 것으로 볼 수 있다. 하지만 압력이 높을 때, 산소 플라즈마인 경우 볼츠만 관계식 따르지 않았지만 아르곤 플라즈마에서는 여전히 볼츠만 관계식을 따르는 것을 확인할 수 있었다. 이러한 차이는 산소기체의 경우 분자기체에서 비탄성 충돌을 유발하는 반응들이 다양한 전자에너지 영역에 대해서 존재하여, 전자의 에너지 특성이 비국부적 영역에서 국부적 영역으로 전이가 되기 때문인 것으로 해석할 수 있다. 또한 챔버 벽면으로 빠져나가는 전자에 대해서도 볼츠만 관계식을 실험적으로 검증을 해 보았고, 플라즈마 내에서의 결과와 유사한 경향성을 관찰할 수 있었다.

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Effect of finite conductive image planes on PCB radiation (유한 도전성 영상 평면이 PCB 전자파 복사에 미치는 영향 분석)

  • Kim, Jin-Suk;Cho, Kwang-Yun;Kim, Nam
    • The Journal of Korean Institute of Communications and Information Sciences
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    • v.23 no.4
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    • pp.836-845
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    • 1998
  • In this ppaer, the confguration of multi-layers of the image planes surrounding the current trace of inite width has been considered, and the shielding performance of image planes is analyzed with the parameters of the width and conductivity of the planes, and the distance between the current trace and the planes. The induced current distributions on the image planes have bgeen calculated by solving a set of electric field integral equations by the method of moments. To cacluate the current distribution on the planes effectively, a new method for dividing integral intervals is proposed.

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Measurement using Low-temperature Scanning Hall Probe Microscopy and Analysis of Local Current Distribution using Inversion Problem Technique (저온 주사 홀소자 현미경과 역변환 방법을 이용한 국소적 전류 분포 분석)

  • Cho, B.R.;Park, S.K.;Park, H.Y.;Ri, H.C.
    • Progress in Superconductivity
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    • v.13 no.1
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    • pp.34-39
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    • 2011
  • We have performed measurements of the local magnetic field distribution of YBCO coated conductors using Low-temperature Scanning Hall Probe Microscopy (LT-SHPM). Distribution of stray magnetic field of various types of YBCO coated conductors in the superconducting state was measured in presence of external magnetic fields. We analyzed one dimensional and two dimensional local current distribution using inversion technique from the magnetic field distribution.

Analysis of Subthreshold Current Deviation for Gate Oxide Thickness of Double Gate MOSFET (게이트 산화막 두께에 따른 이중게이트 MOSFET의 문턱전압이하 전류 변화 분석)

  • Jung, Hakkee;Jeong, Dongsoo;Lee, Jong-In;Kwon, Oshin
    • Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference
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    • 2013.05a
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    • pp.762-765
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    • 2013
  • This paper analyzed the change of subthreshold current for gate oxide thickness of double gate(DG) MOSFET. Poisson's equation had been used to analyze the potential distribution in channel, and Gaussian function had been used as carrier distribution. The potential distribution was obtained as the analytical function of channel dimension, using the boundary condition. The subthreshold current had been analyzed for gate oxide thickness, and projected range and standard projected deviation of Gaussian function. Since this analytical potential model was verified in the previous papers, we used this model to analyze the subthreshold current. Resultly, we know the subthreshold current was influenced on parameters of Gaussian function and gate oxide thickness for DGMOSFET.

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Analysis of Subthreshold Current Deviation for Gate Oxide Thickness of Double Gate MOSFET (채널도핑농도에 따른 이중게이트 MOSFET의 문턱전압이하 전류 변화 분석)

  • Jung, Hakkee
    • Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference
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    • 2013.05a
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    • pp.768-771
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    • 2013
  • This paper analyzed the change of subthreshold current for channel doping concentration of double gate(DG) MOSFET. Poisson's equation had been used to analyze the potential distribution in channel, and Gaussian function had been used as carrier distribution. The potential distribution was obtained as the analytical function of channel dimension, using the boundary condition. The subthreshold current had been analyzed for channel doping concentration, and projected range and standard projected deviation of Gaussian function. Since this analytical potential model was verified in the previous papers, we used this model to analyze the subthreshold current. As a result, we know the subthreshold current was influenced on parameters of Gaussian function and channel doping concentration for DGMOSFET.

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