• Title/Summary/Keyword: 유기발광다이오드

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Effect on the Electrical Characteristics of OLEDs Depending on Amorphous Fluoropolymer (유기발광다이오드의 전기적 특성에 미치는 Teflon-AF의 영향)

  • Shim, Sang-Min;Han, Hyun-Suk;Kang, Yong-Gil;Kim, Weon-Jong;Hong, Jin-Woong
    • Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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    • v.24 no.9
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    • pp.750-754
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    • 2011
  • In this research, the electric characteristic of organic light-emitting diodes(OLEDs) was studied depending on thickness of amorphous fluoropolymer(Teflon-AF) which is the material of hole injection layer to improve electric characteristic of OLEDs. Sample composition was fabricated in double layer. The basic structure was fabricated by ITO/tris(8-hydroxyquinoline) aluminum (Alq3)/Al and the 2 layer was fabricated by ITO/2,2-Bistrifluoromethyl-4,5-Difluoro-1,3-Dioxole(Teflon-AF)/tris(8-hydro xyquinoline) aluminum (Alq3)/Al. The experiment was carried with variation of thickness of Teflon-AF at 1.0, 2.0, 2.5, 3.0 nm. The result showed when Teflon-AF thickness was 2.5 nm, the electric and optical characteristic were well performed. Moreover, when it was compared with Teflon-AF without materials, it was improved 15.1 times more on luminance, 12.7 times more on luminous efficiency and 12.1 times more on external quantum efficiency. Therefore, OLEDs element with optimum hole injection layer reduced energy barrier and driving voltage, and confirmed that it improved efficiency widely.

Characteristics of flexible IZO/Ag/IZO anode on PC substrate for flexible organic light emitting diodes (PC 기판위에 성막한 IZO/Ag/IZO 박막의 특성과 이를 이용하여 제작한 플렉시블 유기발광다이오드의 특성 분석)

  • Cho, Sung-Woo;Jeong, Jin-A;Bae, Jung-Hyeok;Moon, Jong-Min;Choi, Kwang-Hyuk;Kim, Han-Ki
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2007.06a
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    • pp.381-382
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    • 2007
  • IZO/Ag/IZO (IAI) anode films for flexible organic light emitting diodes (OLEDs) were grown on PC (polycarbonate) substrate using DC sputter (IZO) and thermal evaporator (Ag) systems as a function of Ag thickness. To investigate electrical and optical properties of IAI stacked films, 4-point probe and UV/Vis spectrometer were used, respectively. From a IAI stacked film with 12nm-thick Ag, sheet resistance of $6.9\;{\Omega}/{\square}$ and transmittance of above 82 % at a range of 500-550 nm wavelength were obtained. In addition, structural and surface properties of IAI stacked films were analyzed by XRD (X-ray diffraction) and SEM (scanning electron microscopy), respectively. Moreover, IAI stacked films showed dramatically improved mechanical properties when subjected to bending both as a function of number of cycles to a fixed radius. Finally, OLEDs fabricated on both flexible IAI stacked anode and conventional ITO/Glass were fabricated and, J-V-L characteristics of those OLEDs were compared by Keithley 2400.

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Characteristics by deposition and heat treatment of Cr and Al thin film on stainless steel (금속 기판위에 Cr과 Al 증착 및 열처리 융합 기술에 의한 표면 형상 변화)

  • Kim, Kyoung-Bo;Lee, Jongpil;Kim, Moojin
    • Journal of Convergence for Information Technology
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    • v.11 no.3
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    • pp.167-173
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    • 2021
  • There is an increasing interest in manufacturing various electronic devices on a bendable substrate. In this paper, we observed a surface morphology by annealing for 20 minutes at temperatures of 150 ℃, 350 ℃, and 550 ℃, respectively, with samples coated by chromium and aluminum. Data on surfaces are investigated using high-resolution SEM and AFM that can measure roughness up to nm. There is no difference from the sample without heat treatment up to 350 ℃, but the change of crystal grains can be observed at 550 ℃. In the future, for application to the flexible optoelectronic field, additional characteristics such as electrical conductivity and reflectivity will be analyzed and optical devices will be manufactured. In conclusion, we will explore the possibility of applying metal materials to flexible electronic devices.

A study on the Risks of Using Filtration Facilities at the Organic Light Emitting Diode(OLED) and Its Preventive Measures (유기발광다이오드(OLED) 소재 제조 현장 여과 설비사용 위험성 및 개선 방안 연구)

  • Jong-Ku Kwak;Chankyu Kang
    • Journal of the Korean Institute of Gas
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    • v.27 no.4
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    • pp.1-11
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    • 2023
  • The size of the OLED material market is expected to grow from $1.1 billion in 2019 to $2.3 billion in 2023, with an average annual sustainable growth of more than 19%. Among the facilities mainly used by OLED material manufacturers, accidents such as fire, explosion, and leakage frequently occur when using filtration equipment, so it is necessary to improve the risk when using filtration equipment. In this study, it was divided into four main processes, namely, assembly and disassembly process, filtration process, wet cake recovery process, and washing process in order to derive the risks associated with the use of filtration equipment. Hazard factors were derived by conducting accident case investigations, preliminary interviews, and surveys. For the analysis of questionnaire results, statistical analysis such as frequency analysis and Pearson chi-square test analysis was performed using SPSS 21, and risk improvement measures were suggested using the analyzed results. It is expected that this study will serve as a basis for dealing with safety and risk factors that may occur as the size of the OLED market expands.

The Study of Hole Injection Characteristics in Solution-Processed Copper (I) Thiocyanate (CuSCN) Film (용액 공정 처리된 구리(I) 티오시아네이트(CuSCN) 필름의 정공 주입 특성 연구)

  • Eun-Jeong Jang;Baeksang Sung;Sungmin Kwon;Yoonseuk Choi;Jonghee Lee;Jae-Hyun Lee
    • Applied Chemistry for Engineering
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    • v.35 no.1
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    • pp.61-65
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    • 2024
  • The effectiveness of CuSCN as a hole injection layer in large-area organic light-emitting diodes, organic solar cells, and thin-film transistors has been well demonstrated. Therefore, in this study, the surface, optical, and electrical analyses of CuSCN were carried out according to the solution process conditions in order to propose optimized film conditions. Various CuSCN solution concentrations were prepared to determine the film surface characteristics and to determine whether the film surface affects the electrical performance of the device. When the CuSCN solution concentration was low, the CuSCN film was not formed and coated in the form of islands, and when the solution concentration was increased, the CuSCN film was formed uniformly, which contributed to improving the conductivity of the device. In addition, a hole-only device was fabricated to demonstrate the role of CuSCN as a hole transport layer.

그래핀-탄소나노튜브 복합체로 제작한 유연성 투명 전도막의 반복 변형에 대한 내구성 향상

  • Lee, Byeong-Ju;Jeong, Gu-Hwan
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2012.02a
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    • pp.202-202
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    • 2012
  • 유연성 투명 전도막은 현대 전자산업의 발전에 있어 필수적인 부품소재로서, 가시광선의 투과율이 80% 이상이고 면저항이 $100{\Omega}/sq.$ 전후이며 휘거나 접히고 나아가 두루마리의 형태로도 응용이 가능한 소재를 일컫는다. 이러한 유연성 투명 전도막은 차세대 정보디스플레이 산업 및 유비쿼터스 사회의 중심이 되는 유연성 디스플레이, 터치패널, 발광다이오드, 태양전지 등 매우 다양한 분야에 응용이 기대된다. 이러한 이유로 고 신뢰성 유연성 투명 전도막 개발기술은 차세대 산업에 있어서의 핵심기술로 인식되고 있다. 현재로서는 인듐 주석 산화물(indium tin oxide; ITO) 및 전도성 유기고분자를 사용하여 투명 전도막을 제조하고 있으나, ITO 박막의 경우 인듐 자원의 고갈로 인한 가격상승 및 기판과의 낮은 접착력, 열팽창계수의 차이로 인한 공정상의 문제, 산화물 특유의 취성으로 인한 유연소자로서의 내구성 저하 등의 문제가 제기되고 있다. 전도성 유기고분자의 경우는 낮은 전기전도도와 기계적강도, 유기용매 처리 등의 문제점이 지적되고 있다. 따라서 높은 전기전도도와 투광도 뿐만 아니라 유연성을 지니는 재료의 개발이 요구되고 있는 실정이다. 최근 이러한 재료로서 그래핀(graphene)과 탄소나노튜브(carbon nanotube; CNT)를 중심으로 하는 탄소나노재료가 주목받고 있으며 많은 연구가 활발히 진행되고 있다. 본 연구에서는 열화학기상증착법(thermal vapor deposition; TCVD)으로 합성된 그래핀 및 CNT를 이용하여 탄소나노재료 복합체 기반의 유연성 투명 전도막을 제작하고 그 특성을 평가하였다. 그래핀과 CNT합성을 위한 기판으로는 각각 300 nm 두께의 니켈과 1 nm 철이 증착된 실리콘 웨이퍼를 이용하였으며, 원료가스로는 메탄(CH4)과 아세틸렌(C2H2)등의 탄화수소가스를 이용하였다. 그래핀의 경우 원료가스의 유량, 합성온도, 냉각속도를 변경하여 대면적으로 두께균일도가 높은 그래핀을 합성하였으며, CNT의 경우 합성시간을 변수로 길이 제어합성을 도모하였다. 합성된 그래핀은 식각공정을, CNT는 스프레이 증착공정을 통해 고분자 기판(polyethylene terephthalate; PET) 위에 순차적으로 전사 및 증착하여 탄소나노재료 복합체 기반의 유연성 투명 전도막을 제작하였다. 제작된 탄소나노재료 복합체 기반의 유연성 투명 전도막은 물리적 과부하를 받았을 때 발생할 수 있는 유연성 투명 전도막의 구조적결함에 기인하는 전도성 저하를 보상하는 특징이 있어, 그래핀과 탄소나노튜브 각각으로 제조된 유연성 투명 전도막보다 물리적인 하중이 반복적으로 인가되었을 때 내구성이 향상되는 효과가 있다. 40% 스트레인을 반복적으로 인가하였을 때 그래핀 투명 전도막은 20 사이클 이후에 면저항이 $1-2{\Omega}/sq.$에서 $15{\Omega}/sq.$ 이상으로 급증한 반면 그래핀-CNT 복합체 투명 전도막은 30사이클까지 $1-2{\Omega}/sq.$ 정도의 면저항을 유지하였다.

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용액 공정을 이용한 High-k 게이트 절연막을 갖는 고성능 InGaZnO Thin Film Transistors의 전기적 특성 평가

  • So, Jun-Hwan;Park, Seong-Pyo;Lee, In-Gyu;Lee, Gi-Hun;Sin, Geon-Jo;Lee, Se-Won;Jo, Won-Ju
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2012.08a
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    • pp.339-339
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    • 2012
  • 지난 몇 년 동안, 투명 비정질 산화물 반도체는 유기 발광 다이오드, 플렉서블 전자 소자, 솔라 셀, 바이오 센서 등 많은 응용분야에 연구되고 있다. 투명 비정질 산화물 반도체 그룹들 중, 특히 비정질 IGZO 박막 트랜지스터는 비정질 상태임에도 불구하고 높은 이동도와 낮은 동작 전압으로 훌륭한 소자 특성을 보인다. 이러한 고성능의 IGZO 박막 트랜지스터는 RF 마그네트론 스퍼터링이나 pulsed laser deposition과 같은 고진공 장비를 이용하여 이미 여러 그룹에서 제작되고 발표되었다. 하지만 진공 증착 시스템은 제조 비용의 절감이나 디스플레이 패널의 대면적화에 큰 걸림돌이 되고 있고, 이러한 문제점을 극복하기 위해서 용액 공정은 하나의 해결책이 될 수 있다. 용액 공정의 가장 큰 장점으로는 저온 공정이 가능하기 때문에 글라스나 플라스틱 기판에서 대면적으로 제작할 수 있고 진공 장비가 필요없기 때문에 제조 비용을 획기적으로 절감시킬 수 있다. 본 연구에서는 high-k 게이트 절연막과 IGZO 채널 층을 용액 공정을 이용하여 박막 트랜지스터를 제작하고 그에 따른 전기적 특성을 분석하였다. IGZO의 몰 비율은 In, Ga, Zn 순으로 각각 0.2 mol, 0.1 mol, 0.1 mol로 제작하였고, high-k 게이트 절연막으로는 Al2O3, HfO2, ZrO2을 제작하였다. 또한, 용액 공정 IGZO TFT를 제작하기 전, 용액 공정 high-k 게이트 절연막 캐패시터를 제작하여 그 특성을 분석하였다. 다양한 용액 공정 high-k 게이트 절연막 중, 용액공정 HfO2를 이용한 IGZO TFT는 228.3 [mV/dec]의 subthreshold swing, 18.5 [$cm^2/V{\cdot}s$]의 유효 전계 이동도, $4.73{\times}106$의 온/오프 비율을 보여 매우 뛰어난 전기적 특성을 확인하였다.

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유도 결합 플라즈마를 이용한 ITO박막의 특성 연구

  • Wi, Jae-Hyeong;U, Jong-Chang;Eom, Du-Seung;Yang, Seol;Ju, Yeong-Hui;Park, Jeong-Su;Heo, Gyeong-Mu;Kim, Chang-Il
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2009.11a
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    • pp.209-209
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    • 2009
  • ITO 박막은 박막 태양전지, 유기 태양전지뿐만 아니라 유연한 디스플레이, 발광다이오드와 같은 광학적 장치에 투명한 전극으로써 널리 사용된다. 글라스나 플라스틱 기판위에 형성된 투명 전극은 식각을 통하여 전기회로를 구성한다. 또한 식각 특성을 개선할 필요가 있다. 이 연구에서 우리는 유리 기판위에 코팅된 ITO 박막을 유도결합 $BCl_3/Ar$ 플라즈마를 이용하여 식각하였다. ITO 박막은 RF 마그네트론 스퍼터링을 사용해 200 $^{\circ}C$에서 비알칼리 글라스 위에 증착하였고 ITO 박막의 총 두께는 약 250 nm 이었다. 또한 전기 전도성은 $4.483{\times}10^{-4}{\Omega}cm$, 캐리어 농도는 $3.923{\times}10^{20}cm^{-3}$이고, 홀 이동도는 $3.545{\times}10cm^{-2}/Vs$이었다. Ar 플라즈마에 $BCl_3$ 가스를 첨가시키면서 가스 비율에 따른 ITO의 식각 속도와 ITO와 PR과의 선택비를 측정하였다. 최대 식각 속도는 $BCl_3$(25%)/Ar(75%), 500 W의 RF power, -200 V의 DC-bias voltage, 그리고 2 pa의 공정압력일 때 588 nm/min이었고 선택비는 0.43으로 다소 낮게 측정되었다. 식각된 표면의 화학적 반응은 엑스선 광전자 분광법 (X-ray Photoelectron Spectroscopy)을 사용해 조사되었다. 그리고 식각된 표면의 거칠기는 원자현미경 (Atomic Force Microscopy)을 사용해 측정하였다.

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Life Estimation of Organic Light Emission Diode by Accelerated Test (유기발광(有機發光) 다이오드의 가속(加速) 수명(壽命) 시험(試驗)에 관한 연구(硏究))

  • Choi, Young-Tei;Cho, Jai-Rip
    • Proceedings of the Korean Society for Quality Management Conference
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    • 2010.04a
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    • pp.262-268
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    • 2010
  • Organic light emitting diode is developed fast from 1963 after discovering electric light emitting phenomenon. First PMOLED(passive matrix OLED) product is manufactured and AMOLED(active matrix OLED) using TFT(thin film ransistor) is now in the center. PMOLED is mainly mounted at sub display. but AMOLED is mounted at main display. Also AMOLED expand the market to PMP(portable multimedia players), navigation and TV. Even thought OLED's market is opening to many applications, OLED is worried about lifetime until now. That's appeared in market in a very short time and is not known well about result of OLED's lifetime and reliability test. And there is no standard ssessment method and not enough study to standardization the method. A study's purpose is reduce the time for life test by accelerated current and it can do production possible design by accelerated life model in design phase. It's must be add to process variables and design variables(like ratio of light emitting, organic material structure, condition of aging, etc) to make the best use of supplied accelerated lifetime model in this paper. In terms of lifetime it needs each criterion of applications because of image sticking. In conclusion, it's possible to discover new defect because there is not much time to be opened in market and develop a method of manufacturing process & materials, so we need to study on the subject of this paper continuously.

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A Threshold-voltage Sensing Circuit using Single-ended SAR ADC for AMOLED Pixel (단일 입력 SAR ADC를 이용한 AMOLED 픽셀 문턱 전압 감지 회로)

  • Son, Jisu;Jang, Young-Chan
    • Journal of IKEEE
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    • v.24 no.3
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    • pp.719-726
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    • 2020
  • A threshold-voltage sensing circuit is proposed to compensate for pixel aging in active matrix organic light-emitting diodes. The proposed threshold-voltage sensing circuit consists of sample-hold (S/H) circuits and a single-ended successive approximation register (SAR) analog-to-digital converter (ADC) with a resolution of 10 bits. To remove a scale down converter of each S/H circuit and a voltage gain amplifier with a signl-to-differentail converter, the middle reference voltage calibration and input range calibration for the single-ended SAR ADC are performed in the capacitor digital-to-analog converter and reference driver. The proposed threshold-voltage sensing circuit is designed by using a 180-nm CMOS process with a supply voltage of 1.8 V. The ENOB and power consimption of the single-ended SAR ADC are 9.425 bit and 2.83 mW, respectively.