• 한국양식학회:학술대회논문집
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• 한국양식학회 2003년도 추계학술발표대회 논문요약집
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• pp.64-64
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• 2003

대구 인공종묘 생산 기술 개발의 일환으로 수정란에 기생하여 폐사를 유발하는 세균 및 세균 감염 경로를 파악함으로써 수정란의 생존율과 부화율 향상을 위하여 본 실험을 실시하였다. 세균 감염 경로를 파악하기 위하여 난소와 정소 자체 세균 감염 여부를 조사하였다. 일반배지 (BHIA)와 비브리오 선택배지 (TCBS)를 사용하여 세균검사를 실시하였다. 난소의 세균 검사는 생식소 내부를 일부 절개한 후 멸균 roop를 찔러 세균을 검사하였고, 정소는 채정하기 전 복부를 절개하여 멸균 roop로서 적출하여 배지에 도말한 후 배양하였다. 수정란 내 세균 수는 수정란을 각각 20개씩 샘플하여 난 외부에 기생하는 세균을 제거하기 위하여 난소독제로 이용되고 있는 benzalkonium 0.1%로 1분간 소독한 후 멸균 생리식염수로 3회 세척하여 호모게나이즈하여 검사하였다. 호모게나이즈한 액 중 100${\mu}\ell$를 pipetting하여 일반배지(BHIA)에 도말하여 인큐베이터에서 배양하였다. 난소와 정소 내에서 세균이 검출됨에 따라 수정 시 세균 감염을 억제하기 위하여 자외선 살균해수와 일반해수를 수정액으로 사용하여 발생율을 비교 시험하였다. 수정 시간은 1분으로 동일하게 적용하였으며, 수정 용기는 멸균 처리된 일회용 100$m\ell$ 플라스틱 용기를 사용하였다. 수정 후 과다한 정자를 제거하기 위한 세란은 1$\ell$ 멸균 비이커에서 5회 30분 가량 실시하여 정자를 제거하였고 멸균 봉으로 저어주면서 수정란의 점착력을 제거하였다. 수정란은 100$\mu\textrm{m}$ 그물망으로 수정란 유실을 방지한 플라스틱 용기에 수용하여 유효수량 270$\ell$ FRP 수조에 수용하여 3$\ell$/min 환수하였고, 수온은 자연수온 1$^{\circ}C$로 유지하였다. 발생율은 만능투영기로 3회 측정하였다. 수정 후 세균과 기생충에 의한 수정란의 폐사를 억제하기 위하여 수정 직후, 수정 후 1일, 2일째 oxytetracycline과 iodine 처리에 따른 발생율 변화를 조사하였다. 발생율은 만능투영기로 조사하였고, 시험구별로 3회 측정하였다. 경과 일수별로 약제 처리는 약제 미처리 수정란 중 정상적인 발생이 이루어지고 있는 것을 선별하여 조사하였다. 약제 처리에 따른 배체 발생 단계는 수정 후 1일째는 상실기, 2일째는 포배기였다. 수정란 및 대구 자어에서 분리된 V. splendidus 에 의한 폐사를 예방하기 위해 in vivo에서 oxytetracycline 외 5종의 항생제를 대상으로 96well plate에서 최고 농도 250ppm부터 2 fold로 단계 희석하여 $25^{\circ}C$에서 48시간 배양하여 MIC를 조사하였다. 세균 감염경로 파악을 위하여 난소, 정소 및 정자에서 세균을 분리한 결과 일반배지 및 비브리오 선택배지에서 모두 균이 검출되었고, 균 동정 결과 터봇 자어에서 검출된 것으로 보고된(Gatesoupe et al., 1999) V. splendidus로 나타났다. 수정액과 정자 및 미수정란의 세균 분리 결과 일반배지에서 3$\times$10/ml ~ 7$\times$10/ml로 균이 검출되었다. 수정액을 일반해수와 자외선 살균 해수를 사용하여 발생율을 비교한 결과 수정 후 3일째 발생율은 자외선 살균해수 72.3%, 일반해수 52.7%였으며, 수정 후 7일째 40.9%와 25.1%로 자외선 살균해수가 유의적으로 높게 나타났다. 수정 후 경과 일수별로 oxytetracycline과 Iodine을 처리한 결과 수정 직후 처리한 시험구는 7일째 19.8%와 18.9%로 대조구 23.1%와 유의적인 차이가 없는 것으로 나타났다. 수정 후 1일째 처리한 시험구는 54.5%와 56.8%, 수정후 2일째 처리구는 47.9%와 50.6%로 두 시험구 모두 대조구와 수정 직후 처리구보다 유의적으로 높게 나타났다. 수정란 및 대구 자어에서 분리된 V. splendidus 에 의한 폐사를 예방하기 위해 in vivo에서 항생제 종류별 MIC 조사 결과 oxytetracycline이 0.48ppm으로 가장 효과가 높은 것으로 나타났다.

• 한국우주과학회:학술대회논문집(한국우주과학회보)
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• 한국우주과학회 2009년도 한국우주과학회보 제18권2호
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• pp.47.5-48
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• 2009

감마선폭발(Gamma Ray Burst) 사건에서 순식간에 방출되는 광자들을 측정할 뿐만 아니라, 가시광 영역부터 감마선 영역 내에서 다른 변광하는 현상들을 연구하기 위해, 마이크로-인공위성에 탑재될 실험으로 Ultra Fast Flash Observatory(UFFO)을 제안한다. 이 UFFO의 핵심 기술은 Micro-Electro-Mechanical System mirrors가 빠른 시간이내에 타겟쪽으로 회전하여 측정하는 것이다. 이것은 우주상에서 감마선폭발로부터 오는 자외선/가시광선을 가장 빨리 측정하는 망원경으로, 이 현상의 생성 매커니즘을 이해하는데 중요한 정보를 제공할 것이다. 넓은 시야각을 가진 망원경으로부터 짧은 시간동안 순식간에 변하는 사건들을 판독하는 트리거 시스템과 제한된 처리 시간내에 망원경에서 검출기로 전달된 상당량의 데이터를 처리하는 신호처리 장치의 구현에 대해서 발표할 것이다.

• 한국대기환경학회:학술대회논문집
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• 한국대기환경학회 2002년도 추계학술대회 논문집
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• pp.119-120
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• 2002

자외선의 영역에서 에너지 흡수를 일으키는 기준 가스들을 측정하는 방법은 여러 가지가 있다. 근래에 이르러 분광학적인 방법으로 이들을 측정하는 시도가 늘어나고 있다. 유럽에서 널리 이용중인 도아즈는 현재는 위성에 응용되어 개발되고 있으며 가스의 파장에 대하여 흡수선을 이용하여 해당가스를 검출해내는 기술을 그 원리로 하고 있다. 지점 측정 방법에 대하여 많은 장점을 가지고 있으나 현재로서는 지속적으로 개발되고 있고 응용 기술의 난해함 등으로 그 응용범위가 한정되어 있다. (중략)

• 한국식품영양과학회지
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• 제42권1호
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• pp.148-152
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• 2013

고로쇠 수액을 효과적으로 살균하기 위해서 총 18가닥의 PFA 불소수지 튜브와 총 30개의 자외선램프(총 1,170 W)로 구성된 자외선 살균기를 제작하고 여과된 고로쇠 수액을 통과시켜 살균하여 미생물 살균효과 및 품질변화를 평가하였다. 여과된 고로쇠 수액(FAS)은 여과전 수액(AS)과 비교하였을 때 일반세균수가 81%, 진균수가 54% 감소하였고 관능적으로도 유의한 차이를 나타내지 않았다. 유속을 달리하여 자외선 살균한 시료들(SAS)은 852 mL/min와 1,358 mL/min의 유속에서 일반세균, 대장균군 및 진균이 검출되지 않았으며, 출력을 달리하여 자외선 살균한 시료들(SAS)은 390 W 이상의 출력에서 모든 미생물의 살균이 가능하였다. 일반적으로 SAS가 AS 및 FAS와 비교하였을 때 관능적으로 상대적으로 좋지 아니한 결과를 나타내었으나(p<0.05), 852~1,358 mL/min의 유속에서 390 W 출력으로 살균하는 것이 다른 SAS에 비하여 관능적으로 좋은 결과를 나타내어 관능적으로 양호한 품질을 얻을 수 있는 최적의 자외선 살균조건으로 확인되었다. 자외선 살균 전후의 pH, 산도, 당도 및 색도의 변화를 측정한 결과 살균 전 시료(AS, FAS)와 자외선 살균 후의 시료(SAS)들 사이에 유의적 차이(p<0.05)가 없어 여과 및 자외선 조사가 영향을 미치지 않는 것으로 확인되었다.

• 대한기계학회논문집B
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• 제38권10호
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• pp.831-835
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• 2014

온도를 달리하여 수열합성 시킨 두 ZnO nanostructure 의 자외선 검출 소자에 대해 표면 결함과 기판과의 계면 결함의 상대적인 영향을 분석했다. 실험은 laser 가 인가된 상태에서 bias voltage sweep rate을 조절하여, 그에 따른 전류-전압 곡선을 통해 이루어졌다. 수열 성장이 적게 된 ZnO nanostructure의 경우 405, 355 nm laser 인가시, bias voltage sweep rate 을 느리게 할 수록, 전류-전압 기울기가 낮아졌으며, 대조적으로 성장이 크게 된 시료의 경우 기울기가 높아졌다. 이에 대한 이유는 계면과 표면 결함 영향의 차이로 발생됨이 고려됐다. 이와 같이 laser 가 인가된 상태에서 bias voltage sweep rate 에 따른 전류-전압 곡선 분석 실험은 M-S-M (Metal-Semiconductor-Metal) 구조를 갖는 수열 성장된 ZnO 의 표면 및 계면 결함을 관찰하는데 도움을 줄 것으로 생각된다.

• Journal of Radiation Protection and Research
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• 제20권3호
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• pp.155-162
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• 1995

비전리방사선에 대한 방호의 관점에서 현재의 검출 및 측정기술을 검토하였다. 특히 전파와 자외선을 중심으로 노출계측량, 측정기기 및 측정 시 고려사항을 설명하였다. 전파장에 대해서는 실제 파원별로 출력밀도의 수준을 요약하여 실무에 참고가 되게 하였다. 대체로 비 전리방사선의 측정에는 아직 큰 오차가 있으므로 늘어나는 비 전리방사선원과 이로 인한 유해한 건강영향에 대한 대중의 관심을 고려하면 비 전리방사선 측정기술의 개발수요는 크다.

• 대한화학회지
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• 제35권4호
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• pp.397-404
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• 1991

역상 액체크로마토그래피에서, 간접 분광광도법으로 비발색단 물질인 지방족산, 지방족알코올 및 tetraalkylammonium 염들을 검출할 수 있었다. Benzyltriethylammonium bromide(BTEAB)를 검출시약으로 사용하였다. 또한 시료들의 머무름 기구와 시료들의 머무른 시간에 영향을 미치는 여러 가지 인자 즉, 검출시약의 농도, 메탄올의 농도, 이동상에 첨가한 화합물의 종류와 농도, 이동상의 온도와 pH, 시료분자에 있는 작용기의 종류에 대하여 알아보았다. 그리고 최적조건하에서 몇 가지 혼합시료들을 분리할 수 있었다.

• 한국정보통신학회논문지
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• 제5권5호
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• pp.985-993
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• 2001

본 연구에서는 플라즈마 감시에 의한 용접성 평가방식과 효율적인 감시 알고리즘을 위한 시뮬레이션 툴의 개발을 목표로 한다. 레이저 용접 시 발생하는 플라즈마를 검출하기 위하여 플라즈마에서 발생하는 자외선신호를 반도체 광 센서를 사용하여 검출하고, 감시장치로 쓰이는 개인용 컴퓨터에 고속으로 전달, 저장하는 장치와 전달된 신호를 이용하여 용접 결함을 검출하는 모니터링 시스템을 개발하였다. 이 장치를 사용하여 용접 데이터베이스를 구축하고, 용접성과 플라즈마 신호와의 관계를 평가하고, 분석하였으며 특히 용접 결함 검출 모니터링에 적합한 특징의 선택, 결정을 위한 특징의 수, 분류기 사이의 비교 등을 위하여 오프라인 상태에서 시스템 구현에 적합한 특징의 선택, 결정을 위한 특징의 수, 분류기 사이의 비교 등을 비교 분석할 수 있는 시뮬레이션 툴의 개발과 이를 실제 시스템에 구현하는 방식을 취하였다. 목표로 하고 있는 시스템은 신뢰성 있고 효율적인 레이저 용접 결함 감시 시스템이며 이의 구현을 위해 용접 품질 모니터링 프로그램 중 분류기와 GUI을 구현하였으며 Perceptron, Wavelet, MLP 등을 적용하여 이의 결과가 실제 실시간 품질 해석에 적합한 데이터로 사용할 수 있는가에 대한 분석도 행하였다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2009년도 하계학술대회 논문집
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• pp.337-337
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• 2009

가시광선영역에서 매우 균일한 높은 투과성뿐만 아니라 근적외선영역에서 가파른 홉수성 엣지와 함께 낮은 투과율을 제공하는 산화구리(II)를 함유하는 포스페이트 유리는 컬러 비디오 카메라의 컬러 보정 필터, 발광 컬러 디스플레이용 보호판(sheild), 모노크로메이터의 미광 필터, 플라스틱 복합재 필터의 무기 성분 및 CCD(전하 결합 소자) 및 CMOS(상보성 금속 산화물 반도체) 카메라 및 검출기 분야용 필터 유리로서 사용된다. 용융온도 및 산화구리(II) 첨가량에 따른 투과율을 측정하기 위해 포스페이트 유리 시료를 $1100\sim1500^{\circ}C$ 용융한 후 $400^{\circ}C$에서 2시간 동안 어닐링 공정을 거쳐 제조하였다. 제조된 시료는 두께 0.3mm로 폴리싱하여 자외선-적외선 분광 광도기를 이용하여 광학적 특성을 측정하였다. 본 실험을 통하여 용융온도에 따라 가시광선영역 및 근적외선영역에서의 투과율 거동을 비교한 결과 $1100\sim1200^{\circ}C$에서의 우수한 투과율 특성을 나타냈다. 용융온도가 내려감에 따른 가시광선영역 (400~600nm)에서 높은 투과율 및 근적외선영역 (750~1100nm)에서 낮은 투과율과 가파른 흡수성 엣지를 나타냈다.

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 2004년도 하계학술대회 논문집 C
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• pp.2140-2142
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• 2004

본 논문은 전기화학 합성으로 형성한 폴리피롤(polypyrrole : PPy) 전극에 신경 전달물질(neurotransmitter)인 에피네프린(epinephrine : Ep)을 치환도핑하여 전압인가에 따른 방출과 자외선 분광법에 의한 검출 결과를 보인다. 폴리피롤 막은 정전압법으로 금 전극에 합성하였고, potassium phosphate buffer(pH 7.0) 내에서 에피네프린을 폴리피롤 막에 치환도핑하였다. 폴리피롤 막에 10mM Ep 농도로 치환도핑한 후 염화나트륨 수용액에서 -0.9V의 환원전압을 인가하여 에피네프린을 방출하였다. 자외선 분광법을 이용하여 파장 250$^{\sim}$400nm 영역에서 방출된 에피네프린 용액의 최대흡광도가 약 0.021 임을 확인하였고 이는 에피네프린 표준용액의 정량선으로부터 16${\mu}$g 이 방출되었음을 의미한다.