• 대한기계학회논문집
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• 제14권3호
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• pp.747-754
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• 1990

본 연구에서는 장시간 가공하는 경우 가공량과 가공물에 입사되는 이온 빔의 입사각도에 따라 이온 스파터 가공이 표면거칠기에 미치는 영향에 대해서 연구해 보았 다.

• 대한기계학회논문집
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• 제14권6호
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• pp.1495-1508
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• 1990

본 연구에서는 전류밀도와 가공시간을 변화시켰을 때의 가공량, 가공상태를 검토해 보았으며, 촉침홀더의 가공각도를 달리하거나 재부착문제를 해결하기 위한 마 스크의 사용여부에 따른 촉침의 가공상태를 알아보기 위해 초기선단반경 2$\mu\textrm{m}$, 선단각 90˚의 다이아몬드 촉침을 이온스파터 가공기를 사용하고, 가공조건을 변화시켜서 초 정밀 가공품의 표면거칠기 측정에 적합한 0.5$\mu\textrm{m}$ 이하의 미세한 선단반경을 갖는 촉침 을 가공하기 위한 가공조건에 대한 실험을 하였다.

• 한국정밀공학회지
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• 제7권3호
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• pp.37-47
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• 1990

In accordance with the high precision of mechanical elements, it has been required to high precision in surface roughness measurement and, therefore, stylus tip radius is manufa- ctured less than 2 .mu. m through ion sputter machining. In this experiment, by suing ion sputter machined stylus pf fine tip, radius and lapping machined stylus, surface roughness of standard specimens, silicon wafer were measured and then Rmax, Ra, RMS value were investi- gatedaccording to the variation of tip radius of stylus. As a result, measuring error due to the variation of stylus tip radius in surface roughness measurement was decreased by using ion sputter machined stylus and also the measuring accuracy was improved. And the measuring variation of Ra, RMS calculated from correlation coefficient lager than 0.9 on the wave of short period and amplitude using ion sputter machined stylus of fine tip radius.