• Title/Summary/Keyword: 유리화기술

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Development of Si(110) CMOS process for monolithic integration with GaN power semiconductor (질화갈륨 전력반도체와 Si CMOS 소자의 단일기판 집적화를 위한 Si(110) CMOS 공정개발)

  • Kim, Hyung-tak
    • Journal of IKEEE
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    • v.23 no.1
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    • pp.326-329
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    • 2019
  • Gallium nitride(GaN) has been a superior candidate for the next generation power electronics. As GaN-on-Si substrate technology is mature, there has been new demand for monolithic integration of GaN technology with Si CMOS devices. In this work, (110)Si CMOS process was developed and the fabricated devices were evaluated in order to confirm the feasibility of utilizing domestic foundry facility for monolithic integration of Si CMOS and GaN power devices.

Study on the Artifact pattern representation of a method using digital technology (디지털 기술을 이용한 유물의 문양표현 방법에 대한 연구)

  • Koo, Ja-Bong
    • Journal of Digital Contents Society
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    • v.16 no.1
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    • pp.113-121
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    • 2015
  • Artifact pattern representation of a method using the digital technology is largely are two digital rubbing technique and digital contrast technique. Digital rubbing technique is clearly with the naked eye to see the original prestigious and difficult to build a digital rubbing data patterns by scanning a prestigious and patterns carved into the artifacts in three dimensions without compromising the circle to represent the three-dimensional effect by contrast it to the objective value refers to a technique that can be represented in digital. Digital contrast technique can not be calculated if the depth information of the object due to the glassy film of artefacts in a three-dimensional surface scanning and the application of this technique refers to a realistic image mapped digital technique for generating digital image contrast. Digital rubbing technique is mainly useful to express the most prestigious and patterns expressed in pottery or tile and stone monument, etc. engraved or embossed, digital contrast techniques can be used effectively to artifacts such as magnetic or glass can not be applied to the digital rubbing technique.

Determination of major and minor elements in low and medium level radioactive wastes using closed-vessel microwave acid digestion (밀폐형 극초단파 산분해법을 이용한 중${\cdot}$저준위 방사성폐기물의 성분 원소 분석)

  • Lee Jeong-Jin;Pyo Hyung-Yeal;Jeon Jong-Seon;Lee Chang-Heon;Jee Kwang-Yong;Ji Pyung-Kook
    • Journal of Nuclear Fuel Cycle and Waste Technology(JNFCWT)
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    • v.2 no.4
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    • pp.231-238
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    • 2004
  • The conditions are obtained for the decomposition of solid radioactive wastes, including ion exchange resin, zeolite, charcoal, and sludge from nuclear power plant. In the process of decomposing the radioactive wastes was used the microwave acid digestion method with mixed acid. The solution after acid digestion by the following method was colorless and transparent. Each solution was analyzed with ICP-AES and AAS and the recovery yield for 5 different elements added into the simulated radioactive wastes were over $94{\%}$. The elemental analysis of destructive low and medium level radioactive wastes by the proposed microwave acid digestion conditions concerning the chemical characteristics of each radioactive waste are expected to be useful basic data for development of optimal glass formulation.

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Plasma resistance of Bi-Al-Si-O and Bi-Al-Si-O-F glass coating film (Bi-Al-Si-O와 Bi-Al-Si-O-F 유리 코팅막의 플라즈마 저항성)

  • Sung Hyun Woo;Jihun Jung;Jung Heon Lee;Hyeong-Jun Kim
    • Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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    • v.34 no.4
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    • pp.131-138
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    • 2024
  • In this study, the microstructure and plasma resistance characteristics of 35Bi2O3-15Al2O3-50SiO2 (BiAl SiO) and 35Bi2O3-7.5Al2O3-50SiO2-7.5AlF3 (BiAlSiOF) glass layers coated on sintered alumina substrates were investigated according to the sintering conditions. The coated layers were formed using the bar coating method and then sintered at a temperature in the range of 700~900℃, which corresponds to the temperature before and after the hemisphere forming temperature, after a debinding process. The plasma resistance of the two coated glasses was approximately 2~3 times higher than that of the quartz glass, and in particular, the BiAlSiOF glass film with F added showed higher plasma resistance than BiAlSiO. It is thought to be due to the effect of suppressing the reaction with fluorine gas by adding fluorine to the glass. When the sintering time was increased at 700℃ and 800℃, the plasma resistance of both glasses improved, but when the sintering temperature was increased to 900℃, the plasma resistance decreased again (i.e., the etching rate increased). This phenomenon is thought to be related to the crystallization behavior of both glasses. The change in plasma resistance depending on the sintering conditions is thought to be related to the appearance of Al and Bi-rich phases.

Development of Design Technology for Combined and Cogeneration Power Plant (복합열병합 발전 플랜트의 설계기술 개발사업의 추진 전략)

  • 오군섭
    • Journal of the KSME
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    • v.35 no.6
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    • pp.542-553
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    • 1995
  • 복합열병합 발전 플랜트의 장점은 도시 근교에 발전 플랜트를 간단히 건설할 수 있으며, 공해를 크게 줄이면서 독립적인 발전이 가능하다는 측면에서 신도시, 신공업단지, 도서지방 등에서 아주 유리한 것으로 알려져 있다. 또한 가스 터빈 배기열을 이용하여 대규모 주거 지역이나 공업 단 지내에서 필요한 난\ulcorner냉방열이나 공업열원으로의 활용이 손쉬우며, 주변 시설이 복잡하지 않고, 개선된 연소기술에 의하여 공해를 크게 줄일 수 있다. 최근 들어 분당\ulcorner일산\ulcorner부천 지역 등에 열병합 플랜트가 건설되고 있으나 거의 모든 설계기술은 외국 기술에 의존되고 있으며, 국산화 율도 극히 저조하여 '93년도에 완공된 부천 화력(473MW)의 경우 약 30% 정도이다. 복합열병합 발전 시스템은 가스 터빈, 스팀 터빈 등의 터보기계 기술을 근간으로 하며, 열회수장치 및 열교 환장치의 설계기술, 각종 제어기술 등의 종합 설계기술로서 이미 선진국에서는 실용화된지 오 래되었으며 우리 나라에도 여러 종류의 플랜트가 도입되어 사용되고 있다.

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대면적 터치스크린 패널용 저저항 IMITO 개발

  • Jeong, Jong-Guk;Park, Eun-Gyu;Chae, Jang-Yeol;Jo, Won-Seon
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2013.02a
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    • pp.413-413
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    • 2013
  • 대면적 터치패널은 현재까지 저항막 방식, 적외선, Camera 방식을 주로 사용하고 있다. 저항막 방식의 Sensitivity, 높은 가격, 적외선 방식의 경우 빛의 간섭에 의한 오동작이 일어날 수 있는 문제를 가지고 있다. 최근의 Mobile용 터치스크린은 정전용량 방식의 터치기술 채택으로 저항막, 적외선, Camera 방식의 모든 단점을 해소할 수 있으나 터치 스크린 면적이 커지게 되면서 요구저항을 맞출 수 없는 문제로 현재 크기의 제한적이다. 본 연구에서는 완전일체형 터치(G2 Touch Hybrid) 방식의 ITO 터치필름을 사용하지 않고, 강화유리 기판을 사용하여 저(低)저항, 고(高)투과, 대형화(15 Inch), 경량화를 고려한 Zero-gap ITO를 코팅한 커버 유리용 투명전극에 대하여 전기적, 광학적, 구조적, 표면적 특성을 분석하였다. ITO 박막의 두께를 최소화하여 패턴 인비저블의 특성을 갖는 것이 필요로 하는데, 이는 ITO박막 패턴후에 패턴이 보이지 않게 하기 위해서이며, 이러한 시장의 요구를 충족하기 위해 RF/DC 고자력 Magnetron Sputtering System을 사용하여 면저항 $80{\Omega}$/${\Box}$, 표면특성 Rp-v 2.1 nm, 최고 광투과율 90.5%@550 nm, 반사율 차이 0.5 이하의 특성을 확인하였다. 또한, 저항 경시변화를 줄이기 위해서 Sheath heater를 이용한 진공코팅 중 발생되는 BM Ink out-gassing을 줄여 out-gassing에 의한 박막 손상을 줄일 수 있었으며 진공 성막중 결정성을 갖는 ITO 막을 형성시킬 수 있었다.

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PREPARATION AND PROPERTIES OF EIECTROCHROMIC WINDOW COATING BY THE SOL-GEL METHOD (졸-겔 방법에 의한 전기적 착색 박막의 제작과 특성)

  • Lee, Kil-Dong
    • Solar Energy
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    • v.12 no.2
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    • pp.18-27
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    • 1992
  • Multilayer coatings of $WO_3$ were deposited by the sol-gel technique on microscope slide glass and ITO coated glass. These films were characterized optically, chemically, and structurally by XRD, spectro-photometry, DTA/TGA, SEM/EDAX and RBS. Uniform $WO_3$ sol-gel films were dip coated on slide glass at dipping speed of 5mm/s. This sample indicated a low near IR transmittance in optical properties as a result of coloration using a dilute HCI electrolyte as the $H^+$ion sources. Differential thermal analysis results have allowed the accurate determination of the formation temperature of the $WO_3$ crystalline phase from the gel data in the range of $380^{\circ}C{\sim}500^{\circ}C$, consistent with crystallization temperature of sol-gel film. RBS spectrometry was performed on the uncolored $WO_3$ sol-gel film, yielding a chemical composition of $WO_3$.

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기획특집(1) 적외선 광학계 산업 동향 - 칼코게나이드 유리성형렌즈 적외선 광학계

  • Kim, Jeong-Ho
    • The Optical Journal
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    • s.141
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    • pp.18-20
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    • 2012
  • "내일 지구가 멸망하더라도 나는 오늘 한 그루의 사과나무를 심겠다" 17세기 네델란드 태생의 철학자인 바뤼흐 스피노자가 이렇게 말했다고 한다. 그는 유럽의 대표적인 합리주의 철학자로 인정받으며 '에티카'를 통해 서양철학계에 커다란 화두를 던지기도 했다. 하지만 스피노자의 직업은 잘 알려져 있지 않았다. 그의 직업은 좀 색다르다. 그는 당시로는 파격적인 사상을 지닌 덕에 유대사회에서 추방됐고 카톨릭은 그의 모든 서적을 금서로 지정했다. 결국 스피노자는 렌즈를 가공하는 일로 생계를 유지하게 된다. 현대적 관점에서 보면 직가공에 의한 구면렌즈 가공이 이미 17세기 이전에 일반화된 것이다. 현대의 광학계 가공은 스피노자의 시대와는 비교할 수 없을 만큼의 다양한 기술적 발전에 힘입어 고정밀화, 비구면화, 양산화의 방향으로 진행되고 있다. 특히 성형 방식에 의한 비구면 렌즈 제조는 관련 분야의 핵심 기술이 되고 있으며 최근에는 적외선 렌즈에도 적용되고 있다.

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Cu(In,Ga)Se2 기반 탠덤 태양전지 연구현황 및 전망

  • Sin, Dong-Hyeop;Jeong, In-Yeong;Kim, Gi-Hwan;Hwang, In-Chan;An, Se-Jin;Eo, Yeong-Ju;Jo, A-Ra;Jo, Jun-Sik;Park, Ju-Hyeong;An, Seung-Gyu;Song, Su-Min;Yu, Jin-Su;Lee, Sang-Min;Lee, A-Reum;Gwak, Ji-Hye;Yun, Jae-Ho
    • Bulletin of the Korea Photovoltaic Society
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    • v.7 no.1
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    • pp.17-26
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    • 2021
  • Cu(In,Ga)Se2(CIGS) 태양전지 연구개발은 1970년대부터 지속적으로 발전하여 유리 및 플렉서블 기판에서 모두 20% 이상의 고효율을 달성하였으며, 상용화도 성공적으로 이루었다. 최근 태양전지의 초고효율화를 위한 방안으로 태양전지를 적층하는 다중접합 태양전지 특히 제조원가를 고려한 탠덤 구조에 대한 연구가 상당히 주목을 받고 있다. 이는 페로브스카이트 태양전지를 상부셀로 적용하였을 때, 29.5%의 초고효율이 보고되었기 때문이다. 이런 추세로 보면 태양전지의 탠덤 구조는 초고효율화 달성에 필연적으로 사용될 것으로 생각된다. 하지만 초고효율화와 더불어 BIPV, VIPV, 모바일소자 등 심미성, 경량성, 유연성을 갖춘 다기능성 태양전지에 대한 요구까지 충족시키기 위해서는 궁극적으로 유연한 하부셀이 사용되어야 한다. 이런 점들을 고려하였을 때, 초고효율 유연 탠덤 태양전지의 하부셀로 유연 CIGS 박막 태양전지가 적합한 선택이 될 것으로 판단된다. 따라서 본 글에서는 CIGS 박막 태양전지를 기반으로 하는 탠덤 태양전지의 연구개발 현황에 대해서 살펴보고 향후 유연 탠덤 태양전지의 전망에 대해서도 기술하고자 한다.

Issues and Improvements in Extended Application of LID technologies (국내 LID 기법 적용확대의 문제점 및 개선방안)

  • Choi, Jong-Soo;Hyun, Kyoung-Hak;Lee, Jung-Min;Kang, Myung-Soo;Jung, Seung-Kwon
    • Proceedings of the Korea Water Resources Association Conference
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    • 2012.05a
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    • pp.242-246
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    • 2012
  • 우리나라의 경우 비점오염원에 의한 오염부하 기여도가 점차 증가하면서 '06년 관련 법규 개정을 통해 일정 규모 이상의 개발사업에 대해서는 비점오염저감시설 설치를 의무화하였으며, '11년 기준 국내에는 약 6,000여개 이상의 저감시설이 설치되었다. 해당 시설에 대한 모니터링 결과 장치형에 비해 자연형이 처리효율 및 유지관리 측면에서 유리한 것으로 보고되면서 환경부는 개발사업에 대해 저영향개발기법(LID)의 적용을 의무화하는 방안을 추진 중이다. 개발사업에 있어 LID는 토지이용기법을 통해 우수 유출과 오염원 유출을 저감하고자 하는 기법으로, 비용 및 유지관리 측면에서는 유리하나 기존 단위시설 적용기법에 비해 계획적인 요소가 강해 적용 확대 및 의무화가 용이하지 않은 한계가 있다. 따라서, 본 연구에서는 LID 적용 확대와 관련된 문제점을 분석하고 적용 의무화를 위해 필요한 대안을 모색해 보고자 하였다. 이를 위해 해당 기법 자체가 가지는 한계와 제도적인 문제점을 분석하였으며, LID 기법의 확대 적용을 위해 필요한 대안을 제안하였다. 분석 결과, LID 기법은 기존 장치형 시설에 비해 계획기법의 측면이 커 기술개발이 어려울 뿐만 아니라, 저감시설의 적용여부에 대한 검증도 곤란한 것으로 분석되었다. 또한, 처리효율 계량화가 어려워 오염총량제와 연계된 오염부하 삭감효과 인정이 곤란해 확대 적용에 한계가 있는 것으로 나타났다. 상기의 분석결과에 근거할 때, LID 기법의 확대 적용은 국내의 제도적 여건 및 LID 기법 자체의 한계를 감안하여 단계적으로 추진되어야 할 것으로 판단되며, 조속한 확대 시행을 위해서는 다음의 방안 마련을 제안한다. 첫째, 적용 여부에 대한 판단이 모호한 단점을 보완하기 위해 적정 적용여부를 심의할 수 있는 인증제도 도입을 제안한다. 이 제도는 친환경건축물인증제도 등 기존 유사 제도에 항목을 추가하는 방법과 별도의 제도를 신설하는 방법이 가능할 것이다. 둘째, 처리효율 정량화를 위해 기존 농도 위주의 처리효율 개념을 벗어나 유량 개념의 처리효율 산정이 필요하다. 즉, 처리용량 범위내에서 외부에 유출없이 우수저류 및 침투가 가능한 경우 전량 처리되는 것으로 간주하는 방식이다. 연구결과로 제안한 LID 기법 적용에 대한 인증제도 마련과 유량개념의 처리효율 산정방안이 도입된다면, 보다 조속한 시일내 LID 기법의 확대 적용이 가능할 것이다.

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